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1-isopropyl-cyclohexyl hydroperoxide | 825-08-1

中文名称
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中文别名
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英文名称
1-isopropyl-cyclohexyl hydroperoxide
英文别名
Hydroperoxide, 1-isopropylcyclohexyl;1-hydroperoxy-1-propan-2-ylcyclohexane
1-isopropyl-cyclohexyl hydroperoxide化学式
CAS
825-08-1
化学式
C9H18O2
mdl
——
分子量
158.241
InChiKey
BXPBEZRGKFLRFH-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
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物化性质

  • 沸点:
    232.9±7.0 °C(Predicted)
  • 密度:
    0.96±0.1 g/cm3(Predicted)

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    2.5
  • 重原子数:
    11
  • 可旋转键数:
    2
  • 环数:
    1.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    1.0
  • 拓扑面积:
    29.5
  • 氢给体数:
    1
  • 氢受体数:
    2

SDS

SDS:5e2cd2665b4177a7b55f6d67038240fe
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文献信息

  • ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
    申请人:FUJIFILM Corporation
    公开号:EP2356517B1
    公开(公告)日:2017-01-25
  • [EN] METHOD OF FORMING PATTERN AND ACTINIC-RAY- OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR USE IN THE METHOD<br/>[FR] PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF ET COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE À UN RAYONNEMENT OU AUX RAYONS ACTINIQUES POUR UTILISATION DANS LE PROCÉDÉ
    申请人:FUJIFILM CORP
    公开号:WO2014007361A1
    公开(公告)日:2014-01-09
    Provided is a method of forming a pattern, including (a) forming a film comprising an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition comprising a resin (P) containing a repeating unit (P1) with a cyclic carbonic acid ester structure and any of repeating units (P2) of general formula (P2-1) below, and a compound (B) that when exposed to actinic rays or radiation, generates an acid, (b) exposing the film to actinic rays or radiation, and (c) developing the exposed film with a developer comprising an organic solvent to thereby obtain a negative pattern.
  • Pritzkow,W.; Groebe,K.-H., Chemische Berichte, 1960, vol. 93, p. 2156 - 2162
    作者:Pritzkow,W.、Groebe,K.-H.
    DOI:——
    日期:——
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