通过多次连接聚合合成蛋白质,需要在N和/或C端使用与Fmoc-
SPPS中使用的酸和碱不稳定保护基正交的掩蔽基团在N和/或C端进行保护。它们必须对固相肽合成,HPLC纯化和连接条件稳定,并且在存在未保护的侧链的情况下必须易于除去。在本报告中,我们的文件对光不稳定的保护基团为两个α
酮酸和
羟胺,在所使用的键的官能团α -ketoacid-
羟胺(KAHA)结扎。新型光保护性α-
酮酸可轻松安装在众多不同的C末端肽α上
酮酸,并在
水性条件下通过紫外线除去。这些进展通过三种不同的收敛途径应用于重要的修饰蛋白NEDD8的一锅合成。这些新的保护基团在片段组装的顺序上提供了更大的灵活性,并减少了通过KAHA连接进行蛋白质合成所需的反应和纯化步骤。