1,3-bis(cyclohexyloxy)benzene | 38045-28-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯酚醚
• 英文名称: 1,3-bis(cyclohexyloxy)benzene
• 英文别名: 1,3-Dicyclohexyloxybenzene
• CAS: 38045-28-2
• 化学式: C₁₈H₂₆O₂
• 分子量: 274.403
• InChiKey: UUOXBRMWPMXVDU-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  180-185 °C(Press: 0.10-0.15 Torr)
• 密度：
  1.045±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  5.5
• 重原子数：
  20
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.67
• 拓扑面积：
  18.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1,3-bis(cyclohexyloxy)benzene 在 lithium aluminium tetrahydride 、 正丁基锂 作用下， 以 正己烷 为溶剂， 生成 (2R,5R)-1-(2',6'-bis(cyclohexyloxy)-[1,1'-biphenyl]-2-yl)-2,5-diisopropylphospholane
  参考文献：
  名称：

  手性单齿膦和大宗羧酸：在钯催化的对映选择性C（sp3）–H功能化中的协同作用

  摘要：

  联手：重要的二氢吲哚骨架在钯（0）催化的芳基三氟甲磺酸酯的C（sp 3）–H活化中的对映体比率高达98：2 。关键是富电子的单齿鼠尾草和庞大的9 H-蒽并9-9羧酸的组合。两者都以高度合作的方式参与对映确定一致的去质子化金属化步骤（参见方案，Tf = triflate）。

  DOI：

  10.1002/anie.201108511
• 作为产物：
  描述：

  环己醇 、 间苯二酚 在 偶氮二甲酸二异丙酯 、 三苯基膦 作用下， 以 四氢呋喃 、 甲苯 为溶剂， 反应 24.0h， 以45%的产率得到1,3-bis(cyclohexyloxy)benzene
  参考文献：
  名称：

  仲烷基溴化物与芳基和烯基三氟甲磺酸酯和壬二酸酯的Barbier-Negishi偶联

  摘要：

  已经开发出温和而实用的仲烷基溴化物与芳基和烯基三氟甲磺酸酯和壬二酸酯的Barbier-Negishi偶联。通过使用非常庞大的咪唑基膦配体，可以实现这一具有挑战性的反应，从而在室温下和非水条件下对多种底物产生了良好的收率以及良好的化学和位点选择性。通过使用类似的吡唑基配体，该反应扩展为伯烷基溴化物。

  DOI：

  10.1002/anie.201711990

文献信息

• Synthesis of 2,6-dialkoxylphenyllanthanoid complexes and their polymerization catalysis
  作者：Eiji Ihara、Yoshifumi Adachi、Hajime Yasuda、Hiroshi Hashimoto、Nobuko Kanehisa、Yasushi Kai

  DOI：10.1016/s0022-328x(98)00783-9

  日期：1998.10

  The 1:1–2:1 reaction of [2,6-(iPrO)2C6H3]Li with anhydrous SmCl3 in THF gave [2,6-(iPrO)2C6H3]3 Sm 1 exclusively, while the 3:1 reaction gave [2,6-(iPrO)2C6H3]4SmLi 2 as major product, which crystallizes in the monoclinic space group C2/c(No. 15) with a=47.52(1) Å, b=11.680(9) Å, c=18.862(9) Å, β=112.19(3)°, V=9694(8) Å3, Z=8, R=0.077 and Rw=0.074. In a similar manner, [2,6-(iPrO)2C6H3]3La was obtained

  [2,6-（i PrO）2 C 6 H 3 ] Li与无水SmCl 3在THF中的1：1–2：1反应得到[2,6-（i PrO）2 C 6 H 3 ] 3 Sm 1排他地，而3：1反应，得到[2,6-（我PRO）2 C ^ 6 ħ 3 ] 4 SMLI 2为主要产物，其结晶的单斜晶系空间群C ^ 2 / ç（第15号）与一个= 47.52（1）Å，b = 11.680（9）Å，c= 18.862（9）埃，β = 112.19（3）°，V = 9694（8）埃3，Ž = 8，- [R = 0.077和- [R瓦特= 0.074。以类似的方式，通过与LaCl 3（THF）2反应获得[2，6-（i PrO）2 C 6 H 3 ] 3 La 。[2,6-（i PrO）2 C 6 H 3 ] Li与YbCl 3的2：1反应得到[2,6-（i PrO）2 C 6 H 3 ] 2通过与（SiMe 3）2
• CYCLIC COMPOUND, METHOD FOR PRODUCING SAME, COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
  申请人：Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.

  公开号：EP2743249A1

  公开（公告）日：2014-06-18

  The present invention provides a cyclic compound having a molecular weight of 500 to 5000 and represented by the following formula (1), a method for producing the cyclic compound, a composition containing the cyclic compound, and a method for forming a resist pattern using the composition: wherein at least one of R0 is a monovalent group containing an iodine atom.

  本发明提供了一种分子量在 500 至 5000 之间并由下式（1）表示的环状化合物、一种生产该环状化合物的方法、一种含有该环状化合物的组合物以及一种使用该组合物形成抗蚀剂图案的方法： 其中 R0 至少有一个是含有碘原子的单价基团。
• RESIST COMPOSITION
  申请人：Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.

  公开号：EP2911002A1

  公开（公告）日：2015-08-26

  A resist composition of the present invention is a resist composition containing a resist base material and a solvent. The resist base material contains a specific stereoisomer. A content of the specific stereoisomer in the resist base material is 50 to 100% by mass.

  本发明的抗蚀剂组合物是一种含有抗蚀剂基料和溶剂的抗蚀剂组合物。光刻胶基料含有特定的立体异构体。光刻胶基料中特定立体异构体的含量为 50%至 100%（按质量计）。
• US4125512A
  申请人：——

  公开号：US4125512A

  公开（公告）日：1978-11-14
• US9122153B2
  申请人：——

  公开号：US9122153B2

  公开（公告）日：2015-09-01