maleic mono(diallyl)amide

• 分子结构分类: 有机化合物 - 脂质和类脂质分子 - 脂肪酰基
• 英文名称: maleic mono(diallyl)amide
• 英文别名: N,N-diallylmaleamic acid；(Z)-4-[bis(prop-2-enyl)amino]-4-oxobut-2-enoic acid
• 化学式: C₁₀H₁₃NO₃
• 分子量: 195.218
• InChiKey: YYJMGOUKOXZJPD-WAYWQWQTSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.8
• 重原子数：
  14
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.2
• 拓扑面积：
  57.6
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  马来酸酐 、 二烯丙基胺 以 甲苯 为溶剂， 生成 maleic mono(diallyl)amide
  参考文献：
  名称：

  Water-soluble sulfonated polymers

  摘要：

  新颖的水溶性聚合物和共聚物是通过自由基聚合合成的，其聚合物通常由下式描述的乙烯基加成单体组成：##STR1## 其中：M为氢、锂、钠、钾、铵、镁或钙；R为烯丙基或甲烯丙基；R.sub.1为氢、烯丙基或甲烯丙基；R.sub.2为氢或磺酸基；R.sub.3为氢或磺酸基；并且要求R.sub.2不同于R.sub.3。

  公开号：

  US04546156A1

文献信息

• New water-soluble sulfonated monomers
  申请人：Nalco Chemical Company

  公开号：US04490308A1

  公开（公告）日：1984-12-25

  Novel water-soluble vinyl addition monomers are described generally by the formula: ##STR1## wherein: M is hydrogen, lithium, sodium, potassium, magnesium, or calcium; R is allyl or methallyl; R.sub.1 is hydrogen, allyl or methallyl; R.sub.2 is hydrogen or sulfonato: R.sub.3 is hydrogen or sulfonato; and providing that R.sub.2 is not the same as R.sub.3.

  本发明涉及一种新型水溶性乙烯基加成单体，一般由下式描述：##STR1## 其中：M表示氢、锂、钠、钾、镁或钙；R表示烯丙基或甲烯丙基；R.sub.1表示氢、烯丙基或甲烯丙基；R.sub.2表示氢或磺酸酯；R.sub.3表示氢或磺酸酯；并且要求R.sub.2不与R.sub.3相同。
• Durch Einwirkung von Strahlung vernetzendes Gemisch und dessen Verwendung zur Herstellung hochtemperaturbeständiger Reliefstrukturen
  申请人：BASF Lacke + Farben Aktiengesellschaft

  公开号：EP0571899A1

  公开（公告）日：1993-12-01

  Die Erfindung betrifft durch Einwirkung von Strahlung vernetzende Gemische, im wesentlichen bestehend aus (I) mindestens einer in polaren organischen Lösungsmitteln löslichen carboxylgruppenhaltigen polymeren Vorstufe hochtemperaturbeständiger heterocyclischer Polymerer, (II) einem copolymerisierbaren ethylenisch ungesättigten ternären Sulfoniumsalz, (III) einem Photoinitiator oder Photoinitiatorsystem und (IV) mindetens einem polaren aprotischen organischen Lösungsmittel. Diese Gemische eignen sich zur Herstellung hochtemperaturbeständiger Reliefstrukturen.

  本发明涉及在辐射作用下交联的混合物，主要包括 (I) 至少一种可溶于极性有机溶剂的耐高温杂环聚合物的含羧基聚合物前体、 (II) 可共聚的乙烯不饱和三元锍盐 (III) 一种光引发剂或光引发剂体系，以及 (IV) 至少一种极性烷基有机溶剂。 这些混合物适用于生产耐高温浮雕结构。
• Fotolacke zur Ausbildung von Reliefstrukturen aus hochwärmebeständigen Polymeren
  申请人：MERCK PATENT GmbH

  公开号：EP0103225B1

  公开（公告）日：1987-02-04
• US3950392A
  申请人：——

  公开号：US3950392A

  公开（公告）日：1976-04-13
• US4000358A
  申请人：——

  公开号：US4000358A

  公开（公告）日：1976-12-28