sodium 4-(methacryloxy)-2,3,5,6-tetrafluorobenzenesulfonate

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯酚酯
• 英文名称: sodium 4-(methacryloxy)-2,3,5,6-tetrafluorobenzenesulfonate
• 英文别名: Sodium 2,3,5,6-tetrafluoro-4-(methacryloyloxy)benzene sulfonate；sodium;2,3,5,6-tetrafluoro-4-(2-methylprop-2-enoyloxy)benzenesulfonate
• 化学式: C₁₀H₅F₄O₅S*Na
• 分子量: 336.196
• InChiKey: MHCPUQDZFYQSCQ-UHFFFAOYSA-M

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -1.37
• 重原子数：
  21
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.1
• 拓扑面积：
  91.9
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  9

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  sodium 4-(methacryloxy)-2,3,5,6-tetrafluorobenzenesulfonate 、 三苯基溴化锍 在 solution 、 ammonium hydroxide 、 水 、 Sodium sulfate-III 、 对苯二酚 作用下， 以 乙腈 为溶剂， 生成 三苯基锍 2,3,5,6-四氟-4-(甲基丙烯酰氧基)苯磺酸盐
  参考文献：
  名称：

  POLYMERIZABLE PHOTOACID GENERATORS

  摘要：

  一种化合物的化学式为（I）：Q-O-(A)-Z−G+(I)，其中Q是卤代或非卤代的C2-30含烯基的基团，A是氟代的C1-30烷基烯基基团、氟代的C3-30环烷基烷基基团、氟代的C6-30芳基基团或氟代的C7-30烷基芳基基团，Z是包含磺酸盐、磺酰胺或磺酰胺的阴离子基团，G+的化学式为（II）：其中X为S或I，每个R0为卤代或非卤代且独立的C1-30烷基基团；多环或单环的C3-30环烷基基团；多环或单环的C4-30芳基基团；或这些的组合，当X为S时，其中一个R0基团可选择通过单键连接到相邻的一个R0基团上，且a为2或3，当X为I时，a为2，当X为S时，a为3。还公开了一种共聚物、光刻胶、涂层基板和制备图案的方法。

  公开号：

  US20120171616A1
• 作为产物：
  描述：

  2,3,5,6-四氟苯酚 在 硫酸 、 三氧化硫 、 三氟乙酸 、 三氟乙酸酐 、 sodium chloride 作用下， 生成 sodium 4-(methacryloxy)-2,3,5,6-tetrafluorobenzenesulfonate
  参考文献：
  名称：

  Novel anionic photoacid generators (PAGs) and corresponding PAG bound polymers for sub-50 nm EUV lithography

  摘要：

  制备了一系列新的阴离子光酸发生器（PAG）和相应的聚合物。PAG 结合聚合物的热稳定性优于 PAG 共混聚合物。与 PAG 共混聚合物相比，加入聚合物主链的 PAG 具有更高的分辨率。极紫外光刻（EUVL）结果证明了这一点：氟 PAG 结合聚合物抗蚀剂可产生 45 nm（1:1）、35 nm（1:2）、30 nm（1:3）和 20 nm（1:4）的线/空间以及 50 nm（1:1）的弯头图案。

  DOI：

  10.1039/b617133h

文献信息

• [EN] BENZOSULFONYL COMPOUNDS<br/>[FR] COMPOSÉS DE BENZOSULFONYLE
  申请人：VIVACE THERAPEUTICS INC

  公开号：WO2019040380A1

  公开（公告）日：2019-02-28

  Provided herein are compounds and pharmaceutical compositions comprising said compounds that are useful for treating cancers. Specific cancers include those that are mediated by YAP/TAZ or those that are modulated by the interaction between YAP/TAZ and TEAD.

  本文提供了包含所述化合物的用于治疗癌症的药物组合物。具体的癌症包括那些由YAP/TAZ介导或由YAP/TAZ与TEAD相互作用调节的癌症。
• [EN] SUGAR-LINKER-DRUG CONJUGATES<br/>[FR] CONJUGUÉS DE MÉDICAMENT-SÉQUENCE DE LIAISON DU SUCRE
  申请人：UNIV ARIZONA

  公开号：WO2014145109A1

  公开（公告）日：2014-09-18

  The present disclosure relates to sugar-linker-drug conjugates, of the formula [A-B-]n-L-D, wherein A is a saccharide; B is a spacer, n is an integer selected from 1 to 3; L is a linker group and D is a drug having a chemically reactive functional group selected from the group consisting of a primary or secondary amine, hydroxyl, sulfhydryl, carboxyl, aldehyde and ketone. Pharmaceutical compositions comprising the conjugates and methods of using thern are also provided.

  本公开涉及糖-连接剂-药物共轭物，其化学式为[A-B-]n-L-D，其中A是一种糖类；B是一个间隔物，n是从1到3中选择的整数；L是一个连接基团，D是一种具有从一次或二次胺、羟基、硫醇、羧基、醛基和酮基中选择的化学反应性官能团的药物。还提供了包括这些共轭物的药物组合物和使用方法。
• COVALENTLY ATTACHED ANTIMICROBIAL POLYMERS
  申请人：Steinberg Thorsten

  公开号：US20130338326A1

  公开（公告）日：2013-12-19

  The present invention relates to substrates comprising covalently attached antimicrobial polymers, which act as synthetic mimics of antimicrobial peptides (SMAMPs) and are preferably obtained by ring opening metathesis polymerization (ROMP). The inventive antimicrobial polymers exhibit a molecular weight of more than 100,000 g mol −1 and are preferably covalently attached to the surface of a substrate, e.g. an implant, a medical device, medical equipment or a (tissue-supporting) biomaterial, etc. Covalent bonding may be carried out using a photoreactive crosslinker but also by “grafting onto” or “grafting from”. The present invention is also directed to uses of the inventive antimicrobial polymers as defined herein, e.g. for antimicrobially coating a surface of such a substrate with a layer of the inventive antimicrobial polymer.

  本发明涉及包含共价连接的抗菌聚合物的基板，这些聚合物作为抗菌肽（SMAMPs）的合成模拟体，并且最好是通过环烯烃开环甲基交换聚合（ROMP）获得的。这种创新的抗菌聚合物的分子量超过100,000克/摩尔，并且最好是共价连接到基板表面上，例如植入物、医疗器械、医疗设备或（支持组织的）生物材料等。共价键合可以使用光反应性交联剂进行，也可以通过“接枝到”或“接枝自”来进行。本发明还涉及如上所定义的创新抗菌聚合物的用途，例如，用创新抗菌聚合物的层对这种基板的表面进行抗菌涂层。
• Novel polymeric anionic photoacid generators (PAGs) and corresponding polymers for 193 nm lithography
  作者：Mingxing Wang、Nathan D. Jarnagin、Cheng-Tsung Lee、Clifford L. Henderson、Wang Yueh、Jeanette M. Roberts、Kenneth E. Gonsalves

  DOI：10.1039/b607918k

  日期：——

  A series of new anionic PAGs, as well as PAG-bound polymers designed for use in 193 nm photoresist materials, have been synthesized and characterized. These novel materials provide optical transparency at 193 nm and also good etch resistance. PAG incorporated resists and PAG blended resists were exposed at a wavelength of 193 nm using an ASML 5500/950B optical lithography system with 0.63 NA. Exposed wafers were evaluated using SEM. The fluorine substituted PAG bound polymer and PAG blend resist provided a 110 nm (220 nm pitch) line/space at 11.5, 13.0 mJ cm−2, and 80 nm isolated features at 3 and 1 mJ cm−2, respectively. The LER (3σ) results showed that the fluorinated PAG bound polymer has LER values of 6.7 and 6.8 nm for isolated 80 nm and dense 110 nm lines, respectively, while the fluorinated PAG blend resist has LER values of 8.6 and 8.9 nm. The improvement may be due to the direct bonding of PAG into the polymer main-chain, which provides a more uniform distribution, thereby controlling acid diffusion and allowing a higher loading of PAG than the blend sample. The fluorine-free PAG bound or blend resists showed lower photospeed compared to photoresists based on fluorine-substituted PAGs.

  我们合成了一系列新型阴离子 PAG 以及 PAG 结合聚合物，并对其进行了表征，这些聚合物设计用于 193 纳米光刻胶材料。这些新型材料在 193 纳米波长下具有光学透明度和良好的抗蚀刻性。使用波长为 193 纳米的 ASML 5500/950B 光学光刻系统（0.63 NA），对含有 PAG 的光刻胶和 PAG 混合光刻胶进行了曝光。使用 SEM 对曝光的晶片进行评估。氟取代的 PAG 结合聚合物和 PAG 混合抗蚀剂分别在 11.5 和 13.0 mJ cm-2 下提供了 110 nm（220 nm 间距）的线/间距，在 3 和 1 mJ cm-2 下提供了 80 nm 的孤立特征。LER (3σ) 结果显示，含氟 PAG 结合聚合物的 80 nm 隔离线和 110 nm 密集线的 LER 值分别为 6.7 nm 和 6.8 nm，而含氟 PAG 混合抗蚀剂的 LER 值分别为 8.6 nm 和 8.9 nm。这种改进可能是由于 PAG 直接粘合到聚合物主链中，使其分布更加均匀，从而控制了酸的扩散，使 PAG 的负载量高于共混样品。与基于氟取代 PAG 的光刻胶相比，无氟 PAG 结合型或混合型光刻胶的光速较低。
• POLYMERIZABLE PHOTOACID GENERATORS
  申请人：Thackeray James W.

  公开号：US20120171616A1

  公开（公告）日：2012-07-05

  A compound has formula (I): Q-O-(A)-Z − G + (I) wherein Q is a halogenated or non-halogenated, C 2-30 olefin-containing group, A is a fluorine-substituted C 1-30 alkylene group, a fluorine-substituted C 3-30 cycloalkylene group, a fluorine-substituted C 6-30 arylene group, or a fluorine-substituted C 7-30 alkylene-arylene group, Z is an anionic group comprising sulfonate, sulfonamide, or sulfonamide, and G + has formula (II): wherein X is S or I, each R 0 is halogenated or non-halogenated and is independently C 1-30 alkyl group; a polycyclic or monocyclic C 3-30 cycloalkyl group; a polycyclic or monocyclic C 4-30 aryl group; or a combination of these, wherein when X is S, one of the R 0 groups is optionally attached to one adjacent R 0 group by a single bond, and a is 2 or 3, wherein when X is I, a is 2, or when X is S, a is 3. A copolymer, a photoresist, a coated substrate and method of patterning are disclosed.

  一种化合物的化学式为(I): Q-O-(A)-Z−G+(I)，其中Q是卤代或非卤代的含有C2-30烯烃基团的基团，A是氟代的C1-30烷基烯基基团、氟代的C3-30环烷基烷基基团、氟代的C6-30芳基烷基基团或氟代的C7-30烷基芳基基团，Z是包括磺酸盐、磺酰胺或磺酰胺的阴离子基团，G+的化学式为(II)：其中X为S或I，每个R0为卤代或非卤代且独立的C1-30烷基基团；多环或单环的C3-30环烷基基团；多环或单环的C4-30芳基基团；或这些的组合，其中当X为S时，其中一个R0基团可以通过单键连接到相邻的一个R0基团上，且a为2或3，当X为I时，a为2，当X为S时，a为3。还公开了共聚物、光阻、涂层基板和图案化方法。