benzyltrimethylammonium mesylate

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: benzyltrimethylammonium mesylate
• 英文别名: benzyltrimethylammonium methanesulfonate；N,N,N-trimethyl-1-phenylmethanaminium methanesulfonate；trimethylbenzylammonium methanesulfonate；TBnAMsO；benzyl(trimethyl)azanium;methanesulfonate
• 化学式: CH₃O₃S*C₁₀H₁₆N
• 分子量: 245.343
• InChiKey: HSLPCWMUZHKYQI-UHFFFAOYSA-M

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.05
• 重原子数：
  16
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.45
• 拓扑面积：
  65.6
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  benzyltrimethylammonium mesylate 、 Diphenylphosphine oxide 在 (1,1'-双(二苯基膦)二茂铁)二氯化镍 、 caesium carbonate 作用下， 以 乙腈 为溶剂， 反应 18.0h， 以58%的产率得到benzyldiphenylphosphine oxide
  参考文献：
  名称：

  镍，芳基，苄基或烯丙基铵盐与P（O）H化合物的镍催化C-P偶联

  摘要：

  已经开发出一种方法，该方法可以通过镍催化的有机铵盐与适当的磷亲核试剂的交叉偶联来构建C-P键。芳基-，吡啶基-，苄基和烯丙基铵三氟甲磺酸酯可用作亲电子试剂。所使用的基于磷的亲核试剂包括二芳基/二丁基氧化膦，二烷基膦酸酯和苯基次膦酸乙酯。耐受OMe，CN，CF 3，F，Cl，C（O）NMe 2和C（O）t Bu官能团。

  DOI：

  10.1021/acs.joc.8b02926
• 作为产物：
  描述：

  甲磺酸甲酯 、 N,N-二甲基苄胺 以 乙醚 为溶剂， 反应 24.0h， 以75%的产率得到benzyltrimethylammonium mesylate
  参考文献：
  名称：

  镍，芳基，苄基或烯丙基铵盐与P（O）H化合物的镍催化C-P偶联

  摘要：

  已经开发出一种方法，该方法可以通过镍催化的有机铵盐与适当的磷亲核试剂的交叉偶联来构建C-P键。芳基-，吡啶基-，苄基和烯丙基铵三氟甲磺酸酯可用作亲电子试剂。所使用的基于磷的亲核试剂包括二芳基/二丁基氧化膦，二烷基膦酸酯和苯基次膦酸乙酯。耐受OMe，CN，CF 3，F，Cl，C（O）NMe 2和C（O）t Bu官能团。

  DOI：

  10.1021/acs.joc.8b02926
• 作为试剂：
  描述：

  2-碘苯甲酸甲酯 在 trans-bis(triphenylphosphine)palladium dichloride 、 benzyltrimethylammonium mesylate 、 对甲苯磺酸 、 三乙胺 作用下， 反应 4.25h， 生成 3-(4-methoxyphenyl)-1H-isochromen-1-one
  参考文献：
  名称：

  基于pTSA的DES作为2炔基-（杂）-芳基羧酸酯微波增强环化的“活性绿色溶剂”：替代6-取代的3,4-融合的2-吡喃酮的方法

  摘要：

  酸性深层共晶溶剂是微波介导的6取代3,4稠合2，吡喃酮的合成的替代环境友好型“活性”介质。

  DOI：

  10.1002/ejoc.201801884

文献信息

• Novel Brønsted acidic deep eutectic solvent as reaction media for esterification of carboxylic acid with alcohols
  作者：Valerio De Santi、Fabio Cardellini、Lucia Brinchi、Raimondo Germani

  DOI：10.1016/j.tetlet.2012.07.063

  日期：2012.9

  New halogen-free Brønsted acidic deep eutectic solvents (DES) have been prepared by mixing new quaternary ammonium methanesulfonate salts with p-toluenesulfonic acid (PTSA). They have been used as dual solvent-catalyst for esterification of several carboxylic acids with different alcohols with a reagent molar ratio of 1:1. The method is mild, safe, and simple. Ease of recovery and reusability of DES

  通过将新的甲磺酸季铵盐与对甲苯磺酸（PTSA）混合，可以制备出新的无卤布朗斯台德酸性深共熔溶剂（DES ）。它们已用作双重溶剂催化剂，用于试剂摩尔比为1：1的几种羧酸与不同醇的酯化反应。该方法温和，安全且简单。高活性的DES易于恢复和可重复使用，使该方法高效且环保。为了通过良好的收率获得各种酯，进行了通过阳离子变化获得的DES性质的可调性。
• Polymerizable composition for polythiourethane optical material, polythiourethane optical material obtained from the polymerizable composition, and polymerization catalyst for polythiourethane optical material
  申请人：Mitsui Chemicals, Inc.

  公开号：EP2407498A2

  公开（公告）日：2012-01-18

  The polymerizable composition for a polythiourethane optical material of the present invention includes (A) a polymerization catalyst for a polythiourethane optical material, (B) at least one compound selected from an isocyanate compound and an isothiocyanate compound, and (C) a compound containing one or more mercapto groups, wherein said polymerization catalyst for a polythiourethane optical material (A) includes (a1) a zinc compound, and (a4)a compound represented by the following general formula (4).

  本发明的聚硫乙烷光学材料可聚合组合物包括 (A) 聚硫乙烷光学材料聚合催化剂，(B) 至少一种选自异氰酸酯化合物和异硫氰酸酯化合物的化合物，以及 (C) 含有一个或多个巯基的化合物，其中所述聚硫乙烷光学材料聚合催化剂 (A) 包括 (a1) 一种锌化合物，以及 (a4) 一种由下式通式 (4) 表示的化合物。
• Cleaning solutions and etchants and methods for using same
  申请人：Wojtczak A. William

  公开号：US20050143270A1

  公开（公告）日：2005-06-30

  Composition for cleaning or etching a semiconductor substrate and method for using the same. The composition may include a fluorine-containing compound as an active agent such as a quaternary ammonium fluoride, a quaternary phosphonium fluoride, sulfonium fluoride, more generally an -onium fluoride or “multi” quaternary-onium fluoride that includes two or more quaternary-onium groups linked together by one or more carbon-containing groups. The composition may further include a pH adjusting acid such as a mineral acid, carboxylic acid, dicarboxylic acid, sulfonic acid, or combination thereof to give a pH of about 2 to 9. The composition can be anhydrous and may further include an organic solvent such as an alcohol, amide, ether, or combination thereof. The composition are useful for obtaining improved etch rate, etch selectivity, etch uniformity and cleaning criteria on a variety of substrates.

  用于清洗或蚀刻半导体衬底的组合物及其使用方法。该组合物可包括作为活性剂的含氟化合物，如季铵氟化物、季鏻氟化物、氟化锍，更常见的是氟化-铵或 "多 "季铵氟化物，其中包括由一个或多个含碳基团连接在一起的两个或多个季铵基团。该组合物还可进一步包括一种 pH 值调节酸，如矿物酸、羧酸、二羧酸、磺酸或它们的组合，使 pH 值约为 2 至 9。组合物可以是无水的，也可以进一步包括有机溶剂，如醇、酰胺、醚或它们的组合。该组合物有助于在各种基底上获得更好的蚀刻速率、蚀刻选择性、蚀刻均匀性和清洁标准。
• CLEANING SOLUTIONS AND ETCHANTS AND METHODS FOR USING SAME
  申请人：Sachem, Inc.

  公开号：EP1680806A2

  公开（公告）日：2006-07-19
• EP1680806A4
  申请人：——

  公开号：EP1680806A4

  公开（公告）日：2008-07-30