4-[(4-nitrophenyl)methylideneamino]-3-(3,4,5-trimethoxyphenyl)-1H-1,2,4-triazole-5-thione

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 唑类
• 英文名称: 4-[(4-nitrophenyl)methylideneamino]-3-(3,4,5-trimethoxyphenyl)-1H-1,2,4-triazole-5-thione
• 化学式: C₁₈H₁₇N₅O₅S
• 分子量: 415.429
• InChiKey: KLOLXECWDIWLRV-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3
• 重原子数：
  29
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.17
• 拓扑面积：
  146
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  8

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  对硝基苯甲醛 、 4-amino-5-(3,4,5-trimethoxyphenyl)-4H-1,2,4-triazole-3-thiol 在 盐酸 作用下， 以 乙醇 、 水 为溶剂， 反应 4.0h， 以79%的产率得到4-[(4-nitrophenyl)methylideneamino]-3-(3,4,5-trimethoxyphenyl)-1H-1,2,4-triazole-5-thione
  参考文献：
  名称：

  含有 1,2,4-三唑-3-硫醇环系席夫碱的聚苯乙烯薄膜的光稳定性和性能

  摘要：

  合成了一系列4-(4-取代亚苄基氨基)-5-(3,4,5-三甲氧基苯基)-4H-1,2,4-三唑-3-硫醇，并对其结构进行了确认。合成的席夫碱用作聚苯乙烯抗光降解的光稳定剂。在室温下辐照含有合成席夫碱（0.5% 重量）的聚苯乙烯聚合物薄膜（λmax = 365 nm 和光强度 = 6.43 × 10−9 ein·dm−3·s−1）。1,2,4-三唑-3-硫醇席夫碱的光稳定作用使用各种方法测定。与在不存在席夫碱的情况下获得的结果相比，所有使用的添加剂都增强了聚苯乙烯薄膜对辐照的光稳定性。席夫碱可以通过直接吸收紫外线辐射和/或自由基清除剂作为聚苯乙烯的光稳定剂。

  DOI：

  10.3390/molecules21121699

文献信息

• Photostability and Performance of Polystyrene Films Containing 1,2,4-Triazole-3-thiol Ring System Schiff Bases
  作者：Gassan Ali、Gamal El-Hiti、Ivan Tomi、Raghad Haddad、Alaa Al-Qaisi、Emad Yousif

  DOI：10.3390/molecules21121699

  日期：——

  were confirmed. The synthesized Schiff bases were used as photostabilizers for polystyrene against photodegradation. Polystyrene polymeric films containing synthesized Schiff bases (0.5% by weight) were irradiated (λmax = 365 nm and light intensity = 6.43 × 10−9 ein·dm−3·s−1) at room temperature. The photostabilization effect of 1,2,4-triazole-3-thiols Schiff bases was determined using various methods

  合成了一系列4-(4-取代亚苄基氨基)-5-(3,4,5-三甲氧基苯基)-4H-1,2,4-三唑-3-硫醇，并对其结构进行了确认。合成的席夫碱用作聚苯乙烯抗光降解的光稳定剂。在室温下辐照含有合成席夫碱（0.5% 重量）的聚苯乙烯聚合物薄膜（λmax = 365 nm 和光强度 = 6.43 × 10−9 ein·dm−3·s−1）。1,2,4-三唑-3-硫醇席夫碱的光稳定作用使用各种方法测定。与在不存在席夫碱的情况下获得的结果相比，所有使用的添加剂都增强了聚苯乙烯薄膜对辐照的光稳定性。席夫碱可以通过直接吸收紫外线辐射和/或自由基清除剂作为聚苯乙烯的光稳定剂。