2-Methyl-5-butylpyrrolidine | 19509-81-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 吡咯烷类
• 英文名称: 2-Methyl-5-butylpyrrolidine
• 英文别名: 2-butyl-5-methyl-pyrrolidine；2-Butyl-5-methyl-pyrrolidin；2-Butyl-5-methylpyrrolidine
• CAS: 19509-81-0
• 化学式: C₉H₁₉N
• mdl: MFCD19218111
• 分子量: 141.257
• InChiKey: QYCXALHSHRJZRV-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.6
• 重原子数：
  10
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  12
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  2-甲基吡咯-3-甲酸乙酯 在 二硫化碳 、 氢氧化钾 、 三氯化铝 、 乙醇 、 sodium ethanolate 、 一水合肼 、 溶剂黄146 、 铂 作用下， 生成 2-Methyl-5-butylpyrrolidine
  参考文献：
  名称：

  Diels; Schrum, Justus Liebigs Annalen der Chemie, 1937, vol. 530, p. 68,79

  摘要：

  DOI：

文献信息

• [EN] BICYCLIC-FUSED HETEROARYL OR ARYL COMPOUNDS<br/>[FR] COMPOSÉS ARYLE OU HÉTÉROARYLE CONDENSÉS BICYCLIQUES
  申请人：PFIZER

  公开号：WO2017025849A1

  公开（公告）日：2017-02-16

  Compounds, tautomers and pharmaceutically acceptable salts of the compounds of Formula (Ia) are disclosed which are inhibitors of lnterleukin-1 receptor associated kinase (IRAK4). Methods of treatment, methods of synthesis, and intermediates are also disclosed as defined in the specification.

  式(Ia)化合物的化合物、互变异构体和药学上可接受的盐被公开，它们是白细胞介素-1受体相关激酶(IRAK4)的抑制剂。还公开了治疗方法、合成方法以及规格中定义的中间体。
• Reverse Cope elimination reactions. 2. Application to synthesis
  作者：Engelbert Ciganek

  DOI：10.1021/jo00123a014

  日期：1995.9

  Intramolecular addition of N,N-disubstitute hydroxylamines to unactivated olefins was used to prepare an indolizine, a pyrrolo[2,1-a]isoquinoline, a 1,8-diazaspiro[4.5]decane, a cyclopenta[b]pyrrole, and an isoindoline. A pyrrolizine and a 1-azabicyclo[2.2.1] heptane were synthesized from acyclic precursors by two consecutive reverse Cope elimination reactions.
• [EN] HAFNIUM-CONTAINING PRECURSORS FOR VAPOR DEPOSITION<br/>[FR] PRÉCURSEURS CONTENANT DU HAFNIUM POUR UN DÉPÔT EN PHASE VAPEUR
  申请人：AIR LIQUIDE

  公开号：WO2013177284A1

  公开（公告）日：2013-11-28

  Disclosed are hafnium-containing precursors and methods of synthesizing the same. The precursors may be used to deposit hafnium oxide, hafnium silicon oxide and hafnium-metal oxide containing layers using vapor deposition methods such as chemical vapor deposition or atomic layer deposition.
• [EN] TITANIUM-CONTAINING PRECURSORS FOR VAPOR DEPOSITION<br/>[FR] PRÉCURSEURS CONTENANT DU TITANE POUR UN DÉPÔT EN PHASE VAPEUR
  申请人：AIR LIQUIDE

  公开号：WO2013177292A1

  公开（公告）日：2013-11-28

  Disclosed are titanium-containing precursors and methods of synthesizing the same. The precursors may be used to deposit titanium oxide, titanium silicon oxide and titanium-metal oxide containing layers using vapor deposition methods such as chemical vapor deposition or atomic layer deposition.
• [EN] ZIRCONIUM-CONTAINING PRECURSORS FOR VAPOR DEPOSITION<br/>[FR] PRÉCURSEURS CONTENANT DU ZIRCONIUM POUR LE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR
  申请人：AIR LIQUIDE

  公开号：WO2013177269A2

  公开（公告）日：2013-11-28

  Disclosed are zirconium-containing precursors and methods of synthesizing the same. The precursors may be used to deposit zirconium oxide, zirconium silicon oxide and zirconium-metal oxide containing layers using vapor deposition methods such as chemical vapor deposition or atomic layer deposition.