본 발명은 SGLT-2 억제제인 다파글리플로진 전구체의 제조방법에 관한 것으로서, 특히 대한민국 특허출원 10-2018-0022252호에 개시되어 있는 화학식 1 화합물인 다파글리플로진 전구체의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명의 제조방법은 반응시 저가의 시약인 출발물질과 반응물질을 사용함으로써 제조 비용을 절감할 수 있을 뿐만 아니라, 중간체의 정제 과정을 상당부분 배제할 수 있어 제조 시간 및 비용을 절감할 수 있으며, 향상된 수율로 목적 화합물을 제조할 수 있어 대량생산에 유용하게 사용될 수 있다.
本发明涉及SGLT-2
抑制剂Dapagliflozin的前体化合物的制备方法,特别是涉及
化学式1化合物Dapagliflozin前体的制备方法,该方法公开于韩国专利申请10-2018-0022252号。本发明的制备方法使用低成本的起始物和反应物来反应,不仅可以节省制造成本,还可以在很大程度上省略中间体的纯化过程,从而节省制造时间和成本,并且可以生产出高产率的目标化合物,可用于大规模生产。