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[(2R,4aR,8S,8aS)-2-phenyl-4,4a,8,8a-tetrahydropyrano[3,2-d][1,3]dioxin-8-yl] carbamate | 405234-71-1

中文名称
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中文别名
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英文名称
[(2R,4aR,8S,8aS)-2-phenyl-4,4a,8,8a-tetrahydropyrano[3,2-d][1,3]dioxin-8-yl] carbamate
英文别名
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[(2R,4aR,8S,8aS)-2-phenyl-4,4a,8,8a-tetrahydropyrano[3,2-d][1,3]dioxin-8-yl] carbamate化学式
CAS
405234-71-1
化学式
C14H15NO5
mdl
——
分子量
277.277
InChiKey
VXKWRLBODUMISV-QNWHQSFQSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
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计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    0.9
  • 重原子数:
    20
  • 可旋转键数:
    3
  • 环数:
    3.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.36
  • 拓扑面积:
    80
  • 氢给体数:
    1
  • 氢受体数:
    5

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    2-(三甲硅基)乙醇[(2R,4aR,8S,8aS)-2-phenyl-4,4a,8,8a-tetrahydropyrano[3,2-d][1,3]dioxin-8-yl] carbamate 在 rhodium(II) acetate dimer 、 亚碘酰苯 作用下, 以 二氯甲烷 为溶剂, 以67%的产率得到2-(trimethylsilyl)ethyl 2-amino-4,6-O-benzylidene-2-N,3-O-carbonyl-2-deoxy-β-D-allopyranoside
    参考文献:
    名称:
    用于2-氨基糖合成的金属丙二酸甘油酯:氨基甲酸酯,脲醛,葡萄糖和半乳糖3-氨基甲酸酯的酰胺基糖基化。
    摘要:
    铑(II)催化3-氨基甲酸酯的氧化环化,并在异头位置就位掺入醇亲核试剂,可提供一系列具有1,2-反式-2,3-顺式立体化学的2-氨基糖,存在于具有医学和生物学意义的化合物中的结构基序,例如抗生素的链霉素类和几丁质酶抑制剂异源胺。所有非对映体的d已经研究了3-氨基甲酸酯基-氨基甲酸酯,其揭示了取决于底物立体化学和保护基的异头异构体立体选择性的显着差异。另外,一些底物在反应条件下易于形成C3-氧化的二氢吡喃酮副产物。醛基和基醛的3种氨基甲酸酯可提供均一的高立体选择性和化学选择性,而对于葡萄糖底物,则需要在4 O和6 O位置具有无环吸电子保护基。半乳糖3-氨基甲酸酯一直是最具挑战性的底物。吸电子的6 O -Ts取代基和空间上需要的4 O形成酰胺糖基化产物最有效-TBS组。这些结果表明了一种机制,构象和电子因素决定了中间体酰基亚硝基化合物在烯烃加成之间的分配,从而导致酰胺基糖基化和C3-H插入,从
    DOI:
    10.1021/acs.joc.8b00893
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文献信息

  • Protecting Group and Solvent Control of Stereo- and Chemoselectivity in Glucal 3-Carbamate Amidoglycosylation
    作者:Ritu Gupta、Kimberly M. Sogi、Sarah E. Bernard、John D. Decatur、Christian M. Rojas
    DOI:10.1021/ol900126q
    日期:2009.4.2
    In the Rh-2(OAC)(4)-catalyzed amidoglycosylation of glucal 3-carbamates, anomeric stereoselectivity and the extent of competing C3-H oxidation depend on the 40 and 60 protecting groups. Acyclic protection permits high alpha-anomer selectivity with further improvement in less polar solvents, while electron-withdrawing protecting groups limit C3-oxidized byproducts. Stereocontrol and bifurcation between alkene insertion and C3-H oxidation reflect an interplay of conformational, stereoelectronic, and inductive factors.
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