1-ethoxy-1-chloro-3-methyl-butane

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: 1-ethoxy-1-chloro-3-methyl-butane
• 英文别名: Aethyl-(α-chlor-isoamyl)-aether；1-Aethoxy-1-chlor-3-methyl-butan；1-Chloro-1-ethoxy-3-methylbutane；1-chloro-1-ethoxy-3-methylbutane
• 化学式: C₇H₁₅ClO
• 分子量: 150.649
• InChiKey: URFZEIJJTMELLO-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.9
• 重原子数：
  9
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  9.2
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1-ethoxy-1-chloro-3-methyl-butane 在 chromium(III) oxide 、 硫酸 、 水 、 溴 作用下， 生成 2-溴代异戊酸
  参考文献：
  名称：

  Madinaveitia; Puyal, Anales de la Real Sociedad Espanola de Fisica y Quimica, 1918, vol. 16, p. 336

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  乙醇 、 异戊醛 在 盐酸 作用下， 生成 1-ethoxy-1-chloro-3-methyl-butane
  参考文献：
  名称：

  Madinaveitia; Puyal, Anales de la Real Sociedad Espanola de Fisica y Quimica, 1918, vol. 16, p. 336

  摘要：

  DOI：

文献信息

• ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM USING THE SAME, PATTERN FORMING METHOD, MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONIC DEVICE, ELECTRONIC DEVICE AND RESIN
  申请人：FUJIFILM Corporation

  公开号：US20150132688A1

  公开（公告）日：2015-05-14

  There is provided an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprising (P) a resin having (a) a repeating unit represented by the specific formula; a resist film formed using the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition; a pattern forming method comprising (i) a step of forming a film by using the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, (ii) a step of exposing the film, and (iii) a step of developing the exposed film by using a developer to form a pattern; a method for manufacturing an electronic device, comprising the pattern forming method; and an electronic device manufactured by the manufacturing method of an electronic device.

  提供了一种光致射线敏感或辐射敏感的树脂组合物，其中包括（P）具有（a）由特定公式表示的重复单元的树脂；使用该光致射线敏感或辐射敏感的树脂组合物形成的抗蚀膜；包括（i）使用该光致射线敏感或辐射敏感的树脂组合物形成膜的步骤，（ii）曝光膜的步骤，以及（iii）使用显影剂显影曝光的膜以形成图案的图案形成方法；一种制造电子设备的方法，包括图案形成方法；以及通过电子设备的制造方法制造的电子设备。
• US20140272692A1
  申请人：——

  公开号：US20140272692A1

  公开（公告）日：2014-09-18
• [EN] ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE FILM USING THE SAME, PATTERN FORMING METHOD, MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONIC DEVICE, ELECTRONIC DEVICE AND RESIN<br/>[FR] COMPOSITION SENSIBLE AUX RAYONS ACTINIQUES OU AUX RADIATIONS, FILM SENSIBLE AUX RAYONS ACTINIQUES OU AUX RADIATIONS L'UTILISANT, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIFS, PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE, DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE ET RÉSINE
  申请人：FUJIFILM CORP

  公开号：WO2013081184A1

  公开（公告）日：2013-06-06

  There is provided an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition comprising (P) a compound having a phenolic hydroxyl group and a group formed by substituting for the hydrogen atom in a phenolic hydroxyl group by a group represented by the specific formula, a resist film formed using the specific actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition, a pattern forming method containing steps of exposing and developing the resist film, a manufacturing method of an electronic device, containing the pattern forming method, and an electronic device manufactured by the specific manufacturing method of an electronic device.
• Mantione,R., Bulletin de la Societe Chimique de France, 1969, p. 4514 - 4522
  作者：Mantione,R.

  DOI：——

  日期：——
• Madinaveitia; Puyal, Anales de la Real Sociedad Espanola de Fisica y Quimica, 1918, vol. 16, p. 336
  作者：Madinaveitia、Puyal

  DOI：——

  日期：——