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N-溴-2,3-二氯马来 | 16176-11-7

中文名称
N-溴-2,3-二氯马来
中文别名
N-溴甲基-2,3-二氯马来酰亚胺
英文名称
N-Brommethyl-dichlormaleimid
英文别名
N-Brommethyl-dichlormaleinimid;1-bromomethyl-3,4-dichloro-pyrrole-2,5-dione;N-Bromomethyl-2,3-dichloromaleimide;1-(bromomethyl)-3,4-dichloropyrrole-2,5-dione
N-溴-2,3-二氯马来化学式
CAS
16176-11-7
化学式
C5H2BrCl2NO2
mdl
——
分子量
258.886
InChiKey
GQMLTDXARRCATE-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

物化性质

  • 熔点:
    118 °C
  • 沸点:
    263.7±40.0 °C(Predicted)
  • 密度:
    2.09±0.1 g/cm3(Predicted)

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    2
  • 重原子数:
    11
  • 可旋转键数:
    1
  • 环数:
    1.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.2
  • 拓扑面积:
    37.4
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    2

安全信息

  • 安全说明:
    S26,S36/37/39
  • 危险类别码:
    R34
  • 海关编码:
    2925190090

文献信息

  • POLISHING COMPOSITION AND POLISHING METHOD USING THE SAME
    申请人:FUJIMI INCORPORATED
    公开号:EP2237311A1
    公开(公告)日:2010-10-06
    A polishing composition according to a first aspect of the present invention contains a nitrogen-containing compound and abrasive grains, and the pH of the composition is in the range of 1 to 7. The nitrogen-containing compound in the polishing composition preferably has a structure expressed by a formula: R1-N(-R2)-R3 in which R1, R2, and R3 each represent an alkyl group with or without a characteristic group, two of R1 to R3 may form a part of a heterocycle, and two of R1 to R3 may be identical and form a part of a heterocycle with the remaining one, Alternatively, the nitrogen-containing compound is preferably selected from a group consisting of a carboxybetaine type ampholytic surfactant, a sulfobetaine type ampholytic surfactant, an imidazoline type ampholytic surfactant, and an amine oxide type ampholytic surfactant. A polishing composition according to a second aspect of the present invention contains a water-soluble polymer and abrasive grains, and the pH of the composition is in the range of 1 to 8.
    根据本发明第一方面的抛光组合物含有含氮化合物和磨粒,组合物的 pH 值在 1 至 7 之间。抛光组合物中的含氮化合物最好具有由式表示的结构:R1-N(-R2)-R3,其中 R1、R2 和 R3 各代表一个带或不带特征基团的烷基,R1 至 R3 中的两个可构成杂环的一部分,R1 至 R3 中的两个可相同并与其余一个构成杂环的一部分,或者,R1 至 R3 中的两个可相同并与其余一个构成杂环的一部分,或者,R1 至 R3 中的两个可相同并与其余一个构成杂环的一部分、含氮化合物最好选自由羧基甜菜碱型两性表面活性剂、磺基甜菜碱型两性表面活性剂、咪唑啉型两性表面活性剂和氧化胺型两性表面活性剂组成的组。根据本发明第二方面的抛光组合物含有水溶性聚合物和磨粒,组合物的 pH 值在 1 至 8 之间。
  • NANOFUNCTIONAL SILICA PARTICLES AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
    申请人:The University of Tokushima
    公开号:EP2233437A1
    公开(公告)日:2010-09-29
    Provided are nanofunctional silica particles having excellent functionality and quality, and capable of being mass-produced at low costs. According to the present invention, there are provided nanofunctional silica particles including a coating layer containing one or more silica compounds selected from the group consisting of mercaptopropyl trimethoxysilane (MPS), mercaptopropyl triethoxysilane (MPES), mercaptopropyl methyldimethoxysilane (MPDMS), trimethoxy[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]-hept-3-yl)ethyl]silane (EpoPS), thiocyanatopropyl triethoxysilane (TCPS), acryloxypropyl trimethoxysilane (ACPS), and aminopropyl trimethoxysilane (APS); and functional particles in the coating layer, and being used in imaging, assay, diagnosis, treatment or the like, medicine or bioresearch.
    本发明提供的纳米功能性二氧化硅颗粒具有优异的功能性和质量,并且能够以较低的成本大规模生产。根据本发明,所提供的纳米功能性二氧化硅颗粒包括一个涂层,该涂层含有一种或多种二氧化硅化合物,这些化合物选自由巯基丙基三甲氧基硅烷(MPS)、巯基丙基三乙氧基硅烷(MPES)、巯基丙基甲基二甲氧基硅烷(MPDMS)、三甲氧基[2-(7-氧杂双环[4.1.0]-庚-3-基)乙基]硅烷 (EpoPS)、硫氰酸丙基三甲氧基硅烷 (TCPS)、丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷 (ACPS) 和氨基丙基三甲氧基硅烷 (APS);以及包衣层中的功能性微粒,可用于成像、检测、诊断、治疗或类似用途、医药或生物研究。
  • COLOR COMPOSITION FOR SOLID-STATE IMAGING ELEMENT
    申请人:Toppan Printing Co., Ltd.
    公开号:EP3605160A1
    公开(公告)日:2020-02-05
    Provided are a photosensitive green composition for a color filter of a solid-state imaging element that can form a pixel having a cross-sectional shape excellent in verticality, an excellent adhesion property and little residue without pattern chipping due to peel-off development, and a color filter for a solid-state imaging element and a solid-state imaging element using the same. The above problem is solved by a photosensitive green composition for a color filter of a solid-state imaging element, containing a colorant (A), a binder resin (B), a photopolymerization initiator (C), a photopolymerizable monomer (D), an ultraviolet absorber (E), and a monofunctional thiol (F), wherein the colorant (A) contains C.I. Pigment Green 36 and/or C.I. Pigment Green 58.
    本发明提供了一种用于固态成像元件彩色滤光片的感光绿色组合物,该组合物可形成横截面形状垂直度极佳、粘附性极佳、残留物少且不会因剥离显影而导致图案崩裂的像素,以及一种用于固态成像元件的彩色滤光片和使用该组合物的固态成像元件。 用于固态成像元件彩色滤光片的感光绿色组合物解决了上述问题,该组合物包含着色剂(A)、粘合剂树脂(B)、光聚合引发剂(C)、可光聚合单体(D)、紫外线吸收剂(E)和单官能硫醇(F),其中着色剂(A)包含 C.I. 颜料绿 36 和/或 C.I. 颜料绿 58。
  • CHLOROPRENE RUBBER COMPOSITION AND VULCANIZATION MOLDED BODY
    申请人:Denka Company Limited
    公开号:EP3862389A1
    公开(公告)日:2021-08-11
    A chloroprene rubber composition containing 100 parts by mass of a chloroprene-based rubber, 0.5 to 5.0 parts by mass of a sulfur-based compound represented by General Formula (1) below, and more than 0 parts by mass and 2.0 parts by mass or less of a xanthogen disulfide compound represented by General Formula (2) below. [In the formula, R1 represents a hydrogen atom, a hydroxyl group, or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and R2 and R3 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms.] [In the formula, R4 and R5 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms.]
    一种氯丁二烯橡胶组合物,含有按质量计 100 份氯丁二烯基橡胶、按质量计 0.5 至 5.0 份由以下通式(1)代表的硫基化合物,以及按质量计 0 份以上和 2.0 份或更少的由以下通式(2)代表的二硫化黄原化合物。 [式中,R1 代表氢原子、羟基或具有 1 至 8 个碳原子的烷基,R2 和 R3 各自独立地代表氢原子或具有 1 至 8 个碳原子的烷基。] [式中,R4 和 R5 各自独立地代表氢原子或具有 1 至 8 个碳原子的烷基。]
  • Polishing composition and polishing method using the same
    申请人:Mizuno Takahiro
    公开号:US10144849B2
    公开(公告)日:2018-12-04
    A polishing composition contains a nitrogen-containing compound and abrasive grains, and the pH of the composition is in the range of 1 to 7. The nitrogen-containing compound in the polishing composition preferably has a structure expressed by a formula: R1—N(—R2)—R3 in which R1, R2, and R3 each represent an alkyl group with or without a characteristic group, two of R1 to R3 may form a part of a heterocycle, and two of R1 to R3 may be identical and form a part of a heterocycle with the remaining one. Alternatively, the nitrogen-containing compound is preferably selected from a group consisting of a carboxybetaine type ampholytic surfactant, a sulfobetaine type ampholytic surfactant, an imidazoline type ampholytic surfactant, and an amine oxide type ampholytic surfactant. A polishing composition may contain a water-soluble polymer and abrasive grains, and the pH of the composition is in the range of 1 to 8.
    一种抛光组合物含有一种含氮化合物和磨粒,组合物的 pH 值在 1 至 7 之间。抛光组合物中的含氮化合物最好具有由式表示的结构:R1-N(-R2)-R3,其中 R1、R2 和 R3 各代表一个带或不带特征基团的烷基,R1 至 R3 中的两个可构成杂环的一部分,R1 至 R3 中的两个可相同并与其余一个构成杂环的一部分。另外,含氮化合物最好选自羧基甜菜碱型两性表面活性剂、磺基甜菜碱型两性表面活性剂、咪唑啉型两性表面活性剂和氧化胺型两性表面活性剂组成的组。抛光组合物可包含水溶性聚合物和磨粒,组合物的 pH 值范围为 1 至 8。
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表征谱图

  • 氢谱
    1HNMR
  • 质谱
    MS
  • 碳谱
    13CNMR
  • 红外
    IR
  • 拉曼
    Raman
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mass
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ir
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  • 峰位数据
  • 峰位匹配
  • 表征信息
Shift(ppm)
Intensity
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Assign
Shift(ppm)
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测试频率
样品用量
溶剂
溶剂用量
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同类化合物

(N-(2-甲基丙-2-烯-1-基)乙烷-1,2-二胺) (4-(苄氧基)-2-(哌啶-1-基)吡啶咪丁-5-基)硼酸 (11-巯基十一烷基)-,,-三甲基溴化铵 鼠立死 鹿花菌素 鲸蜡醇硫酸酯DEA盐 鲸蜡硬脂基二甲基氯化铵 鲸蜡基胺氢氟酸盐 鲸蜡基二甲胺盐酸盐 高苯丙氨醇 高箱鲀毒素 高氯酸5-(二甲氨基)-1-({(E)-[4-(二甲氨基)苯基]甲亚基}氨基)-2-甲基吡啶正离子 高氯酸2-氯-1-({(E)-[4-(二甲氨基)苯基]甲亚基}氨基)-6-甲基吡啶正离子 高氯酸2-(丙烯酰基氧基)-N,N,N-三甲基乙铵 马诺地尔 马来酸氢十八烷酯 马来酸噻吗洛尔EP杂质C 马来酸噻吗洛尔 马来酸倍他司汀 顺式环己烷-1,3-二胺盐酸盐 顺式氯化锆二乙腈 顺式吡咯烷-3,4-二醇盐酸盐 顺式双(3-甲氧基丙腈)二氯铂(II) 顺式3,4-二氟吡咯烷盐酸盐 顺式1-甲基环丙烷1,2-二腈 顺式-二氯-反式-二乙酸-氨-环己胺合铂 顺式-二抗坏血酸(外消旋-1,2-二氨基环己烷)铂(II)水合物 顺式-N,2-二甲基环己胺 顺式-4-甲氧基-环己胺盐酸盐 顺式-4-环己烯-1.2-二胺 顺式-4-氨基-2,2,2-三氟乙酸环己酯 顺式-2-甲基环己胺 顺式-2-(苯基氨基)环己醇 顺式-2-(氨基甲基)-1-苯基环丙烷羧酸盐酸盐 顺式-1,3-二氨基环戊烷 顺式-1,2-环戊烷二胺 顺式-1,2-环丁腈 顺式-1,2-双氨甲基环己烷 顺式--N,N'-二甲基-1,2-环己二胺 顺式-(R,S)-1,2-二氨基环己烷铂硫酸盐 顺式-(2-氨基-环戊基)-甲醇 顺-2-戊烯腈 顺-1,3-环己烷二胺 顺-1,3-双(氨甲基)环己烷 顺,顺-丙二腈 非那唑啉 靛酚钠盐 靛酚 霜霉威盐酸盐 霜脲氰