[5,5,5-Trifluoro-4-(fluoromethyl)-4-hydroxypentan-2-yl] 2-methylprop-2-enoate

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: [5,5,5-Trifluoro-4-(fluoromethyl)-4-hydroxypentan-2-yl] 2-methylprop-2-enoate
• 英文别名: [5,5,5-trifluoro-4-(fluoromethyl)-4-hydroxypentan-2-yl] 2-methylprop-2-enoate
• 化学式: C₁₀H₁₄F₄O₃
• 分子量: 258.21
• InChiKey: HRFCCLBIXJMGOL-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.5
• 重原子数：
  17
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.7
• 拓扑面积：
  46.5
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  7

文献信息

• RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, POLYMER AND POLYMERIZABLE COMPOUND
  申请人：JSR Corporation

  公开号：US20160179003A1

  公开（公告）日：2016-06-23

  A radiation-sensitive resin composition includes a first polymer including an acid-labile group, an acid generator to generate an acid upon exposure to radiation, and a second polymer including a fluorine atom and a functional group shown by a general formula (x). The second polymer has a fluorine atom content higher than a fluorine atom content of the first polymer. R 1 represents an alkali-labile group. A represents an oxygen atom, —NR′—, —CO—O— # or —SO 2 —O— ## , wherein the oxygen atom represented by A is not an oxygen atom bonded directly to an aromatic ring, a carbonyl group, or a sulfoxyl group, R′ represents a hydrogen atom or an alkali-labile group, and “#” and “##” each indicate a bonding hand bonded to R 1 . -A-R 1 (x)

  一种辐射敏感的树脂组合物，包括第一聚合物，其中包括酸敏感基团，酸发生剂用于在辐射照射下生成酸，以及第二聚合物，其中包括氟原子和通过通用公式（x）所示的功能基团。第二聚合物的氟原子含量高于第一聚合物的氟原子含量。R1代表碱解基团。A代表氧原子，-NR′-，-CO-O-＃或-SO2-O-##，其中由A表示的氧原子不是直接与芳香环，羰基团或亚砜基团结合的氧原子，R′代表氢原子或碱解基团，“＃”和“##”分别表示与R1结合的键手。-A-R1（x）