sec-butylpentafluorobenzene | 96297-53-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: sec-butylpentafluorobenzene
• 英文别名: 1-butan-2-yl-2,3,4,5,6-pentafluorobenzene
• CAS: 96297-53-9
• 化学式: C₁₀H₉F₅
• 分子量: 224.173
• InChiKey: NMGUVVVYAYZTCN-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.1
• 重原子数：
  15
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.4
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  5

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  sec-butylpentafluorobenzene 生成 (+/-)-4-sec-butyl-2,3,5,6-tetrafluorophenylhydrazine
  参考文献：
  名称：

  N-Phenylpyrazole derivatives

  摘要：

  N-苯基吡唑衍生物的化学式为：（其中R.sup.5和R.sup.6分别代表C.sub.1-C.sub.4烷基或烷氧基基团，三氟甲基，三氟甲氧基，硝基，氰基或一级氨基基团，或者氟，氯或溴原子，R.sup.7，R.sup.8和R.sup.9分别代表氢原子，C.sub.1-C.sub.4烷基或烷氧基基团，三氟甲基，三氟甲氧基，硝基，氰基或一级氨基基团，或者氟，氯或溴原子，或者R.sup.5，R.sup.7，R.sup.8和R.sup.9分别代表氢原子，R.sup.6代表三氟甲氧基或三氟甲基基团，R.sup.10代表氰基或取代的氨基甲酰基团--CONHR.sup.11，其中R.sup.11代表甲基或乙基基团）已被发现具有有用的除草特性。除了5-氨基-4-氰基-1-（2,4-二氯苯基）吡唑和5-氨基-4-氰基-1-（4-氯-2-甲基苯基）吡唑之外，所有这些N-苯基吡唑衍生物都是新化合物。描述了含有这些N-苯基吡唑衍生物的除草剂组合物以及制备新化合物的方法。

  公开号：

  US04496390A1
• 作为产物：
  描述：

  仲丁基锂 、 六氟苯 、 Acetone cardice 在 水 、 盐酸 、 magnesium sulfate 作用下， 以 环己烷 为溶剂， 反应 1.0h， 以to give sec-butylpentafluorobenzene (50.3 g), b.p. 162°-164° C. (760 mm)的产率得到sec-butylpentafluorobenzene
  参考文献：
  名称：

  N-Phenylpyrazole derivatives

  摘要：

  该式的N-苯基吡唑衍生物：##STR1## （其中R.sup.5和R.sup.6分别表示C.sub.1-C.sub.4烷基或烷氧基，三氟甲基，三氟甲氧基，硝基，氰基或一级氨基基团，或氟，氯或溴原子，R.sup.7，R.sup.8和R.sup.9分别表示氢原子，C.sub.1-C.sub.4烷基或烷氧基，三氟甲基，三氟甲氧基，硝基，氰基或一级氨基基团或氟，氯或溴原子，或R.sup.5，R.sup.7，R.sup.8和R.sup.9各表示氢原子，R.sup.6表示三氟甲氧基或三氟甲基基团，R.sup.10表示氰基或取代的氨基甲酰基基团--CONHR.sup.11，其中R.sup.11表示甲基或乙基基团）已被发现具有有用的除草性能。所有这些N-苯基吡唑衍生物，除了5-氨基-4-氰基-1-(2,4-二氯苯基)吡唑和5-氨基-4-氰基-1-(4-氯-2-甲基苯基)吡唑之外，都是新化合物。描述了含有这些N-苯基吡唑衍生物的除草剂组合物以及制备新化合物的过程。

  公开号：

  US04496390A1

文献信息

• PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD USING THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND COMPOUND FOR USE IN THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION
  申请人：Wada Kenji

  公开号：US20100233617A1

  公开（公告）日：2010-09-16

  A photosensitive composition includes: (A) a resin containing a repeating unit corresponding to a compound represented by the following formula (I); the resin being capable of producing an acid group upon irradiation with an actinic ray or radiation: Z-A-X—B—R   (I) wherein Z represents a group capable of becoming an acid group resulting from leaving of a cation upon irradiation with an actinic ray or radiation; A represents an alkylene group; X represents a single bond or a heteroatom-containing divalent linking group; B represents a single bond, an oxygen atom or —N(Rx)-; Rx represents a hydrogen atom or a monovalent organic group; R represents a monovalent organic group substituted by Y; when B represents —N(Rx)-, R and Rx may combine with each other to form a ring; and Y represents a polymerizable group.

  一种感光组合物包括：（A）含有与下式（I）所表示的化合物对应的重复单元的树脂；该树脂能够在受到光敏射线或辐射照射后产生酸基团：Z-A-X—B—R   （I）其中Z代表一个能够在受到光敏射线或辐射照射后由阳离子离去而形成酸基团的基团；A代表一个烷基基团；X代表一个单键或含杂原子的二价连接基团；B代表一个单键、一个氧原子或—N（Rx）-；Rx代表一个氢原子或一个一价有机基团；R代表一个通过Y取代的一价有机基团；当B代表—N（Rx）-时，R和Rx可以结合在一起形成一个环；Y代表一个可聚合的基团。
• 5-Acylamino-4-cyano-1-phenylpyrazole derivatives and use as herbicides
  申请人：May & Baker Limited

  公开号：US04459150A1

  公开（公告）日：1984-07-10

  New acylamino-N-phenylpyrazole derivatives of the formula: ##STR1## [wherein R.sup.1 represents R.sup.8 C(.dbd.O)--(wherein R.sup.8 represents H, C.sub.1-7 alkyl or C.sub.1-4 alkoxy optionally substituted by C.sub.1-4 alkoxy, C.sub.2-5 alkoxycarbonyl or halogen, C.sub.3-4 alkenyloxy, C.sub.3-6 cycloalkyl optionally substituted by CH.sub.3 or C.sub.2 H.sub.5, or phenoxy, R.sup.2 represents H or R.sup.8 C(.dbd.O)--, or R.sup.1 and R.sup.2 together represent --CO--(CR.sup.a R.sup.b).sub.m --CO--, R.sup.3 represents F, Cl, Br, C.sub.1-4 alkyl optionally substituted by halogen, or C.sub.2-4 alkenyl, R.sup.4 represents F, Cl, Br, NO.sub.2, CH.sub.3 or C.sub.2 H.sub.5 and R.sup.5, R.sup.6 and R.sup.7 represent H, F, Cl, Br, NO.sub.2, CH.sub.3 or C.sub.2 H.sub.5, or R.sup.4 and R.sup.5 each represent Cl and R.sup.3, R.sup.6 and R.sup.7 each represent H, R.sup.a and R.sup.b represent H or C.sub.1-4 alkyl, and m is 2 or 3] possess useful herbicidal properties.

  新的酰胺基-N-苯基吡唑衍生物的化学式为：##STR1## [其中 R.sup.1 代表 R.sup.8 C(.dbd.O)--（其中 R.sup.8 代表 H、C.sub.1-7 烷基或C.sub.1-4 烷氧基，可选择地被C.sub.1-4 烷氧基、C.sub.2-5 烷氧羰基或卤素取代，C.sub.3-4 烯氧基，C.sub.3-6 环烷烷基，可选择地被CH.sub.3 或C.sub.2 H.sub.5 取代，或苯氧基，R.sup.2 代表 H 或 R.sup.8 C(.dbd.O)--，或R.sup.1 和R.sup.2 共同代表--CO--(CR.sup.a R.sup.b).sub.m --CO--，R.sup.3 代表 F、Cl、Br、可选择地被卤素取代的C.sub.1-4 烷基，或C.sub.2-4 烯基，R.sup.4 代表 F、Cl、Br、NO.sub.2、CH.sub.3 或C.sub.2 H.sub.5，而 R.sup.5、R.sup.6 和 R.sup.7 代表 H、F、Cl、Br、NO.sub.2、CH.sub.3 或C.sub.2 H.sub.5，或者 R.sup.4 和 R.sup.5 各自代表 Cl，而 R.sup.3、R.sup.6 和 R.sup.7 各自代表 H，R.sup.a 和 R.sup.b 代表 H 或 C.sub.1-4 烷基，m 为 2 或 3] 具有有用的除草特性。
• PATTERN FORMING METHOD, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM, MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONIC DEVICE, ELECTRONIC DEVICE AND COMPOUND
  申请人：FUJIFILM CORPORATION

  公开号：US20160070167A1

  公开（公告）日：2016-03-10

  There is provided a pattern forming method comprising (i) a step of forming a film containing an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition containing (A) a compound represented by the specific formula, (B) a compound different from the compound (A) and capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, and (P) a resin that does not react with the acid generated from the compound (A) and is capable of decreasing the solubility for an organic solvent-containing developer by the action of the acid generated from the compound (B), (ii) a step of exposing the film, and (iii) a step of developing the exposed film by using an organic solvent-containing developer to form a negative pattern; the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition above; a resist film using the composition.

  提供了一种图案形成方法，包括（i）形成一种薄膜，其中包含一种感光树脂组成物，该组成物包含（A）一种特定化学式代表的化合物，（B）一种不同于化合物（A）的化合物，在接受光辐射后能够产生酸，并且（P）一种树脂，该树脂不会与从化合物（A）产生的酸发生反应，并且能够通过来自化合物（B）产生的酸的作用降低有机溶剂含有的显影剂的溶解度，（ii）曝光薄膜，（iii）使用有机溶剂含有的显影剂对曝光后的薄膜进行显影，形成负图案；上述感光树脂组成物；使用该组成物的抗蚀膜。
• Actinic-Ray- or Radiation-Sensitive Resin Composition, Compound and Method of Forming Pattern Using the Composition
  申请人：Yamaguchi Shuhei

  公开号：US20120237874A1

  公开（公告）日：2012-09-20

  According to one embodiment, an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition includes any of the compounds (A) of general formula (I) below that when exposed to actinic rays or radiation, generates an acid and a resin (B) whose rate of dissolution into an alkali developer is increased by the action of an acid. (The characters used in general formula (I) have the meanings mentioned in the description.)

  根据一种实施例，一种感光射线或辐射敏感的树脂组合物包括以下任何一种化合物（A），该化合物在暴露于感光射线或辐射时会产生酸和树脂（B），其溶解速度在碱性显影剂的作用下会增加。 （通式（I）中使用的字符具有描述中提到的含义。）
• PATTERN FORMING METHOD, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND RESIST FILM
  申请人：Enomoto Yuichiro

  公开号：US20120282548A1

  公开（公告）日：2012-11-08

  Provided is a pattern forming method comprising (i) a step of forming a film from an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, (ii) a step of exposing the film, and (iii) a step of developing the exposed film by using an organic solvent-containing developer, wherein the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprises (A) a resin capable of decreasing the solubility for an organic solvent-containing developer by the action of an acid, (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, (D) a solvent, and (G) a compound having at least either one of a fluorine atom and a silicon atom and having basicity or being capable of increasing the basicity by the action of an acid.

  提供的是一种形成图案的方法，包括(i)使用光致或辐射敏感树脂组成物形成薄膜的步骤，(ii)曝光薄膜的步骤，以及(iii)使用有机溶剂含有的显影剂显影曝光后的薄膜的步骤，其中光致或辐射敏感树脂组成物包括(A)一种能够通过酸的作用降低有机溶剂含有的显影剂的溶解度的树脂，(B)一种能够在光致或辐射照射下生成酸的化合物，(D)一种溶剂，以及(G)一种具有氟原子和硅原子中的至少一种，并具有碱性或能够通过酸的作用增加碱性的化合物。