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1-adamantylmethyl chloromethyl ether

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
1-adamantylmethyl chloromethyl ether
英文别名
(chloromethyl) (1-adamantylmethyl) ether;1-[(Chloromethoxy)methyl]adamantane;1-(chloromethoxymethyl)adamantane
1-adamantylmethyl chloromethyl ether化学式
CAS
——
化学式
C12H19ClO
mdl
——
分子量
214.735
InChiKey
QBAUQDFDSGHDNO-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    3.7
  • 重原子数:
    14
  • 可旋转键数:
    3
  • 环数:
    4.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    1.0
  • 拓扑面积:
    9.2
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    1

上下游信息

  • 上游原料
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    1-adamantylmethyl chloromethyl ether 以74%的产率得到4-(1-adamantylmethylmethoxy)phenyl methacrylate
    参考文献:
    名称:
    MONOMER, POLYMER, CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
    摘要:
    一种聚合物是由一种具有酸敏感基团的羟基苯甲酸甲酯单体合成得到的。该聚合物作为基础树脂的正性光阻组合物具有极高的曝光前后碱溶解速率对比度、高分辨率、曝光后图案的良好轮廓和极小的线边粗糙度、缓慢的酸扩散速率和良好的蚀刻抗性。
    公开号:
    US20110294070A1
  • 作为产物:
    描述:
    聚合甲醛1-金刚烷甲醇盐酸 、 magnesium sulfate 作用下, 以 二氯甲烷 为溶剂, 反应 2.0h, 以77.8%的产率得到1-adamantylmethyl chloromethyl ether
    参考文献:
    名称:
    Adamantyl vinyl ether compound and production process for the same
    摘要:
    本发明提供了一种具有特定结构的脂肪基乙烯醚化合物,可用作光刻领域功能树脂的单体或其原料,以及医药和农业中间体,以及其生产工艺。本发明涉及一种脂肪基乙烯醚化合物的生产工艺,其特征在于将具有特定结构的脂肪基乙烯醚化合物和具有β位消除基团的醇经过氯烷醚化反应,然后经过醚化反应形成含有脂肪基的醚,最后经过乙烯醚化反应。
    公开号:
    EP1486480A1
  • 作为试剂:
    描述:
    聚合甲醛1-金刚烷甲醇盐酸1-adamantylmethyl chloromethyl ether 作用下, 反应 12.0h, 以to obtain 1-adamantylmethyl chloromethyl ether (compound 3)的产率得到1-adamantylmethyl chloromethyl ether
    参考文献:
    名称:
    Polymer Compound, Photoresist Composition Including the Polymer Compound, and Resist Pattern Formation Method
    摘要:
    本发明提供了一种聚合物化合物,该化合物可以构成一种光刻胶组合物,该组合物能够具有优异的分辨率,形成具有良好矩形度的精细图案,即使从酸发生器生成的酸的强度较弱,也能获得良好的抗性特性,并具有良好的灵敏度;包括该聚合物化合物的光刻胶组合物;以及使用该光刻胶组合物的抗性图案形成方法。该光刻胶组合物和抗性图案形成方法使用包括碱溶性基团(i)的聚合物化合物,其中碱溶性基团(i)是从醇羟基、羧基或酚羟基中至少选择一个取代基团,并且该取代基团由一种酸解离、抑制溶解的基团(ii)保护,该基团由通式(1)表示:—CH2—OCH2nR1(1)(其中R1表示不含有超过20个碳原子的环烷基团,可能含有氧原子、氮原子、硫原子或卤素原子,n表示0或1到5的整数)。
    公开号:
    US20080166655A1
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文献信息

  • Fluorinated compound, fluoropolymer and method for producing the compound
    申请人:Asahi Glass Company, Limited
    公开号:US07825275B2
    公开(公告)日:2010-11-02
    To provide a novel fluorinated compound, a fluoropolymer and a method for producing the compound. A compound represented by the formula CF2═CFCF2C(X)(C(O)OZ)(CH2)nCR═CHR (wherein X is a hydrogen atom, a cyano group or a group represented by the formula —C(O)OZ, Z is a hydrogen atom or a C1-20 monovalent organic group, n is 0, 1, or 2, and R is a hydrogen atom or a C1-20 monovalent organic group), a method for producing it, and a fluoropolymer obtained by polymerizing the compound.
    提供一种新型化合物、聚合物以及制备该化合物的方法。 一种由下式表示的化合物CF2═CFCF2C(X)(C(O)OZ)(CH2)nCR═CHR(其中X为氢原子、基或由式—C(O)OZ表示的基团,Z为氢原子或C1-20单价有机基团,n为0、1或2,R为氢原子或C1-20单价有机基团),以及制备该化合物的方法,以及通过聚合该化合物获得的聚合物。
  • SALT, PHOTORESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR PRODUCING PHOTORESIST PATTERN
    申请人:ICHIKAWA Koji
    公开号:US20120264060A1
    公开(公告)日:2012-10-18
    A salt represented by formula (I): wherein Q 1 and Q 2 independently each represent a fluorine atom or a C1-C6 perfluoroalkyl group, L 1 represents a C1-C17 divalent saturated hydrocarbon group in which a methylene group may be replaced by an oxygen atom or a carbonyl group, L 2 and L 3 respectively represent a single bond or a C1-C6 divalent saturated alkyl group in which a methylene group may be replaced by an oxygen atom or a carbonyl group, ring W 1 and ring W 2 respectively represent a C3-C36 hydrocarbon ring, R 1 and R 2 respectively represent a hydrogen atom or C1-C6 alkyl group, R 3 represents C1-C6 alkyl group, t represents an integer of 0 to 2 and Z + represents an organic counter ion
    一种由化学式(I)表示的盐:其中Q1和Q2分别代表原子或C1-C6全氟烷基基团,L1代表C1-C17的二价饱和碳氢基团,其中一个亚甲基基团可被氧原子或羰基取代,L2和L3分别代表单键或C1-C6的二价饱和烷基基团,其中一个亚甲基基团可被氧原子或羰基取代,环W1和环W2分别代表C3-C36的碳氢环,R1和R2分别代表氢原子或C1-C6烷基基团,R3代表C1-C6烷基基团,t代表0到2之间的整数,Z+代表有机对离子。
  • COMPOUND, RESIN, PHOTORESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR PRODUCING PHOTORESIST PATTERN
    申请人:ICHIKAWA Koji
    公开号:US20120295201A1
    公开(公告)日:2012-11-22
    A compound represented by formula (I): wherein T 1 represents a single bond or a C6-C14 aromatic hydrocarbon group, L 1 represents a C1-C17 divalent saturated hydrocarbon group in which a methylene group may be replaced by an oxygen atom or a carbonyl group, L 2 and L 3 each independently represent a single bond or a C1-C6 divalent saturated hydrocarbon group in which a methylene group may be replaced by an oxygen atom or a carbonyl group, ring W 1 and ring W 2 each independently represent a C3-C36 hydrocarbon ring, R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, a hydroxyl group, or C1-C6 alkyl group, R 3 and R 4 each independently represent a hydroxyl group, or C1-C6 alkyl group, R 5 represents a hydroxyl group or a methyl group, m represents 0 or 1, and t and u each independently represent an integer of 0 to 2.
    一个由化学式(I)表示的化合物:其中T1代表一个单键或一个C6-C14芳香烃基,L1代表一个C1-C17二价饱和碳氢基团,其中一个亚甲基基团可以被氧原子或羰基所取代,L2和L3分别独立地代表一个单键或一个C1-C6二价饱和碳氢基团,其中一个亚甲基基团可以被氧原子或羰基所取代,环W1和环W2分别独立地代表一个C3-C36碳氢环,R1和R2分别独立地代表一个氢原子、一个羟基或一个C1-C6烷基基团,R3和R4分别独立地代表一个羟基或一个C1-C6烷基基团,R5代表一个羟基或一个甲基基团,m代表0或1,t和u分别独立地代表0到2之间的整数。
  • Adamantane derivative and process for producing the same
    申请人:Tanaka Shinji
    公开号:US20060149073A1
    公开(公告)日:2006-07-06
    Provided is an adamantane derivative represented by Formula (I) or (II): wherein X represents a halogen atom; Y represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a halogenated alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a halogen atom or a hetero atom-containing group; R 1 to R 4 represent independently hydrogen, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or a halogenated alkyl group having 1 to 10 carbon atoms; m represents an integer of 0 to 15, and n represents an integer of 0 to 10; and excluded is a case where in Formula (I), m and n are 0 at the same time and R 3 and R 4 are a hydrogen atom at the same time. Capable of being provided is a novel adamantane derivative which is useful as a modifying agent for a resin for a photoresist and a dry etching resistance-improving agent in the photolithography field, agricultural and medical intermediates and other various industrial products.
    提供的是由公式(I)或(II)表示的金刚烷生物:其中X代表卤素原子;Y代表具有1至10个碳原子的烷基,具有1至10个碳原子的卤代烷基,卤素原子或含杂原子的基团;R1至R4独立地代表氢、卤素原子、具有1至10个碳原子的烷基或具有1至10个碳原子的卤代烷基;m表示0至15的整数,n表示0至10的整数;在公式(I)中,m和n同时为0且R3和R4同时为氢原子的情况被排除。能够提供一种新的金刚烷生物,其可用作光刻胶树脂的改性剂和光刻工艺中的干法蚀刻抗性改进剂,以及农业和医学中间体和其他各种工业产品。
  • Photoroesists Comprising Polymers Derived From Fluoroalcohol-Substituted Polycyclic Monomers
    申请人:Crawford Karl Michael
    公开号:US20070207413A1
    公开(公告)日:2007-09-06
    The present invention relates to novel unsaturated polycyclic compounds containing two fluoroalcohol substitutents. This invention also relates to homopolymers and copolymers derived from such unsaturated polycyclic compounds. The copolymers are useful for photoimaging compositions and, in particular, photoresist compositions (positive-working and/or negative-working) for imaging in the production of semiconductor devices. The polymers are especially useful in photoresist compositions having high UV transparency (particularly at short wavelengths, e.g., 157 nm) which are useful as base resins in resists and potentially in many other applications.
    本发明涉及一种新型不饱和多环化合物,其中包含两个醇取代基。本发明还涉及从这种不饱和多环化合物衍生出的同聚物和共聚物。这些共聚物可用于光影像组合物,特别是用于制造半导体器件的光阻组合物(正像和/或负像)。这些聚合物在高紫外线透明度(特别是在短波长,例如157nm处)的光阻组合物中特别有用,可用作光阻的基础树脂,潜在地可用于许多其他应用。
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