2,4-Diphenyl-pentan-2,4-diol | 13307-69-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯丙烷和聚酮 - 直链 1,3-二芳基丙烷
• 英文名称: 2,4-Diphenyl-pentan-2,4-diol
• 英文别名: 2,4-Diphenylpentane-2,4-diol
• CAS: 13307-69-2
• 化学式: C₁₇H₂₀O₂
• 分子量: 256.345
• InChiKey: YAOJGXOSRNJYTN-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  426.9±40.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.118±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.7
• 重原子数：
  19
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.29
• 拓扑面积：
  40.5
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2,4-Diphenyl-pentan-2,4-diol 在 iron(III) chloride 、 cerium(III) chloride 、 四丁基氯化铵 、 氧气 作用下， 以 乙腈 为溶剂， 20.0 ℃ 、101.33 kPa 条件下， 反应 24.0h， 以52%的产率得到苯甲酸
  参考文献：
  名称：

  室温下通过铁光催化将2°和3°的醇与O 2氧化成芳族酸，将α-CC碳键裂解为芳香酸

  摘要：

  未官能化的仲醇（2°）和叔醇（3°）的选择性α-CC键断裂对于大分子和生物聚合物的增值至关重要。我们开发了一种蓝光驱动的铁催化剂，用于在室温下通过α-CC键断裂将2°和3°醇有氧氧化为酸。报道了简单叔醇氧化的第一个例子。铁催化剂和蓝光起着至关重要的作用，可以使醇类形成高反应性的O自由基，并随后发生两次α-CC键断裂。

  DOI：

  10.1021/acs.orglett.1c00556

文献信息

• RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION
  申请人：JSR Corporation

  公开号：EP1953593A1

  公开（公告）日：2008-08-06

  It is intended to provide a radiation-sensitive resin composition, which comprises a radiation-sensitive acid generator excellent in resolution performance, heat stability, and storage stability, suppresses fluctuations in line width and deterioration in pattern profile attributed to standing waves, and produces a resist pattern improved in nano edge roughness and LEF. The radiation-sensitive resin composition is characterized by (A) a radiation-sensitive acid generator comprising: a sulfonium salt compound typified by 2,4,6-trimethylphenyldiphenylsulfonium 2,4-difluorobenzenesulfonate, 2,4,6-trimethylphenyldiphenylsulfonium 4-trifluoromethylbenzenesulfonate, or the like; and a sulfonimide compound. It is preferred that the composition should further comprise (B) a resin typified by a 4-hydroxystyrene/4-t-butoxystyrene copolymer, a 4-hydroxystyrene/t-butyl (meth)acrylate, or the like.

  本发明的目的是提供一种辐射敏感树脂组合物，该组合物包含一种在分辨率、热稳定性和储 存稳定性方面都很出色的辐射敏感酸发生器，它能抑制驻波引起的线宽波动和图案轮廓的恶化， 并能产生在纳米边缘粗糙度和 LEF 方面都有所改善的抗蚀图案。辐射敏感树脂组合物的特征在于 (A) 辐射敏感酸发生器，包括：锍盐化合物，如 2,4,6-三甲基二苯基锍 2,4-二氟苯磺酸盐、2,4,6-三甲基二苯基锍 4-三氟甲基苯磺酸盐或类似物；以及磺酰亚胺化合物。组合物最好还包括 (B) 一种树脂，其类型为 4-羟基苯乙烯/4-叔丁氧基苯乙烯共聚物、4-羟基苯乙烯/（甲基）丙烯酸丁酯或类似物。
• PHOTOCURABLE RESIN COMPOSITION
  申请人：DSM IP Assets B.V.

  公开号：EP1634124A1

  公开（公告）日：2006-03-15
• Photocurable resin composition
  申请人：Yashiro Takao

  公开号：US20070004816A1

  公开（公告）日：2007-01-04

  The invention relates to a radiation curable composition comprising (A) a component comprising a carboxyl group that may dissociate in the presence of an acid, (B) a cationically polymerizable compound, and (C) a cationic photoinitiator.
• [EN] PHOTOCURABLE RESIN COMPOSITION<br/>[FR] COMPOSITION DE RESINE PHOTOPOLYMERISABLE
  申请人：DSM IP ASSETS BV

  公开号：WO2004111733A1

  公开（公告）日：2004-12-23

  The invention relates to a radiation curable composition comprising (A) a component comprising a carboxyl group that may dissociate in the presence of an acid, (B) a cationically polymerizable compound, and (C) a cationic photoinitiator.