di-tert-butyl heptane-1,7-diyldicarbamate | 62146-55-8

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: di-tert-butyl heptane-1,7-diyldicarbamate
• 英文别名: tert-butyl N-[7-[(2-methylpropan-2-yl)oxycarbonylamino]heptyl]carbamate
• CAS: 62146-55-8
• 化学式: C₁₇H₃₄N₂O₄
• 分子量: 330.468
• InChiKey: NMEQKHOJGXGOIL-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.6
• 重原子数：
  23
• 可旋转键数：
  12
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.88
• 拓扑面积：
  76.7
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  di-tert-butyl heptane-1,7-diyldicarbamate 在 盐酸 作用下， 以 溶剂黄146 为溶剂， 生成 1-叔丁氧羰基-1,7-二氨基庚烷
  参考文献：
  名称：

  Fuchs,S.; Voelter,W., Zeitschrift fur Naturforschung, Teil B: Anorganische Chemie, Organische Chemie, 1976, vol. 31, p. 1410 - 1415

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  N-重氮基氨基甲酸叔-丁基酯 、 1,7-二氨基庚烷 在 三乙胺 作用下， 以 甲醇 为溶剂， 生成 di-tert-butyl heptane-1,7-diyldicarbamate
  参考文献：
  名称：

  Fuchs,S.; Voelter,W., Zeitschrift fur Naturforschung, Teil B: Anorganische Chemie, Organische Chemie, 1976, vol. 31, p. 1410 - 1415

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Direct Intermolecular Anti-Markovnikov Hydroazidation of Unactivated Olefins
  作者：Hongze Li、Shou-Jie Shen、Cheng-Liang Zhu、Hao Xu

  DOI：10.1021/jacs.9b04381

  日期：2019.6.12

  hydroazidation method for unactivated olefins, which is promoted by a catalytic amount of bench-stable benziodoxole at ambient temperature. This method facilitates previously difficult, direct addition of hydrazoic acid across a wide variety of unactivated olefins in both complex molecules and unfunctionalized commodity chemicals. It conveniently fills a synthetic chemistry gap of existing olefin hydroazidation

  我们在此报告了一种用于未活化烯烃的直接分子间抗马尔科夫尼科夫加氢叠氮化方法，该方法在环境温度下由催化量的长期稳定的苯并恶醇促进。这种方法有助于在复杂分子和未官能化的商品化学品中跨各种未活化的烯烃直接添加重氮酸，这是以前困难的。它方便地填补了现有烯烃氢叠氮化程序的合成化学空白，从而为有机合成和化学生物学研究中的叠氮基标记提供了有价值的工具。
• RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING A RESIST PATTERN, COMPOUND, AND POLYMER
  申请人：ASANO Yuusuke

  公开号：US20120156612A1

  公开（公告）日：2012-06-21

  A radiation-sensitive resin composition includes a first polymer that includes a repeating unit having an acid-labile group and becomes alkali-soluble upon dissociation of the acid-labile group, and a radiation-sensitive acid-generating agent. The acid-labile group has a structure shown by a general formula (1). R 1 represents a methyl group or the like, R 2 represents a hydrocarbon group that forms a cyclic structure, R 3 represents a fluorine atom or the like, R 4 represents a carbon atom, and n 1 is an integer from 1 to 7.

  一种辐射敏感树脂组合物包括第一聚合物，其中包括具有酸敏感基团的重复单元，在酸敏感基团解离后变为碱溶解性，并且包括辐射敏感酸发生剂。酸敏感基团具有通式（1）所示的结构。R1代表甲基基团或类似物，R2代表形成环状结构的碳氢基团，R3代表氟原子或类似物，R4代表碳原子，n1为1至7之间的整数。
• Pattern forming method, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and resist film
  申请人：FUJIFILM CORPORATION

  公开号：US10248019B2

  公开（公告）日：2019-04-02

  A pattern forming, method, includes: (i) forming a film from an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition that contains (A) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation and decomposing by an action of an acid to decrease a solubility of the compound (A) for an organic solvent; (ii) exposing the film; and (iii) performing development by using a developer containing an organic solvent.

  一种形成图案的方法包括：(i) 使用一种含有（A）一种能够在受到光或辐射照射时生成酸并通过酸的作用分解以降低该化合物（A）对有机溶剂的溶解度的光敏或辐射敏感树脂组合物形成薄膜；(ii) 曝光薄膜；和(iii) 使用含有有机溶剂的显影剂进行显影。
• RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, MONOMER, POLYMER, AND PRODUCTION METHOD OF RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION
  申请人：MARUYAMA Ken

  公开号：US20120237876A1

  公开（公告）日：2012-09-20

  A radiation-sensitive resin composition includes a solvent and a polymer. The polymer includes a repeating unit represented by a formula (I), a repeating unit represented by a formula (II), or a both thereof. Each of R 1 to R 3 independently represents a hydroxyl group, or the like. At least one of R 1 represents a group having two or more heteroatoms. l is an integer from 1 to 5. Each of m and n is independently an integer from 0 to 5. Each of R 7 and R 11 independently represents a hydrogen atom, or the like. Each of R 8 to R 10 independently represents a hydrogen atom, or the like. A represents —O—, or the like. D represents a substituted or unsubstituted methylene group, or the like.

  一种辐射敏感树脂组合物包括溶剂和聚合物。该聚合物包括由式(I)表示的重复单元，由式(II)表示的重复单元，或两者兼有。R1至R3中的每一个独立地表示一个羟基或类似物。其中至少一个R1表示具有两个或更多杂原子的基团。l是从1到5的整数。m和n中的每一个独立地是从0到5的整数。R7和R11中的每一个独立地表示氢原子或类似物。R8到R10中的每一个独立地表示氢原子或类似物。A表示—O—或类似物。D表示取代或未取代的亚甲基基团或类似物。
• PATTERN FORMING METHOD, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND RESIST FILM
  申请人：Enomoto Yuichiro

  公开号：US20120282548A1

  公开（公告）日：2012-11-08

  Provided is a pattern forming method comprising (i) a step of forming a film from an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, (ii) a step of exposing the film, and (iii) a step of developing the exposed film by using an organic solvent-containing developer, wherein the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprises (A) a resin capable of decreasing the solubility for an organic solvent-containing developer by the action of an acid, (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, (D) a solvent, and (G) a compound having at least either one of a fluorine atom and a silicon atom and having basicity or being capable of increasing the basicity by the action of an acid.

  提供的是一种形成图案的方法，包括(i)使用光致或辐射敏感树脂组成物形成薄膜的步骤，(ii)曝光薄膜的步骤，以及(iii)使用有机溶剂含有的显影剂显影曝光后的薄膜的步骤，其中光致或辐射敏感树脂组成物包括(A)一种能够通过酸的作用降低有机溶剂含有的显影剂的溶解度的树脂，(B)一种能够在光致或辐射照射下生成酸的化合物，(D)一种溶剂，以及(G)一种具有氟原子和硅原子中的至少一种，并具有碱性或能够通过酸的作用增加碱性的化合物。