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1-adamantanecarboxylate vinyl ester | 16917-72-9

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
1-adamantanecarboxylate vinyl ester
英文别名
1-adamantylcarboxylic acid vinyl ester;Vinyl-1-adamantancarboxylat;Vinyl 1-adamantanecarboxylate;ethenyl adamantane-1-carboxylate
1-adamantanecarboxylate vinyl ester化学式
CAS
16917-72-9
化学式
C13H18O2
mdl
——
分子量
206.285
InChiKey
CQMHWINBDLYOQN-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

物化性质

  • 沸点:
    296.2±7.0 °C(Predicted)
  • 密度:
    1.124±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    3.2
  • 重原子数:
    15
  • 可旋转键数:
    3
  • 环数:
    4.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.77
  • 拓扑面积:
    26.3
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    2

上下游信息

  • 上游原料
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    2-乙烯基-3-苯基环氧乙烷1-adamantanecarboxylate vinyl ester二苯二硫醚 生成 1-adamantyl (2R,3S,5R)-2-ethenyl-5-phenyloxolane-3-carboxylate
    参考文献:
    名称:
    FELDMAN, KEN S.;FISHER, THORSTEN E., TETRAHEDRON, 45,(1989) N0, C. 2969-2977
    摘要:
    DOI:
  • 作为产物:
    描述:
    1-金刚烷甲酸乙烯硼酐吡啶络合物1,3-二乙基脲 、 copper(II) bis(trifluoromethanesulfonate) 、 三乙胺 作用下, 以 四氢呋喃 为溶剂, 反应 16.0h, 以90%的产率得到1-adamantanecarboxylate vinyl ester
    参考文献:
    名称:
    区域和立体选择性Chan-Lam-Evans烯醇与烯基硼氧烷的酯化
    摘要:
    提出了一种高效,可扩展的Cu(II)介导的烯基环硼氧烷和硼酸羧酸的烯醇酯化方法。该反应在脂肪族和芳香族羧酸与几种烯基环硼氧烷化合物的组合中显示出广泛的范围。对于2取代的烯基硼氧烷,双键构型完全保留在烯醇酯产品中。N-羟基酰亚胺和酰亚胺也可以在相应的酰氧基乙烯基烯醇醚和乙烯基酰胺中转化。最后,除甲硫氨酸外,所有其他19种规范氨基酸都显示出它们的相容性,从而以立体选择性方式生成烯醇酯。
    DOI:
    10.1002/adsc.201800914
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文献信息

  • Photoresists, polymers and processes for microlithography
    申请人:——
    公开号:US20040023150A1
    公开(公告)日:2004-02-05
    Photoresists and associated processes for microlithography in the extreme, far, and near UV are disclosed. The photoresists in some embodiments comprise (a) a fluorine-containing copolymer comprising a repeat unit derived from at least one ethylenically unsaturated compound characterized in that at least one ethylenically unsaturated compound is polycyclic and at least one ethylenically unsaturated compound contains at least one fluorine atom covalently attached to an ethylenically unsaturated carbon atom; and (b) at least one photoactive component. In other embodiments, the photoresists comprise a fluorine-containing copolymer comprising a repeat unit derived from at least one polycyclic ethylenically unsaturated compound having at least one atom or group selected from the group consisting of fluorine atom, perfluoroalkyl group, and perfluoroalkoxy group, characterized in that the at least one atom or group is covalently attached to a carbon atom which is contained within a ring structure and separated from each ethylenically unsaturated carbon atom of the ethylenically unsaturated compound by at least one covalently attached carbon atom. The photoresists have high transparency in the extreme/far UV as well as the near UV, high plasma etch resistance, and are useful for microlithography in the extreme, far, and near ultraviolet (UV) region, particularly at wavelengths ≦365 nm. Novel fluorine-containing copolymers are also disclosed.
    本文揭示了用于极端、远红外和近紫外微影的光阻及相关工艺。在某些实施例中,光阻包括(a)含有的共聚物,包括至少一个乙烯基不饱和化合物的重复单元,其特征在于至少一个乙烯基不饱和化合物是多环的,至少一个乙烯基不饱和化合物含有至少一个原子共价连接到一个乙烯基不饱和碳原子上;以及(b)至少一个光敏组分。在其他实施例中,光阻包括含有的共聚物,包括至少一个多环乙烯基不饱和化合物的重复单元,该乙烯基不饱和化合物具有至少一个来自原子、全氟烷基和全氟烷氧基的原子或基团,其特征在于至少一个原子或基团共价连接到一个环结构内的碳原子上,并且与每个乙烯基不饱和碳原子之间至少有一个共价连接的碳原子相隔开。这些光阻在极端/远红外和近紫外具有高透明度,高等离子体蚀刻抗性,并且适用于极端、远红外和近紫外(UV)区域的微影,特别是在波长≤365 nm的情况下。此外,还揭示了新型含共聚物。
  • ADAMANTANE DERIVATIVES AND PROCESSES FOR THE PREPARATION THEREOF
    申请人:Daicel Chemical Industries, Ltd.
    公开号:EP1164125A1
    公开(公告)日:2001-12-19
    Adamantane derivatives are represented by Formula (1), (6) or (9) : [In Formula (1), R1 is a hydrogen atom or a methyl group; each of R2 and R3 is, identical to or different from each other, a hydrogen atom or a methyl group; each of A1 and A2 is, identical to or different from each other, a -C(=O)-O- group or -O-C(=O)- group, where the right-hand side of these two groups is on the adamantane ring side; each of X1 and X2 is, identical to or different from each other, a straight- or branched-chain alkylene group having 1 to 12 carbon atoms. In Formula (6), each of R4 and R5 is, identical to or different from each other, a hydrogen atom or a methyl group; each of R6 and R7 is, identical to or different from each other, a hydrogen atom or a methyl group; each of A3 and A4 is, identical to or different from each other, a group represented by the following formula:-A5-O-C(=O)- (wherein A5 is a straight- or branched-chain alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, where the right-hand side of the above formula is on the adamantane ring side); X is a straight- or branched-chain alkylene group having 1 to 12 carbon atoms; and each of m and n is 0 or 1. In Formula (9), R8 is a hydrogen atom or a methyl group; each of R9 and R10 is, identical to or different from each other, a hydrogen atom or a methyl group; R11 is a hydrogen atom, a straight- or branched-chain alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or a group represented by the following Formula (10): (wherein R12 is an acryloyl group, methacryloyl group, 1-adamantylcarbonyl group or 3,5-dimethyladamant-1-ylcarbonyl group; and s is an integer from 1 to 6); and each of p, q and r is an integer from 1 to 6.] These adamantane derivatives are useful as, for example, raw materials for dental materials.
    金刚烷生物由式(1)、(6)或(9)表示: [在式(1)中,R1 是氢原子或甲基;R2 和 R3 各自是相同或不同的氢原子或甲基;A1和A2各自是相同或不同的-C(=O)-O-基团或-O-C(=O)-基团,其中这两个基团的右侧位于金刚烷环侧;X1和X2各自是相同或不同的具有1至12个碳原子的直链或支链亚烷基。在式(6)中,R4 和 R5 各自是相同或不同的氢原子或甲基;R6 和 R7 各自是相同或不同的氢原子或甲基;A3 和 A4 各自是相同或不同的下式所代表的基团:-A5-O-C(=O)-(其中 A5 是具有 1 至 6 个碳原子的直链或支链亚烷基,上式的右侧为金刚烷环侧); X 是具有 1 至 12 个碳原子的直链或支链亚烷基;m 和 n 均为 0 或 1。在式 (9) 中,R8 是氢原子或甲基;R9 和 R10 各自是相同或不同的氢原子或甲基;R11 是氢原子、具有 1 至 4 个碳原子的直链或支链烷基或下式 (10) 所代表的基团: (其中 R12 为丙烯酰基、甲基丙烯酰基、1-金刚烷基羰基或 3,5-二甲基金刚烷-1-基羰基;s 为 1 至 6 的整数);p、q 和 r 均为 1 至 6 的整数]。这些金刚烷生物可用作牙科材料的原料等。
  • Photoresists with hydroxylated, photoacid-cleavable groups
    申请人:E.I. du Pont de Nemours and Company
    公开号:EP1411389A1
    公开(公告)日:2004-04-21
    The present invention pertains to photoimaging and the use of photoresists (positive-working and/or negative-working) for imaging in the production of semiconductor devices. The present invention also pertains to novel hydroxy ester-containing polymer compositions that are useful as base resins in resists and potentially in many other applications.
    本发明涉及半导体器件生产中的光成像和用于成像的光刻胶(正片工作和/或负片工作)。本发明还涉及新型含羟基酯聚合物组合物,该组合物可用作光刻胶的基底树脂,也可用于许多其他应用。
  • Synthesis and polymerization of unsaturated derivatives of adamantane
    作者:S. S. Novikov、A. P. Khardin、S. S. Radchenko、S. G. Zlotin、B. S. Orlinson
    DOI:10.1007/bf00924564
    日期:1977.12
  • PHOTORESISTS, POLYMERS AND PROCESSES FOR MICROLITHOGRAPHY
    申请人:E.I. DUPONT DE NEMOURS AND COMPANY
    公开号:EP1131677A1
    公开(公告)日:2001-09-12
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