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1,1,1-Trifluoro-2-(fluoromethyl)pent-4-en-2-ol

中文名称
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中文别名
——
英文名称
1,1,1-Trifluoro-2-(fluoromethyl)pent-4-en-2-ol
英文别名
1,1,1-trifluoro-2-(fluoromethyl)pent-4-en-2-ol
1,1,1-Trifluoro-2-(fluoromethyl)pent-4-en-2-ol化学式
CAS
——
化学式
C6H8F4O
mdl
——
分子量
172.12
InChiKey
LRXQOUBBEKIBRX-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    2
  • 重原子数:
    11
  • 可旋转键数:
    3
  • 环数:
    0.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.67
  • 拓扑面积:
    20.2
  • 氢给体数:
    1
  • 氢受体数:
    5

文献信息

  • Polymerizable Fluoromonomer, Fluoropolymer, Resist Material, and Method of Pattern Formation
    申请人:Central Glass Company, Limited
    公开号:US20140220490A1
    公开(公告)日:2014-08-07
    Disclosed is a polymerizable fluoromonomer represented by the following general formula (1). In the formula, R 1 represents a hydrogen atom, methyl group, fluorine atom, or trifluoromethyl group. n is an integer of 0 or 1, and m is that of from 1 to (3+n). R 2 and R 3 each independently represents a hydrogen atom or a protective group. A resist containing a fluoropolymer obtained by polymerizing or copolymerizing the monomer is suitable for use in microfabrication by immersion exposure or by a double patterning process based on immersion exposure.
    本发明揭示了一种可聚合的单体,其通式如下(1)。在该式中,R1表示氢原子、甲基基团、原子或三甲基基团。n为0或1的整数,m为1到(3+n)的整数。R2和R3各自独立地表示氢原子或保护基团。通过聚合或共聚合该单体得到的聚合物的抗蚀剂适用于通过浸涂曝光或基于浸涂曝光的双重图案化过程进行微细加工。
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