Methyl 2-[[4,4,4-trifluoro-3-hydroxy-3-(trifluoromethyl)butoxy]methyl]prop-2-enoate

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: Methyl 2-[[4,4,4-trifluoro-3-hydroxy-3-(trifluoromethyl)butoxy]methyl]prop-2-enoate
• 英文别名: methyl 2-[[4,4,4-trifluoro-3-hydroxy-3-(trifluoromethyl)butoxy]methyl]prop-2-enoate
• 化学式: C₁₀H₁₂F₆O₄
• 分子量: 310.19
• InChiKey: LPAFFEVHDMPJQB-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.2
• 重原子数：
  20
• 可旋转键数：
  7
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.7
• 拓扑面积：
  55.8
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  10

文献信息

• Production method of composition for resist top coat layer, method of forming resist pattern, production method of fluorine-containing resin, and method of improving water repellency of resist top coat layer
  申请人：JSR CORPORATION

  公开号：US11340528B2

  公开（公告）日：2022-05-24

  Disclosed herein is a method for producing a composition for resist top coat layer, the method including: polymerizing a monomer solution containing a fluorine-containing monomer in a presence of a polymerization initiator that cleaves to generate an active species having 7 or more carbon atoms in total to obtain a fluorine-containing resin A; and mixing the fluorine-containing resin A and a solvent.

  本文公开了一种用于生产抗蚀剂面漆层组合物的方法，该方法包括：在聚合引发剂存在下，聚合含有含氟单体的单体溶液，聚合引发剂裂解生成总共具有 7 个或更多碳原子的活性物种，从而获得含氟树脂 A；以及混合含氟树脂 A 和溶剂。
• COMPOSITION, RESIST PATTERN-FORMING METHOD, COMPOUND, METHOD FOR PRODUCTION OF COMPOUND, AND POLYMER
  申请人：JSR CORPORATION

  公开号：US20140248563A1

  公开（公告）日：2014-09-04

  A composition includes a polymer component including a first polymer having a first structural unit represented by a following formula (1), and a solvent. In the formula (1), R 1 represents a hydrogen atom or a monovalent organic group having 1 to 20 carbon atoms. R 2 represents a single bond or a divalent organic group having 1 to 20 carbon atoms. R 3 represents a hydrogen atom or a monovalent organic group having 1 to 20 carbon atoms. R Q represents a perfluoroalkyl group having 1 to 5 carbon atoms. R X represents a hydrogen atom or a monovalent base-labile group.
• PRODUCTION METHOD OF COMPOSITION FOR RESIST TOP COAT LAYER, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, PRODUCTION METHOD OF FLUORINE-CONTAINING RESIN, AND METHOD OF IMPROVING WATER REPELLENCY OF RESIST TOP COAT LAYER
  申请人：JSR CORPORATION

  公开号：US20210181630A1

  公开（公告）日：2021-06-17

  Disclosed herein is a method for producing a composition for resist top coat layer, the method including: polymerizing a monomer solution containing a fluorine-containing monomer in a presence of a polymerization initiator that cleaves to generate an active species having 7 or more carbon atoms in total to obtain a fluorine-containing resin A; and mixing the fluorine-containing resin A and a solvent.
• US9268225B2
  申请人：——

  公开号：US9268225B2

  公开（公告）日：2016-02-23
• [EN] METHOD FOR PRODUCING COMPOSITION FOR NON-PHOTOSENSITIVE UPPER FILM FORMATION, PATTERN FORMATION METHOD, AND METHOD FOR PRODUCING ELECTRONIC DEVICE<br/>[FR] PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UNE COMPOSITION POUR LA FORMATION DE FILM SUPÉRIEUR NON PHOTOSENSIBLE, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE<br/>[JA] 非感光性上層膜形成用組成物の製造方法、パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法
  申请人：FUJIFILM CORP

  公开号：WO2022045219A1

  公开（公告）日：2022-03-03

  被加工体及び感光性レジスト膜の上に配置される非感光性上層膜を形成するための非感光性上層膜形成用組成物の製造方法であって、非感光性上層膜形成用組成物ＸＡの製造装置を洗浄液で洗浄し、上記洗浄液中に含まれる樹脂の濃度が１０質量ｐｐｍ以下となるまで上記製造装置の洗浄を行った後に、上記洗浄液を上記製造装置から排出し、その後、上記製造装置で上記非感光性上層膜形成用組成物ＸＡを製造する、非感光性上層膜形成用組成物の製造方法、上記非感光性上層膜形成用組成物の製造方法を用いるパターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法により、欠陥の発生が抑制されたパターンを形成することができる非感光性上層膜形成用組成物の製造方法、パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法が提供される。