【課題】良好なCD均一性(CDU)を有するレジストパターンを製造することができる塩、酸発生剤及びレジスト組成物を提供することを目的とする。【解決手段】式(I)で表される塩、酸発生剤及びレジスト組成物。[式中、Q1及びQ2はそれぞれ、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基を表す。R1及びR2はそれぞれ、水素原子、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基を表す。zは、0〜6のいずれかの整数を表す。X1は、*−CO−O−、*−O−CO−等を表す。L1は、単結合又は*−L4−O−(L4は置換基を有してもよい炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−、−S−等に置き換わっていてもよい。)R3及びR4はそれぞれ、水素原子又は飽和炭化水素基を表す。Arは、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を表す。Z+は、有機カチオンを表す。]【選択図】なし
这是一篇专利申请,目的是提供一种可以制造具有良好CD均一性(CDU)的光刻胶图案的盐类、酸发生剂和光刻胶组合物。
解决方案是提供由式(I)表示的盐类、酸发生剂和光刻胶组合物。其中,Q1和Q2分别表示
氟原子或
全氟烷基,R1和R2分别表示氢原子、
氟原子或
全氟烷基,z表示0-6的整数,X1表示* -CO- O-、* -O- CO-等,L1表示单键或* -L4- O-(L4表示可能带有取代基的烃基,其中的-
CH2-可以被- O-、-S-等替换),R3和R4分别表示氢原子或饱和烃基,Ar表示可能带有取代基的芳香族烃基,Z +表示有机阳离子。