Ethyl 2-[(cyclopropyloxy)imino]-3-oxobutanoate | 106415-98-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 酮酸及其衍生物
• 英文名称: Ethyl 2-[(cyclopropyloxy)imino]-3-oxobutanoate
• 英文别名: ethyl 2-cyclopropyloxyimino-3-oxobutanoate
• CAS: 106415-98-9
• 化学式: C₉H₁₃NO₄
• 分子量: 199.2
• InChiKey: RCPUMMKIPCNXPA-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.4
• 重原子数：
  14
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.67
• 拓扑面积：
  65
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  5

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  Ethyl 2-[(cyclopropyloxy)imino]-3-oxobutanoate 、 Hydron;pyridin-1-ium;bromide 、 在 乙酸乙酯 、 碳酸氢钠 、 水 、 magnesium sulfate 作用下， 以 溶剂黄146 为溶剂， 反应 0.5h， 以to give ethyl 4-bromo-2-cyclopropyloxyimino-3-oxobutyrate (syn isomer)(470 mg)的产率得到Ethyl 4-bromo-2-cyclopropyloxyimino-3-oxobutyrate
  参考文献：
  名称：

  Cephem compounds and processes for preparation thereof

  摘要：

  一种化合物的式子：##STR1## 其中R.sup.1是低碳基，低脂肪酰基，芳基，芳基（低）烷基或杂环基，每个基团都可以具有适当的取代基，R.sup.2是羧基或保护羧基，R.sup.3是氢，卤素，羟基，低烷氧基，酰氧基，低硫代烷基，低烯基，低烯基硫代基，低炔基，杂环硫代基或杂环基，在其中低硫代烷基，低烯基，低烯基硫代基，杂环硫代基和杂环基可以具有适当的取代基，R.sup.4和R.sup.5分别是氢，卤素或芳基硫代基，A是低碳基亚烷基，n是0或1的整数，以及其药学上可接受的盐，其制备过程和包含其的制药组合物。

  公开号：

  US04973699A1
• 作为产物：
  描述：

  Ethyl 2-cyclopropyloxyimino-3,3-ethylenedioxybutyrate 、 三氟乙酸 在 ice 、 碳酸氢钠 、 水 、 magnesium sulfate 作用下， 以 二氯甲烷 、 乙醚 为溶剂， 反应 2.0h， 以to give ethyl 2-cyclopropyloxyimino-3-oxobutyrate (syn isomer)(382 mg) as an oil的产率得到Ethyl 2-[(cyclopropyloxy)imino]-3-oxobutanoate
  参考文献：
  名称：

  Cephem compounds and processes for preparation thereof

  摘要：

  一种化合物的式子：##STR1## 其中R.sup.1是低碳基，低脂肪酰基，芳基，芳基（低）烷基或杂环基，每个基团都可以具有适当的取代基，R.sup.2是羧基或保护羧基，R.sup.3是氢，卤素，羟基，低烷氧基，酰氧基，低硫代烷基，低烯基，低烯基硫代基，低炔基，杂环硫代基或杂环基，在其中低硫代烷基，低烯基，低烯基硫代基，杂环硫代基和杂环基可以具有适当的取代基，R.sup.4和R.sup.5分别是氢，卤素或芳基硫代基，A是低碳基亚烷基，n是0或1的整数，以及其药学上可接受的盐，其制备过程和包含其的制药组合物。

  公开号：

  US04973699A1

文献信息

• Cephem compounds
  申请人：Fujisawa Pharmaceutical Co., Ltd.

  公开号：US04861769A1

  公开（公告）日：1989-08-29

  A compound of the formula: ##STR1## wherein R.sup.1 is lower alkyl, lower alkanoyl, aryl, ar(lower)alkyl or a heterocyclic group, each of which may have suitable substituent(s), R.sup.2 is carboxy or protected carboxy, R.sup.3 is hydrogen, halogen, hydroxy, lower alkoxy, acyloxy, lower alkylthio, lower alkenyl, lower alkenylthio, lower alkynyl, heterocyclicthio or a heterocyclic group, in which lower alkylthio, lower alkenyl, lower alkenylthio, heterocyclicthio and a heterocyclic group may have suitable substituent(s), R.sup.4 and R.sup.5 are each hydrogen, halogen or arylthio, A is lower alkylene, and n is an integer of 0 or 1, and a pharmaceutically acceptable salt thereof, processes for preparation thereof and pharmaceutical composition comprising the same.

  一种化合物的公式：##STR1## 其中R.sup.1是低碳基，低烷酰基，芳香族，芳基（低）烷基或杂环基，每个基团可能具有适当的取代基，R.sup.2是羧基或保护羧基，R.sup.3是氢，卤素，羟基，低烷氧基，酰氧基，低硫代烷基，低烯基，低烯基硫代基，低炔基，杂环硫代基或杂环基，在其中低硫代烷基，低烯基，低烯基硫代基，杂环硫代基和杂环基可能具有适当的取代基，R.sup.4和R.sup.5分别是氢，卤素或芳基硫代基，A是低碳基亚烷基，n是0或1的整数，以及其药学上可接受的盐，其制备过程和包含其的制药组合物。