(S)-AV1013-HCl

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 吡唑并吡啶类
• 英文名称: (S)-AV1013-HCl
• 化学式: C₁₃H₁₇N₃O*ClH
• 分子量: 267.758
• InChiKey: DDZDYNWMTBJGLH-FVGYRXGTSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.41
• 重原子数：
  18.0
• 可旋转键数：
  3.0
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.38
• 拓扑面积：
  60.39
• 氢给体数：
  1.0
• 氢受体数：
  4.0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  (S)-AV1013-HCl 、 盐酸 以to obtain the intermediate isopropylpyrazolo[1,5-a]pyridine (IPPP)的产率得到2-异丙基吡唑并[1,5-a]吡啶
  参考文献：
  名称：

  Enantiomeric compositions of 2-amino-1-(2-isopropylpyrazolo[1,5-α]pyridin-3-yl)propan-1-one and related methods

  摘要：

  对映纯的(S)-2-氨基-1-(2-异丙基吡唑[1,5-a]吡啶-3-基)丙酮，(S)-AV1013，是治疗神经病痛、成瘾行为和药物戒断症状的候选治疗药物。还描述了制备和使用(S)-AV1013及其药学上可接受的盐以及相应的药学上可接受的制剂的方法。

  公开号：

  US08119657B2
• 作为产物：
  描述：

  异丁司特 在 盐酸 、 aluminum (III) chloride 、 硫酸 、 sodium hydride 作用下， 以 甲醇 、 乙醇 、 二氯甲烷 、 二氧化碳 、 水 、 N,N-二甲基甲酰胺 、 mineral oil 为溶剂， 反应 93.34h， 生成 (S)-AV1013-HCl
  参考文献：
  名称：

  ENANTIOMERIC COMPOSITIONS OF 2-AMINO-1-(2-ISOPROPYLPYRAZOLO[1,5-a]PYRIDIN-3-YL)PROPAN-1-ONE AND RELATED METHODS

  摘要：

  (S)-2-氨基-1-(2-异丙基吡唑并[1,5-a]吡啶-3-基)丙酮，即(S)-AV1013，是一种治疗神经痛、成瘾行为和药物戒断症状的候选治疗药物。还描述了制备和使用(S)-AV1013及其药用可接受盐以及相同药用可接受配方的方法。

  公开号：

  US20100324082A1

文献信息

• METHOD OF FORMING PATTERN AND COMPOSITION FOR FORMING OF ORGANIC THIN-FILM FOR USE THEREIN
  申请人：Shimizu Daisuke

  公开号：US20100233635A1

  公开（公告）日：2010-09-16

  A method for forming a pattern contains (1) a step of forming an underlayer film containing (A) a radiation-sensitive acid generator capable of generating an acid upon exposure to radiation rays or (B) a radiation-sensitive base generator capable of generating a base upon exposure to radiation rays on a substrate; (2) a step of irradiating the underlayer film with radiation rays through a mask with a predetermined pattern to obtain an exposed underlayer film portion having been selectively exposed through the predetermined pattern; (3) a step of forming (C) an organic thin film on the underlayer film so as to attain chemical bonding of the exposed underlayer film portion with the organic thin-film formed on the exposed underlayer film portion; and (4) a step of removing the organic thin film formed on areas of the underlayer film other than the exposed underlayer film portion.

  一种形成图案的方法包括：（1）在基板上形成一个底层薄膜，该底层薄膜包含（A）一种辐射敏感的酸发生剂，能够在辐射射线的作用下产生酸，或者（B）一种辐射敏感的碱发生剂，能够在辐射射线的作用下产生碱；（2）通过一个预定图案的掩模，用辐射射线照射底层薄膜，以获得已通过预定图案选择性暴露的底层薄膜部分；（3）在底层薄膜上形成一层有机薄膜，以实现暴露的底层薄膜部分与形成在暴露的底层薄膜部分上的有机薄膜的化学键合；（4）去除除暴露的底层薄膜部分外的底层薄膜区域上形成的有机薄膜。
• Acenaphthylene derivative, polymer, and antireflection film-forming composition
  申请人：JSR Corporation

  公开号：EP1386904B1

  公开（公告）日：2008-09-17
• POLYMERE D'ACROLEINE BIORESSOURCE, SON PROCEDE D'OBTENTION ET SES UTILISATIONS
  申请人：Arkema France

  公开号：EP2288629A1

  公开（公告）日：2011-03-02
• COMPOSITION FOR FORMING LOWER LAYER FILM AND PATTERN FORMING METHOD
  申请人：Yoshimura Nakaatsu

  公开号：US20090098486A1

  公开（公告）日：2009-04-16

  A composition for forming a lower layer film comprises a polymer (A) having a naphthalene derivative structural unit shown by the following formula (1), wherein R 1 represents a hydroxyl group and the like, X represents a substitutable alkylene group having 1 to 20 carbon atoms and the like, n represents 0 to 6, m represents 1 to 8, and n+m represents an integer from 1 to 8, provided that two or more R 1 s may be the same or different and two or more Xs may be the same or different.
• COMPOSITION FOR FORMING RESIST LOWER LAYER FILM
  申请人：Yoshimura Nakaatsu

  公开号：US20110251323A1

  公开（公告）日：2011-10-13

  A composition for forming a resist lower layer film, which contains (A) a resin, (B) a butyl ether group-containing crosslinking agent and (C) a solvent.