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3-Aethyl-4-methyl-hexanol-3 | 51200-80-7

中文名称
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中文别名
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英文名称
3-Aethyl-4-methyl-hexanol-3
英文别名
3-ethyl-4-methyl-hexan-3-ol;3-Aethyl-4-methyl-hexan-3-ol;3-Ethyl-4-methylhexan-3-ol
3-Aethyl-4-methyl-hexanol-3化学式
CAS
51200-80-7
化学式
C9H20O
mdl
——
分子量
144.257
InChiKey
YOCLWWFBEJQTBM-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    2.9
  • 重原子数:
    10
  • 可旋转键数:
    4
  • 环数:
    0.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    1.0
  • 拓扑面积:
    20.2
  • 氢给体数:
    1
  • 氢受体数:
    1

反应信息

  • 作为反应物:
    参考文献:
    名称:
    metacycloprodigiosin的结构
    摘要:
    Metacycloprodigiosin,prodigiosin的类似物,是从长链霉菌(Streptomyces longisporus ruber)分离得到的,具有结构1。有助于阐明1的结构的穷举还原技术通常已用于烷基吡咯的还原。讨论了烷基吡咯和其他杂环系统的质谱裂解模式中的新颖特征。
    DOI:
    10.1016/0040-4020(76)85186-1
  • 作为产物:
    描述:
    参考文献:
    名称:
    Vasi,I.G.; Thaker,K.A., Journal of the Indian Chemical Society, 1970, vol. 47, # 2, p. 173 - 175
    摘要:
    DOI:
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文献信息

  • [EN] PATTERN FORMING METHOD, METHOD FOR SELECTING HEATING TEMPERATURE IN PATTERN FORMING METHOD, EXTREME ULTRAVIOLET-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM, MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONIC DEVICE USING THE SAME, AND ELECTRONIC DEVICE<br/>[FR] PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN MOTIF, PROCÉDÉ DE SÉLECTION D'UNE TEMPÉRATURE DE CHAUFFAGE AU COURS DU PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN MOTIF, COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE À L'ULTRAVIOLET EXTRÊME, FILM DE RÉSERVE, PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE ASSOCIÉ ET DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE
    申请人:FUJIFILM CORP
    公开号:WO2013147325A1
    公开(公告)日:2013-10-03
    There is provided a pattern forming method comprising, in order: (i) a step of forming a film by using an extreme ultraviolet-sensitive resin composition containing (A) a resin having an acid-decomposable group; (ii) a step of exposing the film by using an extreme ultraviolet ray; (iii) a step of heating the film; and (iv) a step of developing the film to form a pattern, wherein in the step (ii), an optical image formed by exposure on the surface of the film is an optical image having a line part with a line width of 20 nm or less as an exposed area or an unexposed area, and, the heating temperature TPEB (°C) in the step (iii) satisfies the specific formula.
  • The structure of metacycloprodigiosin
    作者:H.H. Wasserman、D.D. Keith、G.C. Rodgers
    DOI:10.1016/0040-4020(76)85186-1
    日期:1976.1
    Metacycloprodigiosin, an analog of prodigiosin, was isolated from Streptomyces longisporus ruber, and shown to have structure 1. An exhaustive reduction technique, instrumental in elucidating the structure of 1 has been generally applied to the reduction of alkylpyrroles. Novel features in the mass spectral cracking pattern of alkylpyrroles and other heterocyclic systems are discussed.
    Metacycloprodigiosin,prodigiosin的类似物,是从长链霉菌(Streptomyces longisporus ruber)分离得到的,具有结构1。有助于阐明1的结构的穷举还原技术通常已用于烷基吡咯的还原。讨论了烷基吡咯和其他杂环系统的质谱裂解模式中的新颖特征。
  • Vasi,I.G.; Thaker,K.A., Journal of the Indian Chemical Society, <hi>1970</hi>, vol. 47, # 2, p. 173 - 175
    作者:Vasi,I.G.、Thaker,K.A.
    DOI:——
    日期:——
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