Alkylthio Unit as an α-Pyrrole Protecting Group for Use in Dipyrromethane Synthesis
作者:Patchanita Thamyongkit、Anil D. Bhise、Masahiko Taniguchi、Jonathan S. Lindsey
DOI:10.1021/jo051806q
日期:2006.2.1
position. The dipyrromethane synthesis was carried out using a 2:1 ratio of 2-(RS)pyrrole/benzaldehyde with a catalytic amount of InCl3 at room temperature in the absence of any solvent. The α-RS group was removed by hydrodesulfurization using Raney nickel or nickel complexes. This stoichiometric synthesis using the α-RS-protected pyrrole is in contrast to the traditional synthesis that employs an aldehyde
卟啉前体的合成需要在吡咯的α-和α'-位置(分别为2-和5-)处连续引入取代基。用作临时掩蔽剂并且不会失活的α-吡咯取代基将极大地促进这种合成,特别是对于β-(3,4)-未取代的吡咯,但是迄今为止尚无可用。一系列α-RS基团(R = Me,Et,n在这方面已经研究了β-癸基,包括确定在吡咯的3-,4-和5-位上的取代动力学以及在二吡咯甲烷形成中的应用。通过2-硫氰基吡咯(由吡咯,硫氰酸铵和碘制备)和相应的格氏试剂RMgBr的反应,将RS基团容易地引入到吡咯α-位。每个2-烷硫基基团在3-或5-(vs 4-)位置上使吡咯环朝氘化。使用2:1的2-(RS)吡咯/苯甲醛与催化量的InCl 3进行二吡咯甲烷合成在室温下,没有任何溶剂。使用阮内镍或镍配合物通过加氢脱硫除去α-RS基团。使用α-RS保护的吡咯的这种化学计量合成与采用醛和25-100摩尔当量的吡咯的传统合成相反。通过使2-(正癸硫基)吡咯/醛/