本发明提供一种温和的取代
吡咯磺酰胺脱保护方法,属于有机合成领域。直接以
吡咯为起始原料制备多取代
吡咯的方法较之环化法大大缩短了合成路线,且取代基的引入种类也更为灵活;但以
吡咯为原料时需要先对环上氮原子予以保护,反应结束时再将该保护基脱除。N,N‑二甲磺酰胺基作为一种吸电子能力较强的基团,在作为
吡咯保护基方面具有极大的优势,但目前未见有该保护基脱除方面的报道。本发明旨在使用一种新的方法对该保护基进行脱除,通过一种温和的方法,有效的将
吡咯氯原子上的基团—N,N‑二甲磺酰胺基脱除,为制备多取代
吡咯奠定了基础。结果表明,本方法不仅可有效脱除N,N‑二甲磺酰胺基,其对卤素的脱除也有一定的借鉴意义。