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四(二乙基氨基)铪(IV) | 19824-55-6

中文名称
四(二乙基氨基)铪(IV)
中文别名
四(二乙基胺基)铪(IV);四(二乙胺基)铪(IV);四(二乙基氨基)铪(IV),99%
英文名称
tetrakis(diethylamido)hafnium
英文别名
hafnium(IV) tetra-diethylamide;tetrakisdiethylamide hafnium(IV);HfIV(NEt2)4;tetrakis(ethylamido) hafnium;tetrakis(diethylamido)hafnium(IV);hafnium tetrakis(diethylamide);tetrakis diethylamino hafnium;tetrakus-diethylaminohafnium;diethylazanide;hafnium(4+)
四(二乙基氨基)铪(IV)化学式
CAS
19824-55-6
化学式
C16H40HfN4
mdl
——
分子量
467.01
InChiKey
VBCSQFQVDXIOJL-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

物化性质

  • 熔点:
    -68 °C
  • 沸点:
    130 °C0.01 mm Hg(lit.)
  • 密度:
    1.249 g/mL at 25 °C(lit.)
  • 闪点:
    50 °F
  • 稳定性/保质期:
    如果按照规则使用和储存,则不会分解。避免接触氧化物、水分。

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    5.6
  • 重原子数:
    21
  • 可旋转键数:
    8
  • 环数:
    0.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    1.0
  • 拓扑面积:
    4
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    4

安全信息

  • TSCA:
    No
  • 危险等级:
    4.3
  • 危险品标志:
    F,Xi
  • 安全说明:
    S16,S26,S36
  • 危险类别码:
    R11
  • WGK Germany:
    3
  • 包装等级:
    II
  • 危险类别:
    4.3
  • 危险品运输编号:
    UN 3398 4
  • 危险标志:
    GHS02,GHS07
  • 危险性描述:
    H225,H261,H315,H319,H335
  • 危险性防范说明:
    P210,P231 + P232,P261,P305 + P351 + P338,P422
  • 储存条件:
    在干性保护气体中处理,并将物品存放在密封容器中。应将其置于阴凉、干燥处保存。

SDS

SDS:8e551f01e611dee822a87d0fcbdbee99
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模块 1. 化学品
1.1 产品标识符
: 四(二乙基胺基)铪(IV)
产品名称
1.2 鉴别的其他方法
无数据资料
1.3 有关的确定了的物质或混合物的用途和建议不适合的用途
仅用于研发。不作为药品、家庭或其它用途。

模块 2. 危险性概述
2.1 GHS-分类
易燃液体 (类别 2)
遇水放出易燃气体的物质 (类别 2)
皮肤刺激 (类别 2)
眼睛刺激 (类别 2A)
特异性靶器官系统毒性(一次接触) (类别 3)
2.2 GHS 标记要素,包括预防性的陈述
象形图
警示词 危险
危险申明
H225 高度易燃液体和蒸气
H261 遇水放出易燃气体。
H315 造成皮肤刺激。
H319 造成严重眼刺激。
H335 可能引起呼吸道刺激。
警告申明
预防措施
P210 远离热源、火花、明火和热表面。- 禁止吸烟。
P223 因会发生剧烈反应和可能发生闪燃,需避免任何与水接触的可能。
P231 + P232 在惰性气体下操作。 防潮。
P233 保持容器密闭。
P240 容器和接收设备接地。
P241 使用防爆的电气/ 通风/ 照明 设备。
P242 只能使用不产生火花的工具。
P243 采取措施,防止静电放电。
P261 避免吸入粉尘/烟/气体/烟雾/蒸气/喷雾.
P264 操作后彻底清洁皮肤。
P271 只能在室外或通风良好之处使用。
P280 戴防护手套/穿防护服/戴护目镜/戴面罩.
事故响应
P303 + P361 + P353 如果皮肤(或头发)接触:立即除去/脱掉所有沾污的衣物,用水清洗皮肤/淋
浴。
P304 + P340 如吸入: 将患者移到新鲜空气处休息,并保持呼吸舒畅的姿势。
P305 + P351 + P338 如与眼睛接触,用水缓慢温和地冲洗几分钟。如戴隐形眼镜并可方便地取
出,取出隐形眼镜,然后继续冲洗.
P312 如感觉不适,呼救中毒控制中心或医生.
P321 具体处置(见本标签上提供的急救指导)。
P332 + P313 如觉皮肤刺激:求医/就诊。
P335 + P334 掸掉皮肤上的细小颗粒,浸入冷水/用湿绷带包扎。
P337 + P313 如仍觉眼睛刺激:求医/就诊。
P362 脱掉沾污的衣服,清洗后方可再用。
P370 + P378 火灾时: 用干的砂子,干的化学品或耐醇性的泡沫来灭火。
安全储存
P402 + P404 存放于干燥处/密闭的容器中。
P403 + P233 存放于通风良的地方。 保持容器密闭。
P403 + P235 保持低温,存放于通风良好处。
P405 存放处须加锁。
P422 内装物存放于惰性气体之下。
废弃处置
P501 将内容物/ 容器处理到得到批准的废物处理厂。
2.3 其它危害物
遇水剧烈反应。

模块 3. 成分/组成信息
3.1 物 质
: C16H40HfN4
分子式
: 467.01 g/mol
分子量
组分 浓度或浓度范围
Tetrakis(diethylamido)hafnium(IV)
-
化学文摘登记号(CAS 19824-55-6
No.)

模块 4. 急救措施
4.1 必要的急救措施描述
一般的建议
请教医生。 向到现场的医生出示此安全技术说明书。
吸入
如果吸入,请将患者移到新鲜空气处。 如呼吸停止,进行人工呼吸。 请教医生。
皮肤接触
用肥皂和大量的水冲洗。 请教医生。
眼睛接触
用大量水彻底冲洗至少15分钟并请教医生。
食入
禁止催吐。 切勿给失去知觉者通过口喂任何东西。 用水漱口。 请教医生。
4.2 主要症状和影响,急性和迟发效应
据我们所知,此化学,物理和毒性性质尚未经完整的研究。
4.3 及时的医疗处理和所需的特殊处理的说明和指示
无数据资料

模块 5. 消防措施
5.1 灭火介质
灭火方法及灭火剂
干粉
5.2 源于此物质或混合物的特别的危害
碳氧化物, 氮氧化物, 二氧化铪
5.3 给消防员的建议
如必要的话,戴自给式呼吸器去救火。
5.4 进一步信息
无数据资料

模块 6. 泄露应急处理
6.1 作业人员防护措施、防护装备和应急处置程序
使用个人防护用品。 避免吸入蒸气、烟雾或气体。 保证充分的通风。 移去所有火源。
人员疏散到安全区域。 谨防蒸气积累达到可爆炸的浓度。蒸气能在低洼处积聚。
6.2 环境保护措施
如能确保安全,可采取措施防止进一步的泄漏或溢出。 不要让产品进入下水道。
6.3 泄漏化学品的收容、清除方法及所使用的处置材料
围堵溢出,用防电真空清洁器或湿刷子将溢出物收集起来,并放置到容器中去,根据当地规定处理(见第13部
分)。 不要用水冲洗。
6.4 参考其他部分
丢弃处理请参阅第13节。

模块 7. 操作处置与储存
7.1 安全操作的注意事项
避免接触皮肤和眼睛。 避免吸入蒸气和烟雾。
切勿靠近火源。-严禁烟火。采取措施防止静电积聚。
7.2 安全储存的条件,包括任何不兼容性
贮存在阴凉处。 使容器保持密闭,储存在干燥通风处。
打开了的容器必须仔细重新封口并保持竖放位置以防止泄漏。
贮存期间严禁与水接触。
7.3 特定用途
无数据资料

模块 8. 接触控制和个体防护
8.1 容许浓度
最高容许浓度
没有已知的国家规定的暴露极限。
8.2 暴露控制
适当的技术控制
根据良好的工业卫生和安全规范进行操作。 休息前和工作结束时洗手。
个体防护设备
眼/面保护
面罩與安全眼鏡请使用经官方标准如NIOSH (美国) 或 EN 166(欧盟) 检测与批准的设备防护眼部。
皮肤保护
戴手套取 手套在使用前必须受检查。
请使用合适的方法脱除手套(不要接触手套外部表面),避免任何皮肤部位接触此产品.
使用后请将被污染过的手套根据相关法律法规和有效的实验室规章程序谨慎处理. 请清洗并吹干双手
所选择的保护手套必须符合EU的89/686/EEC规定和从它衍生出来的EN 376标准。
身体保护
防渗透的衣服, 阻燃防静电防护服,
防护设备的类型必须根据特定工作场所中的危险物的浓度和数量来选择。
呼吸系统防护
如危险性评测显示需要使用空气净化的防毒面具,请使用全面罩式多功能防毒面具(US)或ABEK型
(EN
14387)防毒面具筒作为工程控制的候补。如果防毒面具是保护的唯一方式,则使用全面罩式送风防
毒面具。 呼吸器使用经过测试并通过政府标准如NIOSH(US)或CEN(EU)的呼吸器和零件。

模块 9. 理化特性
9.1 基本的理化特性的信息
a) 外观与性状
形状: 液体
b) 气味
无数据资料
c) 气味阈值
无数据资料
d) pH值
无数据资料
e) 熔点/凝固点
无数据资料
f) 沸点、初沸点和沸程
130 °C 在 0.01 hPa
g) 闪点
10 °C - 闭杯
h) 蒸发速率
无数据资料
i) 易燃性(固体,气体)
无数据资料
j) 高的/低的燃烧性或爆炸性限度 无数据资料
k) 蒸气压
无数据资料
l) 蒸汽密度
无数据资料
m) 密度/相对密度
1.249 g/cm3
n) 水溶性
无数据资料
o) n-辛醇/水分配系数
无数据资料
p) 自燃温度
无数据资料
q) 分解温度
无数据资料
r) 粘度
无数据资料

模块 10. 稳定性和反应活性
10.1 反应性
无数据资料
10.2 稳定性
无数据资料
10.3 危险反应
遇水剧烈反应。
10.4 应避免的条件
防治容器进水以免发生剧烈反应。
热,火焰和火花。 极端温度和直接日晒。 暴露在潮湿中。
10.5 不相容的物质
强氧化剂强氧化剂, 水, 氧
10.6 危险的分解产物
其它分解产物 - 无数据资料

模块 11. 毒理学资料
11.1 毒理学影响的信息
急性毒性
无数据资料
皮肤刺激或腐蚀
无数据资料
眼睛刺激或腐蚀
无数据资料
呼吸道或皮肤过敏
无数据资料
生殖细胞致突变性
无数据资料
致癌性
IARC:
此产品中没有大于或等于 0。1%含量的组分被 IARC鉴别为可能的或肯定的人类致癌物。
生殖毒性
无数据资料
特异性靶器官系统毒性(一次接触)
吸入 - 可能引起呼吸道刺激。
特异性靶器官系统毒性(反复接触)
无数据资料
吸入危险
无数据资料
潜在的健康影响
吸入 吸入可能有害。 引起呼吸道刺激。
摄入 如服入是有害的。
皮肤 通过皮肤吸收可能有害。 造成皮肤刺激。
眼睛 造成严重眼刺激。
接触后的征兆和症状
据我们所知,此化学,物理和毒性性质尚未经完整的研究。
附加说明
化学物质毒性作用登记: 无数据资料

模块 12. 生态学资料
12.1 生态毒性
无数据资料
12.2 持久性和降解性
无数据资料
12.3 潜在的生物累积性
无数据资料
12.4 土壤中的迁移性
无数据资料
12.5 PBT 和 vPvB的结果评价
无数据资料
12.6 其它不良影响
无数据资料

模块 13. 废弃处置
13.1 废物处理方法
产品
在装备有加力燃烧室和洗刷设备的化学焚烧炉内燃烧处理,特别在点燃的时候要注意,因为此物质是高度易燃
性物质 将剩余的和不可回收的溶液交给有许可证的公司处理。
受污染的容器和包装
按未用产品处置。

模块 14. 运输信息
14.1 联合国危险货物编号
欧洲陆运危规: 3398 国际海运危规: 3398 国际空运危规: 3398
14.2 联合国运输名称
欧洲陆运危规: ORGANOMETALLIC SUBSTANCE, LIQUID, WATER-REACTIVE
(Tetrakis(diethylamido)hafnium(IV))
国际海运危规: ORGANOMETALLIC SUBSTANCE, LIQUID, WATER-REACTIVE
(Tetrakis(diethylamido)hafnium(IV))
国际空运危规: Organometallic substance, liquid, water-reactive (Tetrakis(diethylamido)hafnium(IV))
14.3 运输危险类别
欧洲陆运危规: 4.3 国际海运危规: 4.3 国际空运危规: 4.3
14.4 包裹组
欧洲陆运危规: II 国际海运危规: II 国际空运危规: II
14.5 环境危险
欧洲陆运危规: 否 国际海运危规 国际空运危规: 否
海洋污染物(是/否): 否
14.6 对使用者的特别提醒
无数据资料


模块 15 - 法规信息
N/A


模块16 - 其他信息
N/A


反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    四(二乙基氨基)铪(IV) 以 gas 为溶剂, 生成 hafnium(IV) oxide
    参考文献:
    名称:
    使用 Hf [N(C[sub 2]H[sub 5])[sub 2]][sub 4] 和 Al(O[sup i]C[sub 3]) 通过直接液体注射金属有机 CVD 生长铝酸铪薄膜H[sub 7])[sub 3]
    摘要:
    Hf[N(C 2 H 5 ) 2 ] 4 (四-二乙基酰胺-铪,TDEAH)和Al(O i C 3 H 7 ) 3 (异丙醇铝)溶解在正辛烷中的混合溶液用于用于沉积铝酸铪 (HfAl x O y ) 薄膜的直接液体注入金属有机化学气相沉积 (DLI-MOCVD)。在200-475℃的沉积温度范围内研究了沉积温度和溶液中前驱体浓度对沉积速率和铝酸铪薄膜组成的影响。沉积速率增加到 350°C 的沉积温度,活化能约为 3.6 kcal/mol,然后由于前体的气相离解而降低。铝在薄膜中的结合几乎与溶液中铝前体的浓度呈线性关系。随着膜中Al掺入量的增加,膜的结晶温度升高,但扫描电子显微镜测得的晶粒尺寸随着退火温度的升高没有明显变化。对于 100 nm 薄膜,在 800°C 下退火的 Hf 铝酸盐薄膜(约 65% 铝相)的介电常数和漏电流密度分别为 11.1 和 2.3 × 10 - 7 A/cm 2
    DOI:
    10.1149/1.1851058
  • 作为产物:
    描述:
    N-乙基甲基胺氯化铪正丁基锂 作用下, 以 乙二醇二甲醚甲苯 、 hexanes 为溶剂, 以85.8%的产率得到四(二乙基氨基)铪(IV)
    参考文献:
    名称:
    [EN] PROCESSES FOR PRODUCING TRANSITION METAL AMIDO AND IMIDO COMPOUNDS
    [FR] PROCÉDÉS DE PRODUCTION DE COMPOSÉS AMIDO ET IMIDO DE MÉTAUX DE TRANSITION
    摘要:
    公开号:
    WO2009108930A9
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文献信息

  • A Synthetic Route to a Molecular Galloxane Dihydroxide and Its Group 4 Heterobimetallic Compounds
    作者:Erandi Bernabé-Pablo、Vojtech Jancik、Mónica Moya-Cabrera
    DOI:10.1021/ic4010054
    日期:2013.6.17
    a N-heterocyclic carbene, as a HCl acceptor, led to the unprecedented molecular galloxane dihydroxide [MeLGa(OH)}2(μ-O)] (2) in high yield. Compound 2 was used in the assembly of the heterobimetallic galloxanes with group 4 metals [(MeLGa)2(μ-O)}(μ-O)2M(NR2)2}] (M = Ti, R = Me (6); M = Zr (7), Hf (8), R = Et).
    的受控水解我LGaCl 2(我L = HC [(CME)N(2,4,6-ME 3 c ^ 6 ħ 2)] 2 - ()1在存在下)ñ -杂环卡宾,作为盐酸受体,以高收率产生了前所未有的分子氢氧烷二氧六环[ Me LGa(OH)} 2(μ-O)](2)。化合物2用于杂双金属镓氧烷与第4组金属[(Me LGa)2(μ-O)}(μ-O)2 M(NR 2)2}](M = Ti,R = Me(6); M = Zr(7),Hf(8),R = Et)。
  • PATTERN-FORMING METHOD AND RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION
    申请人:JSR CORPORATION
    公开号:US20210181627A1
    公开(公告)日:2021-06-17
    A pattern-forming method includes: applying directly or indirectly on a substrate a radiation-sensitive composition containing a complex and an organic solvent to form a film; exposing the film to an ultraviolet ray, a far ultraviolet ray, an extreme ultraviolet ray, or an electron beam; and developing the film exposed, wherein the complex is represented by formula (1). [M m L n Q p ]  (1) In the formula (1), M represents a zinc atom, a cobalt atom, a nickel atom, a hafnium atom, a zirconium atom, a titanium atom, an iron atom, a chromium atom, a manganese atom, or an indium atom; and L represents a ligand derived from a compound represented by formula (2). R 1 —CHR 3 —R 2 (2) In the formula (2), R 1 and R 2 each independently represent —C(═O)—R A , —C(═O)—OR B , or —CN.
    一种图案形成方法包括:在基板上直接或间接地涂覆含有复合物和有机溶剂的辐射敏感组合物以形成膜;将膜暴露于紫外线、远紫外线、极紫外线或电子束;和显影所暴露的膜,其中该复合物由式(1)表示。[MmLnQp] (1)在式(1)中,M代表锌原子、钴原子、镍原子、铪原子、锆原子、钛原子、铁原子、铬原子、锰原子或铟原子;L代表来自由式(2)表示的化合物的配体。R1—CHR3—R2(2)在式(2)中,R1和R2分别独立地表示—C(═O)—RA、—C(═O)—ORB或—CN。
  • Processes for Producing Hafnium Complexes
    申请人:YAMADA Shuhei
    公开号:US20090005584A1
    公开(公告)日:2009-01-01
    Disclosed are first to sixth processes for respectively producing hafnium tetra-tertiary-butoxide, tetrakis(acetylacetonato)hafnium, tetrakis(1-methoxy-2-methyl-2-propanolato)hafnium, hafnium tetra-tertiary-amyloxide, tetrakis(3-methyl-3-pentoxy)hafnium, and tetrakis(hexafluoroacetylacetonato)hafnium. The first process includes the steps of (a) adding a compound A(O y XO n Rf) m (e.g., CF 3 SO 3 H) to a crude hafnium amide Hf[N(R 1 )(R 2 )] 4 ; (b) subjecting a product of the step (a) to a distillation under reduced pressure; (c) adding a lithium alkylamide Li(NR 3 R 4 ) to a fraction obtained by the step (b); (d) subjecting a product of the step (c) to a distillation under reduced pressure; (e) adding tertiary butanol to a fraction obtained by the step (d); and (f) subjecting a product of the step (e) to a distillation under reduced pressure. The tertiary butanol of the step (e) is replaced with acetylacetone, 1-methoxy-2-methyl-2-propanol, tertiary amyl alcohol, 3-methyl-3-pentanol, and hexafluoroacetylacetone in the second to six processes, respectively.
    揭示了分别用于生产四叔丁氧基铪、乙酰丙酮酸四铪、1-甲氧基-2-甲基-2-丙醇酸四铪、四叔戊氧基铪、3-甲基-3-戊氧基铪和六氟代乙酰丙酮酸四铪的第一至第六个工艺过程。第一工艺包括以下步骤:(a)将化合物A(OyXOnRf)m(例如CF3SO3H)加入粗铪酰胺Hf[N(R1)(R2)]4中;(b)将步骤(a)的产物在减压下蒸馏;(c)将步骤(b)得到的分馏物中加入锂烷胺Li(NR3R4);(d)将步骤(c)的产物在减压下蒸馏;(e)将叔丁醇加入步骤(d)得到的分馏物;(f)将步骤(e)的产物在减压下蒸馏。第二至第六个工艺中,步骤(e)的叔丁醇分别替换为乙酰丙酮、1-甲氧基-2-甲基-2-丙醇、叔戊醇、3-甲基-3-戊醇和六氟代乙酰丙酮。
  • Synthesis, Structural Characterization, and Catalytic Properties of Group 4 Metal Complexes Incorporating a Phosphorus-Bridged Indenyl-Carboranyl Constrained-Geometry Ligand
    作者:Hong Wang、Hoi-Shan Chan、Jun Okuda、Zuowei Xie
    DOI:10.1021/om050079m
    日期:2005.6.20
    Interaction of iPr2NP(C9H7)(C2B10H11) with 1 equiv of M(NR2)4 in toluene gave constrained-geometry group 4 metal amides [η5:σ-iPr2NP(C9H6)(C2B10H10)]M(NMe2)2 (R = Me, M = Ti (1), Zr (2), Hf (3); R = Et, M = Hf (4)) in good yields. Compound 2 reacted with 3 equiv of PhNCO to produce the tri-insertion product [η5:σ-iPr2NP(C9H6)(C2B10H10)]Zr[η2-OC(NMe2)NPh][η2-OC(NMe2)N(Ph)C(NPh)O] (5). No further insertion
    我的互动PR 2 NP(C 9 H ^ 7)(C 2乙10 ħ 11)与1个当量M(NR的2)4在甲苯中都给限制几何构型第4族金属的酰胺[ η 5:σ -我Pr 2 NP(C 9 H 6)(C 2 B 10 H 10)] M(NMe 2)2(R = Me,M = Ti(1),Zr(2),Hf(3); R = Et, M = Hf(4)),收率良好。化合物2与3当量的PhNCO反应以产生三插入产物[η 5:σ -我PR 2 NP(C 9 H ^ 6)(C 2乙10 ħ 10)]锆[η 2 -OC(NME 2)NPH] [η 2 -OC(NME 2)N(PH)C (NPH)O](5)。与另一当量的PhNCO不会发生进一步的插入反应。相反,三聚体(PhNCO)3被隔离了。化合物2与2当量的反应Ñ在甲苯中,得到正丁基锂,从DME /甲苯重结晶,二锂盐[李(DME)后3 ] [η 5:σ -我Pr 2
  • Group 4 complexes supported by nitrogen-rich heterocycles bearing chalcogen donor atoms
    作者:Erandi Bernabé-Pablo、Azucena Campirán-Martínez、Vojtech Jancik、Diego Martínez-Otero、Mónica Moya-Cabrera
    DOI:10.1016/j.poly.2015.08.004
    日期:2016.5
    (8)]. The reaction of M(NR2)4 (M = Zr, Hf, R = Me, Et) with 1 and 2 failed. However, the zirconium and hafnium disubstituted complexes, [M(NR2)2κ2-N,E-(4,5-(P(E)Ph2)2tz}2] [M = Zr, E = S, R = Me (11), Et (12); M = Hf, E = S, R = Me (13), Et (14); M = Zr, E = Se, R = Et (15); M = Hf, E = Se, R = Et (16)] were obtained from the silylated derivatives [SiMe3κ1-N-(4,5-(P(E)Ph2)2tz}] [E = S(9), Se(10)] and
    摘要配体[H 4,5-(P(E)Ph2)2tz}]的等摩尔和过量比率反应[tz = 1,2,3-三唑; E = S(1),Se(2)]与Ti(NR2)4(R = Me,Et)生成双取代的配合物[Ti(NR2)2 κ2-N,E-(4,5-(P( E)Ph2)2tz} 2] [E = S,R = Me(3),Et(4); E = Se,R = Me(5),Et(6)],而1和2的反应与Ti(NEt2)2Cl2得到单取代的配合物[Ti(NEt2)Cl2 κ2-N,E-(4,5-(P(E)Ph2)2tz}] [E = S(7),Se(8)] 。M(NR2)4(M = Zr,Hf,R = Me,Et)与1和2的反应失败,但是锆和ha双取代的配合物[M(NR2)2 κ2-N,E- (4,5-(P(E)Ph2)2tz} 2] [M = Zr,E = S,R = Me(11),Et(12); M =
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