(1-乙基环戊基)2-(羟基甲基)丙-2-烯酸酯 | 754213-66-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羟基酸及其衍生物
• 中文名称: (1-乙基环戊基)2-(羟基甲基)丙-2-烯酸酯
• 中文别名: 2H-吡喃-2-酮,四氢-3-(三氟乙酰基)-,(+)-(9CI)
• 英文名称: 1-ethylcyclopentyl α-(hydroxymethyl)acrylate
• 英文别名: 1-Ethylcyclopentyl alpha-(hydroxymethyl)acrylate；(1-ethylcyclopentyl) 2-(hydroxymethyl)prop-2-enoate
• CAS: 754213-66-6
• 化学式: C₁₁H₁₈O₃
• 分子量: 198.262
• InChiKey: LZFKDOOEGJKESE-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.8
• 重原子数：
  14
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.73
• 拓扑面积：
  46.5
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  (1-乙基环戊基)2-(羟基甲基)丙-2-烯酸酯 、 甲基丙烯酰氯 在 三乙胺 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 反应 3.5h， 生成 (1-ethylcyclopentyl) 2-(2-methylprop-2-enoyloxymethyl)prop-2-enoate
  参考文献：
  名称：

  化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

  摘要：

  这个化合物是由具有良好焦点边缘的光刻胶组分所含的树脂构成单元构成的，其目的是提供适合的化合物。在式（I）中表示的化合物。在式（I）中，R1代表具有卤素原子的碳数为1〜6的烷基、氢原子或卤素原子。A1代表单键，碳数为1〜6的烷基二基或*−A2−X1−（A3−X2）a−（A4）b−。*表示与氧原子的结合手。A2、A3和A4分别独立地表示碳数为1〜6的烷基二基。X1和X2分别独立地表示−O−、−CO−O−或−O−CO−。a表示0或1。b表示0或1。R2表示具有5〜12个碳原子的脂环烃基（该脂环烃基具有1〜12个碳原子的烷基）。【选择图】无

  公开号：

  JP2018203743A
• 作为产物：
  描述：

  1-ethylcyclopentyl acrylate 以68%的产率得到(1-乙基环戊基)2-(羟基甲基)丙-2-烯酸酯
  参考文献：
  名称：

  Alicyclic methacrylate having oxygen substituent group on alpha-methyl

  摘要：

  具有在其α-甲基基上的氧取代基的脂环族甲基丙烯酸酯化合物，由式（1）表示，其中R1为H或C1-C10烷基，可以包含卤素原子，羟基，醚键，羰基，羧基或氰基，R2是具有脂环结构的单价C3-C20有机基团。由这些脂环族甲基丙烯酸酯化合物制备的聚合物具有改善的透明度，特别是在准分子激光的曝光波长下，以及改善的干法刻蚀抵抗力。包括这些聚合物的抗蚀剂组合物对高能辐射敏感，具有高分辨率，允许平滑的开发，适用于微细图案制备，因此适用于VLSI制造的微细图案材料。

  公开号：

  US20040176630A1

文献信息

• MONOMER, POLYMER, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US20140045123A1

  公开（公告）日：2014-02-13

  A polymer comprising recurring units derived from a (meth)acrylate monomer of tertiary ester type having branched alkyl on alicycle is used to form a resist composition. When subjected to exposure, PEB and organic solvent development, the resist composition is improved in dissolution contrast.

  一种聚合物，包括由具有支链烷基的萜酸酯单体衍生的重复单元，用于形成抗蚀组合物。在经过曝光、PEB和有机溶剂显影处理后，抗蚀组合物在溶解对比度方面得到改善。
• ACTIVE LIGHT RAY SENSITIVE OR RADIOACTIVE RAY SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND ACTIVE LIGHT RAY SENSITIVE OR RADIOACTIVE RAY SENSITIVE FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
  申请人：KAWABATA Takeshi

  公开号：US20120082939A1

  公开（公告）日：2012-04-05

  An active light ray sensitive or radioactive ray sensitive resin composition which satisfies high sensitivity, high resolution, good pattern configuration, and good line edge roughness at the same time to a great extent, while having sufficiently good outgassing performance during exposure, and an active light ray sensitive or radioactive ray sensitive film formed by using the composition, and a pattern-forming method, are provided. The active light ray sensitive or radioactive ray sensitive resin composition according to the present invention includes a resin (P) containing a repeating unit (A) which decomposes by irradiation with active light ray or radioactive ray to generate an acid, and a repeating unit (C) containing a primary or secondary hydroxyl group.

  提供了一种活性光线敏感或放射线敏感的树脂组合物，其在很大程度上同时满足高灵敏度、高分辨率、良好的图案配置和良好的线边粗糙度，同时在曝光期间具有足够好的排气性能，以及使用该组合物形成的活性光线敏感或放射线敏感薄膜和形成图案的方法。本发明的活性光线敏感或放射线敏感的树脂组合物包括含有重复单元（A）的树脂（P），该重复单元通过活性光线或放射线辐射分解生成酸，并且含有主要或次要羟基的重复单元（C）。
• Alicyclic methacrylate having oxygen substituent group on α-methyl
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US07041846B2

  公开（公告）日：2006-05-09

  Alicyclic methacrylate compounds having an oxygen substituent group on their α-methyl group, represented by formula (1), are novel wherein R1 is H or C1–C10 alkyl which may contain a halogen atom, hydroxyl group, ether bond, carbonyl group, carboxyl group or cyano group, and R2 is a monovalent C3–C20 organic group having an alicyclic structure. Polymers prepared from these alicyclic methacrylate compounds have improved transparency, especially at the exposure wavelength of an excimer laser, and improved dry etching resistance. Resist compositions comprising the polymers are sensitive to high-energy radiation, show a high resolution, allow smooth development, lend themselves to micropatterning, and are thus suitable as micropatterning material for VLSI fabrication

  具有α-甲基基团上氧代取代基的脂环族甲基丙烯酸酯化合物，其化学式为（1），其中R1是H或C1-C10烷基，可能含有卤素原子，羟基，醚键，酰基，羧基或氰基，而R2是具有脂环结构的单价C3-C20有机基团。从这些脂环族甲基丙烯酸酯化合物制备的聚合物具有改善的透明度，特别是在准分子激光的曝光波长下，并且具有改善的干法蚀刻抗性。包含这些聚合物的抗蚀剂组合物对高能辐射敏感，具有高分辨率，允许平滑开发，易于微图案化，因此适用于VLSI制造的微图案化材料。
• Alcoholic hydroxyl group-, aromatic ring- and protolytically leaving group-containing copolymer
  申请人：Nippon Shokubai Co., Ltd.

  公开号：EP1357428A1

  公开（公告）日：2003-10-29

  It is an object of the present invention, which has been made in view of the above-mentioned state of the art, to provide a protolytically leaving group-containing copolymer which can exhibit high levels of changes in characteristics, such as solubility in alkaline aqueous solutions after free proton treatment as compared with the, solubility before such treatment, and of substrate adhesion, developability, chemical resistance and etching resistance and which can judiciously be applied in various fields of application. The present invention is related to a protolytically leaving group-containing copolymer which is a copolymer having hydroxyl groups each bound to the main chain thereof via one carbon atom, aromatic rings, and protolytically leaving groups, wherein said protolytically leaving group-containing copolymer showing an alkali dissolution rate of 20 × 10-10 to 1,500 × 10-10 m/second prior to protolytically leaving group elimination.

  鉴于上述技术现状，本发明的目的是提供一种含原聚离去基团的共聚物，该共聚物在自由质子处理后，与处理前相比，在碱性水溶液中的溶解度、基材粘附性、显影性、耐化学性和耐蚀刻性等特性可发生高水平的变化，并可合理地应用于各种应用领域。 本发明涉及一种含原聚离去基团的共聚物，它是一种共聚物，具有通过一个碳原子与主链结合的羟基、芳香环和原聚离去基团，其中所述含原聚离去基团的共聚物在原聚离去基团消除前的碱溶解速率为 20 × 10-10 至 1,500 × 10-10 米/秒。
• JP6389747
  申请人：——

  公开号：——

  公开（公告）日：——