adamantane dicarboxylic acid | 40933-60-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: adamantane dicarboxylic acid
• 英文别名: adamantane-1,2-dicarboxylic acid
• CAS: 40933-60-6
• 化学式: C₁₂H₁₆O₄
• 分子量: 224.257
• InChiKey: LBVBDLCCWCJXFA-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  433.4±28.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.413±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.5
• 重原子数：
  16
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.83
• 拓扑面积：
  74.6
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  bis(trifluoromethyl) adamantane 、 1-金刚烷甲酸 、 adamantane dicarboxylic acid 在 SF₄ 作用下， 生成 1-三氟甲基金刚烷
  参考文献：
  名称：

  Cyclic hydrocarbon perfluorination process

  摘要：

  全氟多环碳氢化合物可以通过一个三阶段过程高产率生产，包括将环烃如烷基金刚烷与银、锰、硫等的氟化物在不同反应条件下接触，通常处于液态状态，以提供部分氟化的环烃。这种氟化随后通过第二阶段的气相反应，使用钴等的氟化物，在通常略高于材料的沸点的温度下产生高度氟化的环状化合物，然后通过第三阶段的反应，使用相同的试剂在显著更高的温度下提供所需的全氟化材料。或者，用于第二阶段的部分氟化材料可以源自已知来源，使用任何已知的部分氟化环烃。在另一实施方案中，可以用流化床反应器替代上述第二和第三气相阶段。

  公开号：

  US04220606A1

文献信息

• PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD USING THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND COMPOUND FOR USE IN THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION
  申请人：Wada Kenji

  公开号：US20100233617A1

  公开（公告）日：2010-09-16

  A photosensitive composition includes: (A) a resin containing a repeating unit corresponding to a compound represented by the following formula (I); the resin being capable of producing an acid group upon irradiation with an actinic ray or radiation: Z-A-X—B—R   (I) wherein Z represents a group capable of becoming an acid group resulting from leaving of a cation upon irradiation with an actinic ray or radiation; A represents an alkylene group; X represents a single bond or a heteroatom-containing divalent linking group; B represents a single bond, an oxygen atom or —N(Rx)-; Rx represents a hydrogen atom or a monovalent organic group; R represents a monovalent organic group substituted by Y; when B represents —N(Rx)-, R and Rx may combine with each other to form a ring; and Y represents a polymerizable group.

  一种感光组合物包括：（A）含有与下式（I）所表示的化合物对应的重复单元的树脂；该树脂能够在受到光敏射线或辐射照射后产生酸基团：Z-A-X—B—R   （I）其中Z代表一个能够在受到光敏射线或辐射照射后由阳离子离去而形成酸基团的基团；A代表一个烷基基团；X代表一个单键或含杂原子的二价连接基团；B代表一个单键、一个氧原子或—N（Rx）-；Rx代表一个氢原子或一个一价有机基团；R代表一个通过Y取代的一价有机基团；当B代表—N（Rx）-时，R和Rx可以结合在一起形成一个环；Y代表一个可聚合的基团。
• Pattern forming method, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and resist film
  申请人：FUJIFILM CORPORATION

  公开号：US10248019B2

  公开（公告）日：2019-04-02

  A pattern forming, method, includes: (i) forming a film from an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition that contains (A) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation and decomposing by an action of an acid to decrease a solubility of the compound (A) for an organic solvent; (ii) exposing the film; and (iii) performing development by using a developer containing an organic solvent.

  一种形成图案的方法包括：(i) 使用一种含有（A）一种能够在受到光或辐射照射时生成酸并通过酸的作用分解以降低该化合物（A）对有机溶剂的溶解度的光敏或辐射敏感树脂组合物形成薄膜；(ii) 曝光薄膜；和(iii) 使用含有有机溶剂的显影剂进行显影。
• Photosensitive composition, compound for use in the photosensitive composition, and pattern forming method using the photosensitive composition
  申请人：Wada Kenji

  公开号：US20050123859A1

  公开（公告）日：2005-06-09

  A photosensitive composition comprising a compound capable of generating a specific sulfonic acid upon irradiation with actinic rays or a radiation; a compound capable of generating a specific sulfonic acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation; and a pattern forming method using a photosensitive composition comprising a compound capable of generating a specific sulfonic acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation.

  一种包含能够在受到光敏辐射或辐射照射后生成特定磺酸的化合物的光敏组合物；一种包含能够在受到光敏辐射或辐射照射后生成特定磺酸的化合物的光敏组合物；以及一种使用包含能够在受到光敏辐射或辐射照射后生成特定磺酸的化合物的光敏组合物的图案形成方法。
• Phosphorus compound
  申请人：——

  公开号：US20030109736A1

  公开（公告）日：2003-06-12

  The phosphorus-containing compound of the present invention is represented by the following formula (I), (II) or (III): 1 wherein Z 1 , Z 2 and Z 3 each represents a cycloalkane, a cycloalkene, a polycyclic aliphatic hydrocarbon or an aromatic hydrocarbon rings which may have a substituent; R represents a halogen atom, a hydroxyl, a carboxyl, a halocarboxyl (haloformyl), an alkyl, an alkoxy, an alkenyl or an aryl groups; A represents a polyvalent group corresponding to an alkane; Y 1 , Y 2 and Y 3 each represents —O—, —S— or —NR 1 —, wherein R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group; k is an integer of to 6; m is an integer of 0 to 2; n is an integer of not less than 1; q is an integer of 0 to 5; r is 0 or 1; and S is an integer of 1 to 4. The phosphorus-containing compound is excellent in heat resistance and is useful as flame retardants, plasticizers, or stabilizers.

  本发明的含磷化合物由以下式(I)、(II)或(III)表示：其中Z1、Z2和Z3分别表示可能具有取代基团的环烷烃、环烯烃、多环脂肪烃或芳香烃环；R表示卤素原子、羟基、羧基、卤代羧基（卤甲酰基）、烷基、烷氧基、烯基或芳基；A表示对应于烷烃的多价基团；Y1、Y2和Y3分别表示—O—、—S—或—NR1—，其中R1表示氢原子或烷基；k为0至6的整数；m为0至2的整数；n为不少于1的整数；q为0至5的整数；r为0或1；S为1至4的整数。这种含磷化合物具有优异的耐热性，可用作阻燃剂、增塑剂或稳定剂。
• Adamantanetricarboxylic acid derivatives
  申请人：——

  公开号：US20040242923A1

  公开（公告）日：2004-12-02

  An adamantanetricarboxylic acid derivative is represented by following Formula (1): 1 wherein X is a hydrogen atom or a hydrocarbon group; and R 1 , R 2 and R 3 may be the same as or different from one another and are each a carboxyl group which may be protected by a protecting group, or a carbonyl halide group, wherein at least one of R 1 , R 2 and R 3 is a carboxyl group which is protected by a protecting group, or a carbonyl halide group.

  一种超坚酸衍生物由以下式（1）表示：其中X是氢原子或烃基；R1、R2和R3可以相同也可以不同，分别是一个羧基，可能被保护基保护，或者是羰基卤化物基团，其中至少一个是被保护基保护的羧基，或者是羰基卤化物基团。