[EN] POLYMERS USEFUL IN PHOTORESIST COMPOSITIONS AND COMPOSITIONS THEREOF<br/>[FR] POLYMÈRES UTILES DANS DES COMPOSITIONS DE PHOTORÉSIST ET COMPOSITIONS LES COMPRENANT
申请人:AZ ELECTRONIC MATERIAL USA COR
公开号:WO2008087549A1
公开(公告)日:2008-07-24
[EN] The present application relates to a polymer having the formula (I) where R30, R31, R32, R33, R40, R41, R42, jj, kk, mm, and nn are described herein. The compounds are useful in forming photoresist compositions.
[FR] Le présent brevet concerne un polymère de formule (I) où R30, R31, R32, R33, R40, R41, R42, jj, kk, mm et nn sont décrits ici. Les composés sont utiles pour former des compositions de photorésist.