申请人:SAMSUNG SDI CO., LTD. 삼성에스디아이 주식회사(119980018058) Corp. No ▼ 110111-0394174BRN ▼124-81-31282
公开号:KR20170019031A
公开(公告)日:2017-02-21
본 발명의 테트라졸륨 화합물은 하기 화학식 1로 표시되는 것을 특징으로 한다. 상기 테트라졸륨 화합물은 저온에서도 에폭시 수지의 경화를 촉진할 수 있는 것으로서, 상기 테트라졸륨 화합물을 경화 촉매로 포함하는 에폭시 수지 조성물은 경화 시 미세기공의 발생이 적고, 휨 특성 등이 우수하다. [화학식 1] 상기 화학식 1에서, R, R 및 R는 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 탄화수소기, 헤테로 원자를 포함하는 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 탄화수소기 또는 할로겐기이고, R는 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 탄화수소기 또는 헤테로 원자를 포함하는 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 탄화수소기이며, a, b 및 c는 각각 독립적으로 0 내지 5의 정수이다.
本发明的四氮化合物以下述化学式1为特征。所述四氮化合物即使在低温下也能促进环氧树脂的固化,包含所述四氮化合物作为固化催化剂的环氧树脂组合物在固化时微孔的生成较少,且具有优异的弯曲特性等。[化学式1] 在上述化学式1中,R、R'和R''分别独立地是取代或未取代的含有1到30个碳原子的烃基,取代或未取代的含有1到30个碳原子或含有杂原子的烃基,或卤素基,R是取代或未取代的含有1到30个碳原子的烃基或含有杂原子的取代或未取代的含有1到30个碳原子的烃基,a、b和c分别独立地是0到5之间的整数。