2,3-dihydro-1-methoxy-1-methyl-1H-indene | 81280-25-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 茚满类
• 英文名称: 2,3-dihydro-1-methoxy-1-methyl-1H-indene
• 英文别名: 3-Methoxy-3-methyl-1,2-dihydroindene
• CAS: 81280-25-3
• 化学式: C₁₁H₁₄O
• 分子量: 162.232
• InChiKey: IVCVLEVBLXCQMP-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.2
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.45
• 拓扑面积：
  9.2
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  3-methoxy-3a-methyl-3aH-indene 在 palladium on activated charcoal 氢气 作用下， 以 正己烷 为溶剂， 反应 2.5h， 生成 2,3-dihydro-1-methoxy-1-methyl-1H-indene
  参考文献：
  名称：

  3-甲氧基-3a-甲基-3a H-茚的生成及其环加成反应的研究

  摘要：

  通过桦木还原和甲基化，然后引入另外的双键，酮的烯醇化，和O-甲基化，由茚满-1-酮制备标题化合物（1）。四烯醇醚（1）是第一个要分离的3a H-茚衍生物。已显示出它会被空气氧化为Z-肉桂酸酯（5），并容易地重排为1 H-茚（7）。观察到N-苯基三唑啉二酮，偶氮二甲酸二乙酯和乙炔二羧酸二甲酯与四烯的末端环加成。这些正式的[8 + 2]环加成与N所观察到的[4 + 2]环加成相反-苯马来酰亚胺。[4 + 2]加合物在加热时发生重排，得到[8 + 2]加合物的混合物：建议该过程涉及将加合物解离成其组分并重新结合。

  DOI：

  10.1039/p19810003214

文献信息

• GILCHRIST, T. L.;REES, C. W.;TUDDENHAM, D., J. CHEM. SOC. PERKIN TRANS., 1981, N 12, 3214-3220
  作者：GILCHRIST, T. L.、REES, C. W.、TUDDENHAM, D.

  DOI：——

  日期：——
• RESIST UNDERLAYER FILM COMPOSITION, PROCESS FOR FORMING RESIST UNDERLAYER FILM, PATTERNING PROCESS AND FULLERENE DERIVATIVE
  申请人：Watanabe Takeru

  公开号：US20110195362A1

  公开（公告）日：2011-08-11

  There is disclosed a resist underlayer film composition of a multilayer resist film used in lithography including (A) a fullerene derivative having a carboxyl group protected by a thermally labile group and (B) an organic solvent. There can be a resist underlayer film composition of a multilayer resist film used in lithography for forming a resist underlayer in which generation of wiggling in substrate etching can be highly suppressed and the poisoning problem in forming an upper layer pattern using a chemically amplified resist can be avoided, a process for forming the resist underlayer film, a patterning process and a fullerene derivative.
• US8835092B2
  申请人：——

  公开号：US8835092B2

  公开（公告）日：2014-09-16