4-hydroxy-adamantan-1-yl methacrylate | 769173-90-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: 4-hydroxy-adamantan-1-yl methacrylate
• 英文别名: (4-hydroxy-1-adamantyl) 2-methylprop-2-enoate
• CAS: 769173-90-2
• 化学式: C₁₄H₂₀O₃
• 分子量: 236.311
• InChiKey: MJSWNYKQSVGMTK-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.2
• 重原子数：
  17
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.79
• 拓扑面积：
  46.5
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  4-oxo-adamantan-1-yl methacrylate 、 2,2'-亚甲基双-(4-甲基-6-叔丁基苯酚) 在 盐酸 、 sodium borohydrid 作用下， 以 四氢呋喃 、 正己烷 、 乙酸乙酯 为溶剂， 以63%的产率得到4-hydroxy-adamantan-1-yl methacrylate
  参考文献：
  名称：

  POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS

  摘要：

  一种正性光刻胶组合物包括（A）在酸的作用下在碱性显影剂中变得可溶的树脂组分和（B）酸发生剂。树脂（A）是一种聚合物，包含由式（1）表示的非离去羟基的重复单元，其中R1为H、甲基或三氟甲基，X为单键或亚甲基，m为1或2，并且羟基连接到次级碳原子。当通过光刻工艺处理时，该组合物在分辨率方面得到改善。

  公开号：

  US20100062374A1

文献信息

• Radiation-sensitive resin composition
  申请人：——

  公开号：US20020009668A1

  公开（公告）日：2002-01-24

  A radiation-sensitive resin composition comprising an acid-labile group-containing resin and a photoacid generator is disclosed. The resin has a structure of the formula (1), 1 wherein R 1 represents a hydrogen atom, a monovalent acid-labile group, an alkyl group having 1-6 carbon atoms which does not have an acid-labile group, or an alkylcarbonyl group having 2-7 carbon atoms which does not have an acid-labile group, X 1 represents a linear or branched fluorinated alkyl group having 1-4 carbon atoms, and R 2 represents a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1-10 carbon atoms, or a linear or branched fluorinated alkyl group having 1-10 carbon atoms. The resin composition exhibits high transmittance of radiation, high sensitivity, resolution, and pattern shape, and is useful as a chemically amplified resist in producing semiconductors at a high yield.

  公开了一种辐射敏感的树脂组合物，包括一个含有酸敏感基团的树脂和一个光酸发生剂。该树脂的结构式为(1)，其中R1代表氢原子、一价酸敏感基团、不含酸敏感基团的1-6个碳原子的烷基或不含酸敏感基团的2-7个碳原子的烷基酰基，X1代表线性或支链的含有1-4个碳原子的氟化烷基，R2代表氢原子、含有1-10个碳原子的线性或支链烷基，或含有1-10个碳原子的线性或支链氟化烷基。该树脂组合物表现出辐射的高透过率、高敏感度、分辨率和图案形状，可用于在高产率下生产半导体中的化学放大图案。
• Organic antimony compound, process for producing the same, living radical polymerization initiator, process for producing polymer using the same, and polymer
  申请人：Yamago Shigeru

  公开号：US20090299008A1

  公开（公告）日：2009-12-03

  An organoantimony compound represented by the formula (1), processes for producing polymers with use of the compound, and polymers wherein R 1 and R 2 are C 1 -C 8 alkyl, aryl, substituted aryl or an aromatic heterocyclic group, R 3 and R 4 are each a hydrogen atom or C 1 -C 8 alkyl, and R 5 is aryl, substituted aryl, an aromatic heterocyclic group, oxycarbonyl or cyano.

  一种有机锑化合物，其化学式表示为（1），使用该化合物生产聚合物的方法，以及其中R1和R2为C1-C8烷基，芳基，取代芳基或芳香族杂环基，R3和R4分别为氢原子或C1-C8烷基，R5为芳基，取代芳基，芳香族杂环基，氧羰基或氰基的聚合物。
• POLYMERIZABLE SULFONIC ACID ONIUM SALT AND RESIN
  申请人：Nagai Tomoki

  公开号：US20100063232A1

  公开（公告）日：2010-03-11

  A resin that includes a repeating unit shown by the following formula (10) has an excellent performance as a radiation sensitive acid generator, and exhibits only a small adverse effect on the environment and a human body. wherein R 1 represents a hydrogen atom or the like, M + represents a specific cation, and n is an integer from 1 to 5.

  以下是翻译结果： 一种包括以下公式（10）所示的重复单元的树脂具有出色的辐射敏感酸发生剂性能，对环境和人体只有很小的负面影响。其中，R1代表氢原子或类似物，M+代表特定的阳离子，n为1至5的整数。
• ORGANOANTIMONY COMPOUND, PROCESS FOR PREPARING SAME, LIVING RADICAL POLYMERIZATION INITIATOR, PROCESS FOR PRODUCING POLYMER WITH USE OF SAME, AND THE POLYMER
  申请人：YAMAGO Shigeru

  公开号：US20110275774A1

  公开（公告）日：2011-11-10

  An organoantimony compound represented by the formula (1), processes for producing polymers with use of the compound, and polymers wherein R 1 and R 2 are C 1 -C 8 alkyl, aryl, substituted aryl or an aromatic heterocyclic group, R 3 and R 4 are each a hydrogen atom or C 1 -C 8 alkyl, and R 5 is aryl, substituted aryl, an aromatic heterocyclic group, oxycarbonyl or cyano.

  一种有机锑化合物，其化学式表示为(1)，使用该化合物制备聚合物的方法，以及其中R1和R2为C1-C8烷基、芳基、取代芳基或芳香族杂环基，R3和R4分别为氢原子或C1-C8烷基，R5为芳基、取代芳基、芳香族杂环基、氧羰基或氰基的聚合物。
• COMPOUND, SALT, AND RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION
  申请人：Ebata Takuma

  公开号：US20100221659A1

  公开（公告）日：2010-09-02

  A compound has a partial structure shown by a following formula (1), wherein R 1 represents a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, R 2 represents a substituted or unsubstituted hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, Rf represents a fluorine atom or a perfluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms, L represents an integer from 0 to 4, n represents an integer from 0 to 10, and m represents an integer from 1 to 4.

  以下是化合物的部分结构式（1），其中R1代表氢原子或具有1至8个碳原子的取代或未取代的碳氢基团，R2代表具有1至8个碳原子的取代或未取代的碳氢基团，Rf代表氟原子或具有1至4个碳原子的全氟烷基团，L表示从0到4的整数，n表示从0到10的整数，m表示从1到4的整数。