1-羟基萘-8-磺酸 | 117-22-6

• 物质功能分类: 化学试剂 - 有机试剂 - 三环化合物
• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 萘
• 中文名称: 1-羟基萘-8-磺酸
• 英文名称: 8-hydroxy-naphthalene-1-sulfonic acid
• 英文别名: 1-Naphthol-8-sulfonsaeure；1-Naphthalenesulfonic acid, 8-hydroxy-；8-hydroxynaphthalene-1-sulfonic acid
• CAS: 117-22-6
• 化学式: C₁₀H₈O₄S
• 分子量: 224.237
• InChiKey: ZPLBZGGKAUXTRT-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 密度：
  1.549

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.6
• 重原子数：
  15
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  83
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  4

安全信息

• 危险品标志：
  Xi
• 危险品运输编号：
  25kgs
• WGK Germany：
  3
• RTECS号：
  TA1841000
• 海关编码：
  2908999090
• 安全说明：
  S22,S24/25
• 危险类别码：
  R36/37/38
• 储存条件：
  室温

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1-羟基萘-8-磺酸 生成 1,8-二羟基萘
  参考文献：
  名称：

  Fierz, Helvetica Chimica Acta, 1920, vol. 3, p. 321

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  8-氨基萘磺酸 在 sodium hydroxide 作用下， 生成 1-羟基萘-8-磺酸
  参考文献：
  名称：

  Fierz, Helvetica Chimica Acta, 1920, vol. 3, p. 321

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Über Azofarbstoffsulfonsäurechloride
  作者：M. Schmid、R. Mory

  DOI：10.1002/hlca.19550380602

  日期：——

  Es wird die Überführung von Oxyazofarbstoffsulfonsäuren in entsprechende Oxyazofarbstoffsulfonsäurechloride mit Hilfe von POCl3 oder PCl5 beschrieben.

  易在Entsprechende的Oxyazofarbstoffsulfonsäurechloride和Hilfe von POCl 3或PCl 5 beschrieben中分离。
• Process for preparing acrylate compound
  申请人：TOSOH CORPORATION

  公开号：US20030139613A1

  公开（公告）日：2003-07-24

  An acrylate compound of formula (4): 1 is produced by allowing an acrylic acid compound of formula (1): 2 to react with an unsaturated compound of formula (2) or (3): 3 In formulae (1) through (4), R 1 and R 2 are H or F, R 3 is H, F, or an alkyl, alkenyl, fluoroalkyl or fluoroalkenyl group, R 4 and R 5 are H, halogen, or an alkyl, alkenyl, halogenated alkyl or halogenated alkenyl group; and X and Y are an unsubstituted or substituted hydrocarbon group, and dashed line - - - - - means that X and Y may be bonded together to form a cyclic structure.

  通过让化学式（1）：2的丙烯酸化合物与化学式（2）或（3）：3的不饱和化合物发生反应，可以制备出化学式（4）：1的丙烯酸酯化合物。在化学式（1）到（4）中，R1和R2为H或F，R3为H、F或烷基、烯基、氟烷基或氟烯基基团，R4和R5为H、卤素或烷基、烯基、卤代烷基或卤代烯基基团；X和Y为未取代或取代的碳氢基团，虚线- - - - - 表示X和Y可以连接在一起形成环状结构。
• Sulfonation of a series of naphthalenes containing two different oxy substituents
  作者：Harold R. W. Ansink、Erwin Zelvelder、Hans Cerfontain

  DOI：10.1002/recl.19931120303

  日期：——

  The reactions of a series of α,α- and β,β-disubstituted naphthalenes containing two different substituents OR1 (R1 = H, SO2CH3) and OR2 (R2 = CH3, SO2CH3) with sulfur trioxide in CD3NO2 has been studied. The electronic directing effect of the hydroxy group was found to be dominant over that of the methoxy group, which in turn dominates that of the mesyloxy group. Upon reaction with an excess of sulfur

  一系列含有两个不同取代基OR 1（R 1 = H，SO 2 CH 3）和OR 2（R 2 = CH 3，SO 2 CH 3）的α，α-和β，β-双取代萘与以下物质的反应已经研究了CD 3 NO 2中的三氧化硫。发现羟基的电子导向作用比甲氧基的电子导向作用占主导地位，而甲氧基则反过来占甲氧基的电子导向作用占主导地位。与过量的三氧化硫反应时，羟基至少部分被硫酸化。对于β-羟基-β-甲氧基萘3a-5a特别是对于3-甲甲氧基-2-萘酚（3c），硫酸氢盐的形成强烈影响产物混合物的组成。因此，当与1.0当量的SO 3反应时，7-甲氧基-2-萘酚（5a）产生其1-磺酸（1-S），而当与2.0当量反应时，主要形成8-S。由于最初形成硫酸氢盐。此外，观察到由于位阻引起的磺酸异构化。当使用≥2.0当量的SO 3时，观察到二磺酸和三磺酸的形成，以及8,1-萘磺酸内酯和环状萘-1-磺酸-2-磺酸酐的磺基衍生物。
• Novel onium salts, photoacid generators, resist compositions, and patterning process
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US20020076643A1

  公开（公告）日：2002-06-20

  Onium salts of arylsulfonyloxynaphthalenesulfonate anions with iodonium or sulfonium cations are novel. A chemically amplified resist composition comprising the onium salt as a photoacid generator is suited for microfabrication, especially by deep UV lithography because of many advantages including improved resolution, improved focal latitude, minimized line width variation or shape degradation even on long-term PED, minimized debris after coating, development and peeling, and improved pattern profile after development.

  芳基磺酸氧基萘磺酸盐的离子（离子包括碘离子或亚磺酸盐阳离子）是新颖的。 化学增感抗蚀剂组合物包括该离子盐作为光酸发生剂，适用于微细加工，特别是深紫外光刻，因为具有许多优点，包括提高分辨率，提高焦距范围，即使在长期PED上也能最小化线宽变化或形状退化，涂层、显影和剥离后最小化残留物，并在显影后改善图案轮廓。
• Photoacid generators, chemically amplified resist compositions, and patterning process
  申请人：——

  公开号：US20030215738A1

  公开（公告）日：2003-11-20

  Photoacid generators are provided by O-arylsulfonyl-oxime compounds having formula (1) wherein R is H, F, Cl, NO 2 , alkyl or alkoxy, n is 0 or 1, m is 1 or 2, r is 0 to 4, r′ is 0 to 5, k is 0 to 4, and G′ and G″ are S or —CH═CH—. Chemically amplified resist compositions comprising the photoacid generators have many advantages including improved resolution, improved focus latitude, minimized line width variation or shape degradation even on long-term PED, and improved pattern profile after development. Because of high resolution, the compositions are suited for microfabrication, especially by deep UV lithography. 1

  提供光酸发生剂的是具有公式（1）的O-芳基磺酰基肟化合物，其中R为H，F，Cl，NO2，烷基或烷氧基，n为0或1，m为1或2，r为0至4，r'为0至5，k为0至4，G'和G"为S或—CH═CH—。包含光酸发生剂的化学增强型抗蚀剂组合物具有许多优点，包括改善分辨率、改善焦点宽度、即使在长期PED上也最小化线宽变化或形状退化，并且在显影后改善图案轮廓。由于具有高分辨率，这些组合物适用于微细制造，特别是通过深紫外光刻。