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5-norbornene-2-(1-methoxy)methanol

中文名称
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中文别名
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英文名称
5-norbornene-2-(1-methoxy)methanol
英文别名
2-Bicyclo[2.2.1]hept-5-enyl(methoxy)methanol
5-norbornene-2-(1-methoxy)methanol化学式
CAS
——
化学式
C9H14O2
mdl
——
分子量
154.209
InChiKey
NESRBYQQZJUGGF-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    1.2
  • 重原子数:
    11
  • 可旋转键数:
    2
  • 环数:
    2.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.78
  • 拓扑面积:
    29.5
  • 氢给体数:
    1
  • 氢受体数:
    2

反应信息

  • 作为产物:
    描述:
    甲醇5-降冰片烯-2-甲醛硫酸 作用下, 反应 10.0h, 以93%的产率得到5-norbornene-2-(1-methoxy)methanol
    参考文献:
    名称:
    Photoresist monomers and preparation thereof
    摘要:
    本发明涉及用于制备可用于采用深紫外光源的光刻工艺中的光刻聚合物树脂的单体,以及其制备方法。优选单体由以下化学式1表示: <化学式1> 其中,X代表CH2、CH2CH2或氧; R1代表氢、C1-C5烷基或R′OH; R2代表氢、—OH、C1-C5烷氧基或—OR′—OH; R′代表:  并且, m为1-5的整数,n为1或2,p为0或1。
    公开号:
    US06359153B1
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文献信息

  • Process for producing fluoroalkanesulfonamide derivatives
    申请人:Matsunaga Kei
    公开号:US20080058538A1
    公开(公告)日:2008-03-06
    There is provided a process for producing a fluoroalkanesulfonamide derivative represented by the formula [3], R 2 —NH—SO 2 —R f —R 1 [3] including reacting a fluoroalkanesulfonic anhydride represented by the formula [1], with an organic primary amine represented by the formula [2], in the presence of water and in the presence of a base selected from the group consisting of (a) a hydroxide of an alkali metal or alkaline-earth metal or (b) a basic salt containing an alkali metal or alkaline-earth metal.
  • US6359153B1
    申请人:——
    公开号:US6359153B1
    公开(公告)日:2002-03-19
  • US7524977B2
    申请人:——
    公开号:US7524977B2
    公开(公告)日:2009-04-28
  • US9760010B2
    申请人:——
    公开号:US9760010B2
    公开(公告)日:2017-09-12
  • Photoresist monomers and preparation thereof
    申请人:Hyundai Electronics Industries Co., Ltd.
    公开号:US06359153B1
    公开(公告)日:2002-03-19
    The present invention relates to monomers for preparing photoresist polymer resins which can be used in a photolithography process employing a deep ultraviolet light source, and the preparation of the same. Preferred monomers are represented by following Chemical Formula 1: wherein, X represents CH2, CH2CH2, or oxygen; R1 represents hydrogen, C1-C5 alkyl, or R′OH; R2 represents hydrogen; —OH, C1-C5 alkoxy, or —OR′—OH; R′ represents:  and, m is an integer from 1-5, n is 1 or 2 and p is 0 or 1.
    本发明涉及用于制备可用于采用深紫外光源的光刻工艺中的光刻聚合物树脂的单体,以及其制备方法。优选单体由以下化学式1表示: <化学式1> 其中,X代表CH2、CH2CH2或氧; R1代表氢、C1-C5烷基或R′OH; R2代表氢、—OH、C1-C5烷氧基或—OR′—OH; R′代表:  并且, m为1-5的整数,n为1或2,p为0或1。
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