gallium trichloride-pyridine (1/1) | 856588-85-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 吡啶及其衍生物
• 英文名称: gallium trichloride-pyridine (1/1)
• 英文别名: pyridine; compound with gallium chloride；Galliumtrichlorid-Pyridin (1/1)；Pyridin; Verbindung mit Galliumchlorid；gallium;pyridine;trichloride
• CAS: 856588-85-7；15024-93-8
• 化学式: C₅H₅N*Cl₃Ga
• 分子量: 255.183
• InChiKey: YLMGOUCRGSUALU-UHFFFAOYSA-K

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -8.29
• 重原子数：
  10
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  12.9
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  sodium tri(tert-butyl)silanide 、 gallium trichloride-pyridine (1/1) 以 四氢呋喃 、 正庚烷 为溶剂， 以93%的产率得到supersilyl gallium dichloride-pyridine (1/1)
  参考文献：
  名称：

  Supersilyltrielane R _nEHal_3-n (E = Triel, R = SitBu₃): Synthesen, Charakterisierung, Reaktionen, Strukturen [1] / Supersilyltrielanes R _nEHal_3-n (E = Triel, R = SitBu₃): Syntheses, Characterization, Reactions, Structures [1]

  摘要：

  水和氧敏感化合物 R*EHal₂•D、R*EHal₂ 和 R*₂EHal（R* = SitBu₃；E = B，Al，Ga，In，TI；Hal = F，Cl，Br，I；D = OR₂，NR₃）已通过 EHAl₃ 与 NaR* 在存在或不存在供体的情况下反应合成，或通过 D、Hal 或 R* 被其他取代基取代，或通过 R*₂E-ER*₂（E = Al，In）与 I₂、H₂、AgF₂ 或 HBr 反应合成。这些化合物在溶液中或气相中的热分解导致 R*EHal₂•D 中的 D 或 R*EHal₂ 和 R*₂EHal 中的 R*Hal 被消除。二卤化物 R*EHal₂ 与供体 OR₂ 或 NR₃ 作为 Lewis 酸（形成加合物 R*EHal₂•D），而单卤化物 R*₂EHal 与受体 EHal₃ 作为 Lewis 碱（形成 R*₂E⁺ EHal₄^-）。用碱金属或 NaR* 去卤化 R*₂EHal 和 R*EHal₂ 会导致化合物 R*₄E₂（E = AI，In，Tl），R*₃E₂•（E = AI，Ga），R*₄E₃^•（E = Al，Ga），R*₄E₄（E = AI，Ga），R*₆Ga₈，R*₈In₁₂，（R*₂B^-），R*₂A^-，R*₃Ga₂^-，R*₄Ga₃^-，R*₄Ga₄^2-，R*₄Tl₃Cl，或 R*₆Tl₆Cl₂。R*BBr₂•Py、R*AlBr₂•NEtMe₂、（R*AlClOBu）₂、R*₂BF 以及 R*₂ECl（E = B，Al，Ga，Tl）的结构已通过 X 射线结构分析确定。

  DOI：

  10.1515/znb-2001-0712
• 作为产物：
  描述：

  吡啶 、 氯化镓 以 正庚烷 为溶剂， 生成 gallium trichloride-pyridine (1/1)
  参考文献：
  名称：

  Supersilyltrielane R _nEHal_3-n (E = Triel, R = SitBu₃): Synthesen, Charakterisierung, Reaktionen, Strukturen [1] / Supersilyltrielanes R _nEHal_3-n (E = Triel, R = SitBu₃): Syntheses, Characterization, Reactions, Structures [1]

  摘要：

  水和氧敏感化合物 R*EHal₂•D、R*EHal₂ 和 R*₂EHal（R* = SitBu₃；E = B，Al，Ga，In，TI；Hal = F，Cl，Br，I；D = OR₂，NR₃）已通过 EHAl₃ 与 NaR* 在存在或不存在供体的情况下反应合成，或通过 D、Hal 或 R* 被其他取代基取代，或通过 R*₂E-ER*₂（E = Al，In）与 I₂、H₂、AgF₂ 或 HBr 反应合成。这些化合物在溶液中或气相中的热分解导致 R*EHal₂•D 中的 D 或 R*EHal₂ 和 R*₂EHal 中的 R*Hal 被消除。二卤化物 R*EHal₂ 与供体 OR₂ 或 NR₃ 作为 Lewis 酸（形成加合物 R*EHal₂•D），而单卤化物 R*₂EHal 与受体 EHal₃ 作为 Lewis 碱（形成 R*₂E⁺ EHal₄^-）。用碱金属或 NaR* 去卤化 R*₂EHal 和 R*EHal₂ 会导致化合物 R*₄E₂（E = AI，In，Tl），R*₃E₂•（E = AI，Ga），R*₄E₃^•（E = Al，Ga），R*₄E₄（E = AI，Ga），R*₆Ga₈，R*₈In₁₂，（R*₂B^-），R*₂A^-，R*₃Ga₂^-，R*₄Ga₃^-，R*₄Ga₄^2-，R*₄Tl₃Cl，或 R*₆Tl₆Cl₂。R*BBr₂•Py、R*AlBr₂•NEtMe₂、（R*AlClOBu）₂、R*₂BF 以及 R*₂ECl（E = B，Al，Ga，Tl）的结构已通过 X 射线结构分析确定。

  DOI：

  10.1515/znb-2001-0712

文献信息

• Reaction of Decamethylsilicocene with Group 13 Element Halides:  Insertions, Rearrangements, and Eliminations
  作者：Udo Holtmann、Peter Jutzi、Thorsten Kühler、Beate Neumann、Hans-Georg Stammler

  DOI：10.1021/om9906114

  日期：1999.12.1

  In the reaction of decamethylsilicocene (1; (Me5C5)2Si) with halides or organohalides of trivalent boron, aluminum, gallium, and indium, quite different and sometimes very complex pathways are observed which include adduct formation, 1,2-halide or -alkyl shifts, 1,2-dyotropic rearrangements, and reductive elimination and oxidative addition reactions. Cp*BCl2 (Cp* = pentamethylcyclopentadienyl), BCl3

  在十甲基硅氧烷（1 ;（Me 5 C 5）2 Si）与三价硼，铝，镓和铟的卤化物或有机卤化物的反应中，观察到截然不同且有时非常复杂的途径，包括形成加合物，1,2-卤化物或-烷基的移位，1，2-双阳离子重排以及还原消除和氧化加成反应。Cp * BCl 2（Cp * =五甲基环戊二烯基），BCl 3和BBr 3与1反应形成五碳氨基-六硼鎓盐[Cp * SiCl 2 BCp *] + [Cp * BCl 3 ] -（3a）和[Cp * SiX 2 BCp *] + [BX 4 ] -（3b，X ＝ Cl；4，X ＝ Br）。从与BBr 3的反应中分离出具有蛛网簇骨架的组成为Cp * 3 Si 2 Br 4 B的第二产物（5b）。通过AlCl 3和AlBr 3复分解反应，分别得到离子化合物[Cp * 2 Al] + [AlX 4 ] -（6a，b，X = Cl，Br）。6a，b的形成是由路易斯碱催化的Cp