N-t-butoxycarbonyl-N-methyl-1-adamantylamine

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: N-t-butoxycarbonyl-N-methyl-1-adamantylamine
• 英文别名: tert-butyl N-(1-adamantyl)-N-methylcarbamate
• 化学式: C₁₆H₂₇NO₂
• 分子量: 265.396
• InChiKey: RNKPTQBWGGBMEZ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.8
• 重原子数：
  19
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.94
• 拓扑面积：
  29.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  苯并噻唑 、 N-t-butoxycarbonyl-N-methyl-1-adamantylamine 在 过氧化乙酸叔丁酯 、 [Ir(dF(CF₃)ppy)₂(dtbbpy)](PF₆) 、 三氟乙酸 作用下， 以 丙酮 为溶剂， 反应 24.0h， 以49%的产率得到tert-butyl ((3s,5s,7s)-adamantan-1-yl)(benzo[d]thiazol-2-ylmethyl)carbamate
  参考文献：
  名称：

  光氧化还原介导的杂芳烃和胺类的直接交叉脱氢偶联

  摘要：

  报道了光氧化还原介导的直接交叉脱氢偶联反应以完成N-杂芳烃的α-氨基烷基化。这种温和的反应具有广泛的底物范围，提供了无需进行底物预官能化即可合成氨基烷基化N-杂芳烃的第一种通用方法，并且可扩展至克级。此外，发现该反应除了胺（即，醚，醛，甲酰胺，对二甲苯和烷烃）以外还适用于其他氢供体，因此能够制备带有各种取代基的N-杂芳烃。

  DOI：

  10.1021/acs.orglett.8b02389
• 作为产物：
  描述：

  金刚烷胺 在 carbonylhydrido(tetrahydroborato)[bis(2-diphenylphosphinoethyl)amino]ruthenium(II) 、 水 、 氢气 、 三乙胺 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 20.0~140.0 ℃ 、4.0 MPa 条件下， 反应 24.0h， 生成 N-t-butoxycarbonyl-N-methyl-1-adamantylamine
  参考文献：
  名称：

  以甲醇为C1源的胺的选择性单甲基化

  摘要：

  N-单甲基官能团是多种合成和天然化合物中的常见基序。然而，由于由过度甲基化引起的选择性问题，容易获得此类化合物仍然是有机合成中的基本挑战。为了解决这个问题，我们开发了一种方法，可以使用甲醇作为甲基化剂，对各种结构和功能多样的胺（包括通常存在问题的伯脂肪族伯胺）进行选择性催化单甲基化，这是一种可持续的化学原料。通过使用容易获得的钌催化剂在适当的温度和氢气压力下实现脂肪族胺单甲基化的动力学控制。各种底物（包括与生物有关的分子和药物）被选择性地单甲基化，

  DOI：

  10.1002/anie.201801524

文献信息

• RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING A RESIST PATTERN, COMPOUND, AND POLYMER
  申请人：ASANO Yuusuke

  公开号：US20120156612A1

  公开（公告）日：2012-06-21

  A radiation-sensitive resin composition includes a first polymer that includes a repeating unit having an acid-labile group and becomes alkali-soluble upon dissociation of the acid-labile group, and a radiation-sensitive acid-generating agent. The acid-labile group has a structure shown by a general formula (1). R 1 represents a methyl group or the like, R 2 represents a hydrocarbon group that forms a cyclic structure, R 3 represents a fluorine atom or the like, R 4 represents a carbon atom, and n 1 is an integer from 1 to 7.

  一种辐射敏感树脂组合物包括第一聚合物，其中包括具有酸敏感基团的重复单元，在酸敏感基团解离后变为碱溶解性，并且包括辐射敏感酸发生剂。酸敏感基团具有通式（1）所示的结构。R1代表甲基基团或类似物，R2代表形成环状结构的碳氢基团，R3代表氟原子或类似物，R4代表碳原子，n1为1至7之间的整数。
• Pattern forming method, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and resist film
  申请人：FUJIFILM CORPORATION

  公开号：US10248019B2

  公开（公告）日：2019-04-02

  A pattern forming, method, includes: (i) forming a film from an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition that contains (A) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation and decomposing by an action of an acid to decrease a solubility of the compound (A) for an organic solvent; (ii) exposing the film; and (iii) performing development by using a developer containing an organic solvent.

  一种形成图案的方法包括：(i) 使用一种含有（A）一种能够在受到光或辐射照射时生成酸并通过酸的作用分解以降低该化合物（A）对有机溶剂的溶解度的光敏或辐射敏感树脂组合物形成薄膜；(ii) 曝光薄膜；和(iii) 使用含有有机溶剂的显影剂进行显影。
• RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, MONOMER, POLYMER, AND PRODUCTION METHOD OF RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION
  申请人：MARUYAMA Ken

  公开号：US20120237876A1

  公开（公告）日：2012-09-20

  A radiation-sensitive resin composition includes a solvent and a polymer. The polymer includes a repeating unit represented by a formula (I), a repeating unit represented by a formula (II), or a both thereof. Each of R 1 to R 3 independently represents a hydroxyl group, or the like. At least one of R 1 represents a group having two or more heteroatoms. l is an integer from 1 to 5. Each of m and n is independently an integer from 0 to 5. Each of R 7 and R 11 independently represents a hydrogen atom, or the like. Each of R 8 to R 10 independently represents a hydrogen atom, or the like. A represents —O—, or the like. D represents a substituted or unsubstituted methylene group, or the like.

  一种辐射敏感树脂组合物包括溶剂和聚合物。该聚合物包括由式(I)表示的重复单元，由式(II)表示的重复单元，或两者兼有。R1至R3中的每一个独立地表示一个羟基或类似物。其中至少一个R1表示具有两个或更多杂原子的基团。l是从1到5的整数。m和n中的每一个独立地是从0到5的整数。R7和R11中的每一个独立地表示氢原子或类似物。R8到R10中的每一个独立地表示氢原子或类似物。A表示—O—或类似物。D表示取代或未取代的亚甲基基团或类似物。
• PATTERN FORMING METHOD, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND RESIST FILM
  申请人：Enomoto Yuichiro

  公开号：US20120282548A1

  公开（公告）日：2012-11-08

  Provided is a pattern forming method comprising (i) a step of forming a film from an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, (ii) a step of exposing the film, and (iii) a step of developing the exposed film by using an organic solvent-containing developer, wherein the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprises (A) a resin capable of decreasing the solubility for an organic solvent-containing developer by the action of an acid, (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, (D) a solvent, and (G) a compound having at least either one of a fluorine atom and a silicon atom and having basicity or being capable of increasing the basicity by the action of an acid.

  提供的是一种形成图案的方法，包括(i)使用光致或辐射敏感树脂组成物形成薄膜的步骤，(ii)曝光薄膜的步骤，以及(iii)使用有机溶剂含有的显影剂显影曝光后的薄膜的步骤，其中光致或辐射敏感树脂组成物包括(A)一种能够通过酸的作用降低有机溶剂含有的显影剂的溶解度的树脂，(B)一种能够在光致或辐射照射下生成酸的化合物，(D)一种溶剂，以及(G)一种具有氟原子和硅原子中的至少一种，并具有碱性或能够通过酸的作用增加碱性的化合物。
• Radiation-sensitive resin composition
  申请人：——

  公开号：US20020009668A1

  公开（公告）日：2002-01-24

  A radiation-sensitive resin composition comprising an acid-labile group-containing resin and a photoacid generator is disclosed. The resin has a structure of the formula (1), 1 wherein R 1 represents a hydrogen atom, a monovalent acid-labile group, an alkyl group having 1-6 carbon atoms which does not have an acid-labile group, or an alkylcarbonyl group having 2-7 carbon atoms which does not have an acid-labile group, X 1 represents a linear or branched fluorinated alkyl group having 1-4 carbon atoms, and R 2 represents a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1-10 carbon atoms, or a linear or branched fluorinated alkyl group having 1-10 carbon atoms. The resin composition exhibits high transmittance of radiation, high sensitivity, resolution, and pattern shape, and is useful as a chemically amplified resist in producing semiconductors at a high yield.

  公开了一种辐射敏感的树脂组合物，包括一个含有酸敏感基团的树脂和一个光酸发生剂。该树脂的结构式为(1)，其中R1代表氢原子、一价酸敏感基团、不含酸敏感基团的1-6个碳原子的烷基或不含酸敏感基团的2-7个碳原子的烷基酰基，X1代表线性或支链的含有1-4个碳原子的氟化烷基，R2代表氢原子、含有1-10个碳原子的线性或支链烷基，或含有1-10个碳原子的线性或支链氟化烷基。该树脂组合物表现出辐射的高透过率、高敏感度、分辨率和图案形状，可用于在高产率下生产半导体中的化学放大图案。