2-(4-methoxyphenyl)-2-(methylamino)acetonitrile | 86147-93-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯酚醚
• 英文名称: 2-(4-methoxyphenyl)-2-(methylamino)acetonitrile
• CAS: 86147-93-5
• 化学式: C₁₀H₁₂N₂O
• 分子量: 176.218
• InChiKey: IRDYATXCQRCAGX-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  309.7±32.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.063±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.3
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.3
• 拓扑面积：
  45
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-(4-methoxyphenyl)-2-(methylamino)acetonitrile 在 硫酸 作用下， 生成 α-methylamino 4-methoxyphenylacetamide
  参考文献：
  名称：

  中离子化合物的研究。第10部分。中离子1,2,5-噻二唑-3-油酸酯的合成和化学性质

  摘要：

  描述了一种新型的中离子杂环的制备。4-芳基-5-烷基-1,2,5-噻二唑-3-油酸酯的衍生物（6a-f）是通过先用一氯化硫然后用碱处理α- N-取代的氨基苯基乙酰胺得到的。

  DOI：

  10.1039/p19810001033
• 作为产物：
  描述：

  三甲基氰硅烷 、 4-甲氧基苯甲醛 、 甲胺 以 甲醇 、 水 为溶剂， 反应 25.0h， 以100%的产率得到2-(4-methoxyphenyl)-2-(methylamino)acetonitrile
  参考文献：
  名称：

  洋葱头孢杆菌脂肪酶的消旋酶活性导致α-氨基腈的双功能不对称动态动力学拆分

  摘要：

  值得称赞的滥交：经实验数据和计算结果支持，发现带有N-取代的α-氨基腈的洋葱形芽孢杆菌脂肪酶的消旋酶型活性在酶的水解酶位点涉及C involveC键断裂/形成机制。这种混杂的活性与酶的转酰化活性相结合，可以高产率地不对称合成N-甲基α-氨基腈酰胺（参见方案）。

  DOI：

  10.1002/anie.201007373

文献信息

• NOVEL PHOTOACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：OHASHI Masaki

  公开号：US20090061358A1

  公开（公告）日：2009-03-05

  Photoacid generators generate sulfonic acids of formula (1a) or (1c) upon exposure to high-energy radiation. R 1 —COOCH(CF 3 )CF 2 SO 3 + H + (1a) R 1 —O—COOCH(CF 3 )CF 2 SO 3 − H + (1c) R 1 is a C 20 -C 50 hydrocarbon group having a steroid structure. The photoacid generators are compatible with resins and can control acid diffusion and are thus suited for use in chemically amplified resist compositions.

  光酸发生剂在高能辐射作用下生成式（1a）或（1c）的磺酸。R1—COOCH(CF3)CF2SO3+H+(1a)R1—O—COOCH(CF3)CF2SO3−H+(1c)R1是具有类固醇结构的C20-C50烃基。这些光酸发生剂与树脂相容，可以控制酸的扩散，因此适用于化学增感抗蚀组合物的使用。
• Novel photoacid generators, resist compositions, and patterning process
  申请人：Ohsawa Youichi

  公开号：US20080085469A1

  公开（公告）日：2008-04-10

  Photoacid generators generate sulfonic acids of formula (1a) upon exposure to high-energy radiation. RC(═O)R 1 —COOCH(CF 3 )CF 2 SO 3 − H + (1a) R is hydroxyl, alkyl, aryl, hetero-aryl, alkoxy, aryloxy or hetero-aryloxy, R 1 is a divalent organic group which may have a heteroatom (O, N or S) containing substituent, or R 1 may form a cyclic structure with R. The photoacid generators are compatible with resins and can control acid diffusion and are thus suited for use in chemically amplified resist compositions.

  光酸发生剂在高能辐射作用下生成式（1a）的磺酸。RC(═O)R1—COOCH(CF3)CF2SO3−H+(1a)中，R为羟基、烷基、芳基、杂芳基、烷氧基、芳氧基或杂芳氧基，R1为可能含有杂原子（O、N或S）取代基的二价有机基团，或R1可与R形成环状结构。这些光酸发生剂与树脂相容，可以控制酸的扩散，因此适用于化学增感抗蚀组合物中的使用。
• Design, synthesis and antioxidant properties of ovothiol-derived 4-mercaptoimidazoles
  作者：Vincent Zoete、Fabrice Bailly、Jean-Pierre Catteau、Jean-Luc Bernier

  DOI：10.1039/a703741d

  日期：——

  Fourteen 4-mercaptoimidazoles derived from the naturally occurring family of antioxidants, the ovothiols, have been synthesized by cyclization of thioamides with trimethylsilyl trifluoromethanesulfonate (triflate). These compounds have been assayed for their radical-scavenging activity.

  从天然抗氧化剂家族——卵泡硫醇中衍生出的14种4-巯基咪唑，已通过硫代酰胺与三甲基硅基三氟甲磺酸酯（三氟甲磺酸盐）的环化反应合成。这些化合物已进行了其自由基清除活性的测定。
• NOVEL SULFONATE SALTS AND DERIVATIVES, PHOTOACID GENERATORS, RESIST COMPOSITIONS, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：KOBAYASHI Katsuhiro

  公开号：US20070298352A1

  公开（公告）日：2007-12-27

  Sulfonate salts have the formula: HOCH 2 CH 2 CF 2 CF 2 SO 3 − M + wherein M + is a Li, Na, K, ammonium or tetramethylammonium ion. Onium salts, oxime sulfonates and sulfonyloxyimides derived from these salts are effective photoacid generators in chemically amplified resist compositions.

  磺酸盐的化学式为：HOCH2CH2CF2CF2SO3−M+，其中M+是Li、Na、K、铵或四甲基铵离子。从这些盐中衍生的烷基盐、肟磺酸盐和磺酰氧亚胺在化学增强型抗蚀剂组合物中是有效的光酸发生剂。
• Novel sulfonate salts and derivatives, photoacid generators, resist compositions, and patterning process
  申请人：Ohsawa Youichi

  公开号：US20080318160A1

  公开（公告）日：2008-12-25

  Sulfonate salts have the formula: CF 3 —CH(OCOR)—CF 2 SO 3 − M + wherein R is C 1 -C 20 alkyl or C 6 -C 14 aryl, and M + is a lithium, sodium, potassium, ammonium or tetramethylammonium ion. Onium salts, oximesulfonates and sulfonyloxyimides and other compounds derived from these sulfonate salts are effective photoacid generators in chemically amplified resist compositions.

  磺酸盐的化学式为：CF3—CH(OCOR)—CF2SO3−M+，其中R为C1-C20烷基或C6-C14芳基，M+为锂、钠、钾、铵或四甲基铵离子。来自这些磺酸盐的离子盐、肟磺酸盐、磺酰氧基亚胺和其他衍生物在化学增强型光刻胶组合物中是有效的光酸发生剂。