malonic acid bis(3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-tridecafluorooctyl) ester

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: malonic acid bis(3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-tridecafluorooctyl) ester
• 英文别名: Bis(3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-tridecafluorooctyl) malonate；bis(3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-tridecafluorooctyl) propanedioate
• 化学式: C₁₉H₁₀F₂₆O₄
• 分子量: 796.244
• InChiKey: TWNFCMGOOUXDAM-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  9.8
• 重原子数：
  49
• 可旋转键数：
  18
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.89
• 拓扑面积：
  52.6
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  30

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  malonic acid bis(3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-tridecafluorooctyl) ester 、 2,2,6,6-tetraethylpiperidin-4-one-N-oxyl radical 在 lithium diisopropyl amide 、 copper dichloride 作用下， 以 乙二醇二甲醚 、 正己烷 为溶剂， 反应 0.75h， 以67%的产率得到2-(4-oxo-2,2,6,6-tetraethylpiperidin-1-yloxy)malonic acid bis(3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,,8-tridecafluorooctyl) ester
  参考文献：
  名称：

  通过自由基 C-C 键形成反应进行化学表面改性

  摘要：

  自组装单层 (SAM) 上的自由基 C-C 键形成反应可用于在中性条件下改性烯烃封端的 Si 晶片。许多官能团在自由基条件下是可以耐受的，并且可以通过这种方法固定生物素等生物学感兴趣的分子。

  DOI：

  10.1021/ja0686716
• 作为产物：
  描述：

  3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-十三氟-1-辛醇 、 丙二酰氯 在 三乙胺 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 以82%的产率得到malonic acid bis(3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-tridecafluorooctyl) ester
  参考文献：
  名称：

  通过自由基 C-C 键形成反应进行化学表面改性

  摘要：

  自组装单层 (SAM) 上的自由基 C-C 键形成反应可用于在中性条件下改性烯烃封端的 Si 晶片。许多官能团在自由基条件下是可以耐受的，并且可以通过这种方法固定生物素等生物学感兴趣的分子。

  DOI：

  10.1021/ja0686716

文献信息

• PROCESS AND MATERIALS FOR MAKING CONTAINED LAYERS AND DEVICES MADE WITH SAME
  申请人：Lang Charles D.

  公开号：US20100213454A1

  公开（公告）日：2010-08-26

  There is provided a process for forming a contained second layer over a first layer. The process comprises forming the first layer having a first surface energy and then treating the first layer with a photocurable surface-active composition which is a fluorinated ester or fluorinated imide of an α,β-unsaturated polyacid; exposing the photocurable surface-active composition patternwise with radiation resulting in exposed areas and unexposed areas; developing the photocurable surface-active composition to remove the unexposed areas resulting in a first layer having untreated portions in the unexposed areas and treated portions in the exposed areas, where the treated portions have a second surface energy that is lower than the first surface energy; and forming the second layer on the untreated portions of the first layer. There is also provided an organic electronic device made by the process.

  提供了一种形成包含第二层覆盖在第一层上的方法。该方法包括形成具有第一表面能量的第一层，然后用光固化表面活性组合物处理第一层，该光固化表面活性组合物是α，β-不饱和聚酸的氟化酯或氟化亚胺；用辐射逐图案暴露光固化表面活性组合物，形成暴露区域和未暴露区域；开发光固化表面活性组合物以去除未暴露区域，从而形成具有未处理部分的第一层在未暴露区域和在暴露区域中具有处理部分，其中处理部分具有第二表面能量，其低于第一表面能量；并在第一层的未处理部分上形成第二层。还提供了一种通过该方法制造的有机电子器件。
• Process and materials for making contained layers and devices made with same
  申请人：E I du Pont de Nemours and Company

  公开号：US08309376B2

  公开（公告）日：2012-11-13

  There is provided a process for forming a contained second layer over a first layer. The process comprises forming the first layer having a first surface energy and then treating the first layer with a photocurable surface-active composition which is a fluorinated ester or fluorinated imide of an α,β-unsaturated polyacid; exposing the photocurable surface-active composition patternwise with radiation resulting in exposed areas and unexposed areas; developing the photocurable surface-active composition to remove the unexposed areas resulting in a first layer having untreated portions in the unexposed areas and treated portions in the exposed areas, where the treated portions have a second surface energy that is lower than the first surface energy; and forming the second layer on the untreated portions of the first layer. There is also provided an organic electronic device made by the process.

  提供了一种形成第二层包容在第一层上的过程。该过程包括形成具有第一表面能量的第一层，然后使用光固化表面活性组合物处理第一层，该组合物是α，β-不饱和多酸的氟化酯或氟化亚胺；用辐射逐图案暴露光固化表面活性组合物，形成暴露区域和未暴露区域；开发光固化表面活性组合物以去除未暴露区域，从而形成具有未处理部分和处理部分的第一层，其中未暴露区域具有未处理部分，暴露区域具有第二表面能量，该能量低于第一表面能量；并在第一层的未处理部分上形成第二层。还提供了一种通过该过程制成的有机电子器件。