acrylic acid-3-carboxyadamantane-1-yl ester

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: acrylic acid-3-carboxyadamantane-1-yl ester
• 英文别名: acrylic acid 3-carboxyadamantan-1-yl ester；3-acryloyloxyadamantane-1-carboxylic acid；1-acryloyloxy-3-carboxyl-adamantane；3-carboxy-1-adamantyl acrylate；1-Acryloyloxy-3-carboxyadamantane；3-prop-2-enoyloxyadamantane-1-carboxylic acid
• 化学式: C₁₄H₁₈O₄
• 分子量: 250.295
• InChiKey: CZECMMUQQDHWTR-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.1
• 重原子数：
  18
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.71
• 拓扑面积：
  63.6
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  acrylic acid-3-carboxyadamantane-1-yl ester 在 硫酸 、 乙酸酐 、 对甲苯磺酸 作用下， 以 甲苯 为溶剂， 反应 20.0h， 生成
  参考文献：
  名称：

  一种含米氏酸结构的光刻胶树脂单体及其合成方法

  摘要：

  本发明公开了一种含米氏酸结构的光刻胶树脂单体，涉及光刻胶树脂单体领域，其结构式如下所示：其中R1为甲基或者H，R2为烷基、环烷基或含O原子的烷基、含O原子的环烷基，R3为H或者烷基，所述树脂单体有利于增加光刻胶树脂的碱溶性，能够改善光刻图案的边缘侧糙度，具有更好的耐刻蚀性，大大提高了光刻图形的分辨率，还可以改善光刻胶在硅晶圆上的吸附力。

  公开号：

  CN112661741A
• 作为产物：
  描述：

  3-羟基金刚烷-1-羧酸 、 丙烯酰氯 在 三乙胺 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 反应 3.0h， 以90.6%的产率得到acrylic acid-3-carboxyadamantane-1-yl ester
  参考文献：
  名称：

  一种含米氏酸结构的光刻胶树脂单体及其合成方法

  摘要：

  本发明公开了一种含米氏酸结构的光刻胶树脂单体，涉及光刻胶树脂单体领域，其结构式如下所示：其中R1为甲基或者H，R2为烷基、环烷基或含O原子的烷基、含O原子的环烷基，R3为H或者烷基，所述树脂单体有利于增加光刻胶树脂的碱溶性，能够改善光刻图案的边缘侧糙度，具有更好的耐刻蚀性，大大提高了光刻图形的分辨率，还可以改善光刻胶在硅晶圆上的吸附力。

  公开号：

  CN112661741A

文献信息

• SALT AND PHOTORESIST COMPOSITION CONTAINING THE SAME
  申请人：Ichikawa Koji

  公开号：US20110014566A1

  公开（公告）日：2011-01-20

  A salt represented by the formula (I-Pa): wherein X pa represents a single bond or a C1-C4 alkylene group, R pa represents a single bond, a C4-C36 divalent alicyclic hydrocarbon group or a C6-C36 divalent aromatic hydrocarbon group, and one or more methylene groups in the divalent alicyclic hydrocarbon group can be replaced by —O— or —CO—, Y pa represents a polymerizable group, and Z pa+ represents an organic cation.

  由公式(I-Pa)表示的盐，其中Xpa代表单一键或C1-C4亚烷基团，Rpa代表单一键、C4-C36二价脂环烃基团或C6-C36二价芳香烃基团，且脂环烃基团中的一个或多个亚甲基基团可以被—O—或—CO—替换，Ypa代表可聚合团，Zpa+代表有机阳离子。
• Polymeric compound and resin composition for photoresist
  申请人：——

  公开号：US20020169266A1

  公开（公告）日：2002-11-14

  A photoresist polymeric compound includes a monomer unit represented by following Formula (I): 1 The polymeric compound may further include at least one of monomer units represented by following Formulae (IIa) to 2 wherein R 1 , R 13 , R 14 and R 15 are each a hydrogen atom or methyl group; R 2 and R 3 are each a hydrocarbon group having from 1 to 8 carbon atoms; R 4 , R 5 and R 6 are each a hydrogen atom, hydroxyl group or a methyl group; R 7 and R 8 are each a hydrogen atom, hydroxyl group or —COOR 9 group, where R 9 is a t-butyl group, 2-tetrahydropyranyl group, etc.; R 10 and R 11 are each a hydrogen atom, hydroxyl group or oxo group; R 12 is a hydrocarbon group having a tertiary carbon atom at a bonding site with an oxygen atom indicated in the formula; R 16 is a t-butyl group, 2-tetrahydropyranyl group, etc.; and n denotes an integer from 1 to 3. The photoresist polymeric compound can exhibit high adhesion to substrates and can highly precisely form fine patterns.

  一种光阻聚合物化合物包括以下式(I)所表示的单体单元：1该聚合物化合物还可以包括以下式(IIa)至(IIb)所表示的至少一种单体单元中的至少一种：其中，R1、R13、R14和R15均为氢原子或甲基基团；R2和R3均为具有1至8个碳原子的碳氢基团；R4、R5和R6均为氢原子、羟基或甲基基团；R7和R8均为氢原子、羟基或-COOR9基团，其中R9为叔丁基基团、2-四氢呋喃基团等；R10和R11均为氢原子、羟基或酮基；R12为具有在公式中指示的氧原子与三级碳原子成键位的碳氢基团；R16为叔丁基基团、2-四氢呋喃基团等；n表示1至3的整数。该光阻聚合物化合物可以表现出对基材的高粘附性，并可以高精度地形成细小图案。
• Resin useful for resist, resist composition and pattern forming process using the same
  申请人：KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA

  公开号：US20020098441A1

  公开（公告）日：2002-07-25

  According to the present invention, a resist resin having in its structure a specific bridged-bond-containing aliphatic ring, and a resist composition comprising the same are provided. By using this resist composition, a resist pattern excellent in both transparency against short-wavelength light and dry-etching resistance can be formed by alkali development with high resolution.

  根据本发明，提供了一种在其结构中具有特定桥式键含有的脂环的抗蚀树脂，以及包括该树脂的抗蚀组合物。通过使用这种抗蚀组合物，可以通过高分辨率的碱性显影形成对短波长光具有优异透明度和干法刻蚀抗性的抗蚀图案。
• Photoresist polymeric compound and photoresist resin composition
  申请人：Daicel Chemical Industries, Ltd.

  公开号：US06692889B1

  公开（公告）日：2004-02-17

  A polymeric compound of the invention includes at least one monomer unit selected from the following formulae (I), (II), (III) and (IV): (wherein R1 is a hydrogen atom or a methyl group, R2 and R3 are each a hydrogen atom, a hydroxyl group or a —COOR4 group, where R4 is, e.g., a t-butyl group or a 2-tetrahydropyranyl group; R5 and R6 are each a hydrogen atom, a hydroxyl group or an oxo group; R7, R8 and R9 are each a hydrogen atom or a methyl group; R10 and R11 are each a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms; R12, R13 and R14 are each a hydrogen atom, a hydroxyl group or a methyl group, where if all of R12 to R14 are each a hydrogen atom or a hydroxyl group, R10 and R11 are not coincidentally methyl groups) [wherein, when the compound includes, for example, a monomer unit of Formula (III), the compound further includes at least one monomer unit selected from among, for example, a monomer unit represented by the following Formula (V): (wherein R15 and R16 are each a hydrogen atom, a hydroxyl group or a carboxyl group; R17 is a hydroxyl group, an oxo group or a carboxyl group; and R1 has the same meaning as defined above)]. This polymeric compound has high etching resistance, as well as satisfactory transparency, alkali-solubility and adhesion, and is therefore useful as a photoresist resin.

  本发明的聚合物化合物包括至少一种单体单元，所述单体单元选自以下式子（I）、（II）、（III）和（IV）：（其中R1是氢原子或甲基基团，R2和R3分别是氢原子、羟基或—COOR4基团，其中R4是例如叔丁基基团或2-四氢吡喃基团；R5和R6分别是氢原子、羟基或酮基；R7、R8和R9分别是氢原子或甲基基团；R10和R11分别是具有1至8个碳原子的碳氢基团；R12、R13和R14分别是氢原子、羟基或甲基基团，其中如果R12至R14全部为氢原子或羟基，则R10和R11不是重合的甲基基团）[其中，当化合物包括例如公式（III）的单体单元时，化合物还包括至少一种单体单元，所述单体单元选自例如由以下公式（V）表示的单体单元：（其中R15和R16分别是氢原子、羟基或羧基；R17是羟基、酮基或羧基；R1具有上述定义的相同含义）]。该聚合物化合物具有高蚀刻抗性，同时具有令人满意的透明度、碱溶性和附着力，因此可用作光刻胶树脂。
• POLYMERIC COMPOUND FOR PHOTORESIST AND RESIN COMPOSITION FOR PHOTORESIST
  申请人：Daicel Chemical Industries, Ltd.

  公开号：EP1172694A1

  公开（公告）日：2002-01-16

  A photoresist polymeric compound includes a monomer unit represented by following Formula (I) : The polymeric compound may further include at least one of monomer units represented by following Formulae (IIa) to (IIg): wherein R1, R13, R14 and R15 are each a hydrogen atom or methyl group; R2 and R3 are each a hydrocarbon group having from 1 to 8 carbon atoms; R4, R5 and R6 are each a hydrogen atom, hydroxyl group or a methyl group; R7 and R8 are each a hydrogen atom, hydroxyl group or -COOR9 group, where R9 is a t-butyl group, 2-tetrahydropyranyl group, etc.; R10 and R11 are each a hydrogen atom, hydroxyl group or oxo group; R12 is a hydrocarbon group having a tertiary carbon atom at a bonding site with an oxygen atom indicated in the formula; R16 is a t-butyl group, 2-tetrahydropyranyl group, etc.; and n denotes an integer from 1 to 3. The photoresist polymeric compound can exhibit high adhesion to substrates and can highly precisely form fine patterns.

  一种光致抗蚀剂聚合化合物包括下式（I）所代表的单体单元： 该聚合化合物还可进一步包括下式（IIa）至（IIg）所代表的单体单元中的至少一种： 其中 R1、R13、R14 和 R15 各为氢原子或甲基；R2 和 R3 各为具有 1 至 8 个碳原子的烃基；R4、R5 和 R6 各为氢原子、羟基或甲基；R7 和 R8 各为氢原子、羟基或-COOR9 基，其中 R9 为叔丁基、2-四氢吡喃基等。R10 和 R11 分别是氢原子、羟基或氧代基团；R12 是烃基，其上的三级碳原子与式中所示的氧原子成键；R16 是叔丁基、2-四氢吡喃基等；n 表示 1 至 3 的整数。 这种光致抗蚀剂聚合物化合物对基底有很高的附着力，并能高度精确地形成精细图案。