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1-Fluor-1,3-cyclopentadien | 105955-56-4

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
1-Fluor-1,3-cyclopentadien
英文别名
2-fluorocyclopentadiene;fluorocyclopentadiene;1-Fluorocyclopenta-1,3-diene
1-Fluor-1,3-cyclopentadien化学式
CAS
105955-56-4
化学式
C5H5F
mdl
——
分子量
84.0931
InChiKey
BKCDSYUMWOBEJI-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
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  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    1.7
  • 重原子数:
    6
  • 可旋转键数:
    0
  • 环数:
    1.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.2
  • 拓扑面积:
    0
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    1

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    1-Fluor-1,3-cyclopentadiensodium 作用下, 以 四氢呋喃 为溶剂, 反应 4.0h, 生成 fluorocyclopentadienyl sodium
    参考文献:
    名称:
    Ruthenium compound and process for producing a metal ruthenium film
    摘要:
    一种钌化合物可用于制备高质量的膜状金属钌,以及通过化学气相沉积从该钌化合物生产金属钌膜的方法。作为化学气相沉积材料的钌化合物可用以下公式(1)表示,例如。
    公开号:
    US20060240190A1
  • 作为产物:
    描述:
    1,3-cyclopentadienyl-1-ol2,2-二氟-1,3-二甲基咪唑烷 作用下, 以 甲苯 为溶剂, 反应 9.0h, 以40%的产率得到1-Fluor-1,3-cyclopentadien
    参考文献:
    名称:
    Ruthenium compound and process for producing a metal ruthenium film
    摘要:
    一种钌化合物可用于制备高质量的膜状金属钌,以及通过化学气相沉积从该钌化合物生产金属钌膜的方法。作为化学气相沉积材料的钌化合物可用以下公式(1)表示,例如。
    公开号:
    US20060240190A1
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文献信息

  • The thermal deazetations of fluorinated 2,3-diazabicyclo[3.2.0]hept-2-enes
    作者:William R. Dolbier、Dheya M. Al-Fekri
    DOI:10.1016/s0040-4020(01)89928-2
    日期:1987.1
    Thermal deazetation of difluoro- and tetrafluoro-2,3-diazabicyclo[3.2.0]hept-2-enes proceed via two parallel mechanistic pathways, one involving formation of a diradical via simple N2 loss, and the other proceeding via a retro-dipolar cycloaddition process. A key finding was the absence of isolation of a bicyclopentane product in the difluoro case.
    二氟和四氟-2,3-二氮杂双环[3.2.0]庚-2-烯的热脱氮反应通过两种平行的机理途径进行,一种途径涉及通过简单的N 2损失形成双自由基,另一种途径通过逆向反应进行。偶极环加成过程。一个关键发现是在二氟情况下没有分离出双环戊烷产物。
  • Roth, Wolfgang R.; Kirmse, Wolfgang; Hoffmann, Wilfried, Chemische Berichte, 1982, vol. 115, # 7, p. 2508 - 2515
    作者:Roth, Wolfgang R.、Kirmse, Wolfgang、Hoffmann, Wilfried、Lennartz, Hans-Werner
    DOI:——
    日期:——
  • Ruthenium compound and process for producing a metal ruthenium film
    申请人:Sakai Tatsuya
    公开号:US20060240190A1
    公开(公告)日:2006-10-26
    A ruthenium compound from which high-quality film-like metal ruthenium can be obtained and a process for producing a metal ruthenium film from the ruthenium compound by chemical vapor deposition. The ruthenium compound as a material for chemical vapor deposition is represented by the following formula (1), for example.
    一种钌化合物可用于制备高质量的膜状金属钌,以及通过化学气相沉积从该钌化合物生产金属钌膜的方法。作为化学气相沉积材料的钌化合物可用以下公式(1)表示,例如。
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