3-hydroxyadamantane-1-carboxylic acid

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: 3-hydroxyadamantane-1-carboxylic acid
• 英文别名: 1-Carboxy-3-adamantanol；(5S,7R)-3-hydroxyadamantane-1-carboxylic acid
• 化学式: C₁₁H₁₆O₃
• 分子量: 196.246
• InChiKey: CJJMAWPEZKYJAP-JZVMUCMXSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.9
• 重原子数：
  14
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.91
• 拓扑面积：
  57.5
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  亚乙基丙二酸二乙酯 、 3-hydroxyadamantane-1-carboxylic acid 在 potassium phosphate 、 PrPPTNO 、 水 作用下， 以 乙腈 为溶剂， 反应 16.0h， 以84%的产率得到diethyl 2-(1-((1r,3s,5R,7S)-3-hydroxyadamantan-1-yl)ethyl)-malonate
  参考文献：
  名称：

  有机嘧啶蝶啶光氧化还原催化剂的光介导的脱羧吉斯型反应

  摘要：

  脱羧Giese型反应为缺电子烯烃的自由基烷基化提供了一种通用的方法。光介导的变体通常需要羧酸的预活化和/或使用昂贵的过渡金属光催化剂。在本文中，我们介绍了使用嘧啶蝶啶N-氧化物作为有机光氧化还原活性催化剂向缺电子烯烃中进行的无金属光催化脱羧Giese型加成反应。该协议包括单，双和三取代的脂肪族，α-氨基和α-氧基酸，以及各种缺电子的烯烃。此外，介绍了合成后的衍生化和应用。

  DOI：

  10.1021/acs.joc.0c01955

文献信息

• SUBSTITUTED ARYL ONIUM MATERIALS
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials LLC

  公开号：US20150093708A1

  公开（公告）日：2015-04-02

  Acid generators comprising a carbocyclic or heteroaromatic group substituted with at least one diester moiety are provided. These acid generators are particularly useful as a photoresist composition component.

  提供了一种包含至少一个双酯基团取代的环烃或杂环芳基团的酸发生剂。这些酸发生剂特别适用于光刻胶组分。
• PHOTO-DESTROYABLE QUENCHER AND ASSOCIATED PHOTORESIST COMPOSITION, AND DEVICE-FORMING METHOD
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials LLC

  公开号：US20150346599A1

  公开（公告）日：2015-12-03

  A photo-destroyable quencher has the structure wherein X, n, and R 1 -R 6 are defined herein, and at least one of R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , and R 6 is halogen, nitro, C 1-12 fluorinated alkyl, cyano, aldehyde, C 2-20 ester, C 2-20 ketone, C 1-20 sulfoxyl hydrocarbyl, C 1-20 sulfonyl hydrocarbyl, or sulfonamide. The photo-destroyable quencher exhibits improved solution stability and reduced hygroscopic properties relative to triphenylsulfonium phenolate. A photoresist composition including an acid-sensitive polymer, a photoacid generator, and the photo-destroyable quencher exhibits increased contrast and/or critical dimension uniformity relative to corresponding photoresist compositions comparative photo-destroyable quenchers.

  一种可被光破坏的猝灭剂具有以下结构，其中X、n和R1-R6如本文所定义，且R2、R3、R4、R5和R6中至少有一个是卤素、硝基、C1-12氟化烷基、氰基、醛基、C2-20酯、C2-20酮、C1-20烷基磺氧基、C1-20烷基磺酰基或磺胺基。该可被光破坏的猝灭剂相对于三苯基砜酚酚酚酚具有改善的溶液稳定性和减少的亲湿性能。包括酸敏感聚合物、光酸发生剂和可被光破坏的猝灭剂的光刻胶组合物相对于相应的光刻胶组合物比较照片破坏性猝灭剂具有增加的对比度和/或临界尺寸均匀性。
• ARYL ACETATE ONIUM MATERIALS
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials LLC

  公开号：US20150093709A1

  公开（公告）日：2015-04-02

  Acid generators comprising a carbocyclic aryl or heteroaromatic group substituted with at least one acetate moiety are provided. These acid generators are particularly useful as a photoresist composition component.

  提供了一种包括至少一个乙酸基取代的环状芳基或杂环芳基的酸发生剂。这些酸发生剂在光刻胶组分中特别有用。
• Substituted aryl onium materials
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials LLC

  公开号：US10179778B2

  公开（公告）日：2019-01-15

  Acid generators comprising a carbocyclic or heteroaromatic group substituted with at least one diester moiety are provided. These acid generators are particularly useful as a photoresist composition component.

  提供了由至少一个二酯分子取代的碳环或杂芳族基团组成的酸生成物。这些酸生成物作为光阻组合物成分特别有用。
• Aryl acetate onium materials
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials, LLC

  公开号：US10844037B2

  公开（公告）日：2020-11-24

  Acid generators comprising a carbocyclic aryl or heteroaromatic group substituted with at least one acetate moiety are provided. These acid generators are particularly useful as a photoresist composition component.

  提供了由至少一个乙酸基取代的碳环芳基或杂芳基组成的酸生成物。这些酸生成物作为光刻胶组合物成分特别有用。