(1-乙基环戊基)2-(甲氧基甲基)丙-2-烯酸酯 | 754213-67-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 中文名称: (1-乙基环戊基)2-(甲氧基甲基)丙-2-烯酸酯
• 英文名称: 1-ethylcyclopentyl α-(methoxymethyl)acrylate
• 英文别名: 1-Ethylcyclopentyl alpha-(methoxymethyl)acrylate；(1-ethylcyclopentyl) 2-(methoxymethyl)prop-2-enoate
• CAS: 754213-67-7
• 化学式: C₁₂H₂₀O₃
• 分子量: 212.289
• InChiKey: FASCRQXHDODZIJ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.3
• 重原子数：
  15
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.75
• 拓扑面积：
  35.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  (1-乙基环戊基)2-(羟基甲基)丙-2-烯酸酯 、 碘甲烷 在 silver(I) oxide 作用下， 以 N,N-二甲基甲酰胺 为溶剂， 50.0 ℃ 、2.13 kPa 条件下， 反应 30.0h， 以gave 1-ethylcyclopentyl α-(methoxymethyl)acrylate的产率得到(1-乙基环戊基)2-(甲氧基甲基)丙-2-烯酸酯
  参考文献：
  名称：

  Alicyclic methacrylate having oxygen substituent group on α-methyl

  摘要：

  具有α-甲基基团上氧代取代基的脂环族甲基丙烯酸酯化合物，其化学式为（1），其中R1是H或C1-C10烷基，可能含有卤素原子，羟基，醚键，酰基，羧基或氰基，而R2是具有脂环结构的单价C3-C20有机基团。从这些脂环族甲基丙烯酸酯化合物制备的聚合物具有改善的透明度，特别是在准分子激光的曝光波长下，并且具有改善的干法蚀刻抗性。包含这些聚合物的抗蚀剂组合物对高能辐射敏感，具有高分辨率，允许平滑开发，易于微图案化，因此适用于VLSI制造的微图案化材料。

  公开号：

  US07041846B2

文献信息

• MONOMER, POLYMER, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US20140045123A1

  公开（公告）日：2014-02-13

  A polymer comprising recurring units derived from a (meth)acrylate monomer of tertiary ester type having branched alkyl on alicycle is used to form a resist composition. When subjected to exposure, PEB and organic solvent development, the resist composition is improved in dissolution contrast.

  一种聚合物，包括由具有支链烷基的萜酸酯单体衍生的重复单元，用于形成抗蚀组合物。在经过曝光、PEB和有机溶剂显影处理后，抗蚀组合物在溶解对比度方面得到改善。
• Alicyclic methacrylate having oxygen substituent group on alpha-methyl
  申请人：——

  公开号：US20040176630A1

  公开（公告）日：2004-09-09

  Alicyclic methacrylate compounds having an oxygen substituent group on their &agr;-methyl group, represented by formula (1), are novel wherein R 1 is H or C 1 -C 10 alkyl which may contain a halogen atom, hydroxyl group, ether bond, carbonyl group, carboxyl group or cyano group, and R 2 is a monovalent C 3 -C 20 organic group having an alicyclic structure. Polymers prepared from these alicyclic methacrylate compounds have improved transparency, especially at the exposure wavelength of an excimer laser, and improved dry etching resistance. Resist compositions comprising the polymers are sensitive to high-energy radiation, show a high resolution, allow smooth development, lend themselves to micropatterning, and are thus suitable as micropatterning material for VLSI fabrication. 1

  具有氧取代基的环状甲基丙烯酸酯化合物在其α-甲基基团上，由式（1）表示，其中R1是H或C1-C10烷基，可能包含卤素原子，羟基，醚键，羰基，羧基或氰基，而R2是具有环状结构的一价C3-C20有机基团。从这些环状甲基丙烯酸酯化合物制备的聚合物具有改善的透明度，特别是在准分子激光的曝光波长下，以及改善的干法蚀刻抗性。包含这些聚合物的抗蚀剂组合物对高能辐射敏感，具有高分辨率，允许平滑开发，适用于微图案制作，因此适用于VLSI制造的微图案材料。
• PATTERNING PROCESS AND RESIST COMPOSITION
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US20140051026A1

  公开（公告）日：2014-02-20

  A negative pattern is formed by coating a resist composition comprising a polymer comprising recurring units having a tertiary ester type acid labile group having a plurality of methyl or ethyl groups on alicycle and an acid generator onto a substrate, prebaking, exposing to high-energy radiation, baking, and developing in an organic solvent developer so that the unexposed region of resist film is dissolved away and the exposed region of resist film is not dissolved. The resist composition exhibits a high dissolution contrast during organic solvent development and forms a fine hole or trench pattern of dimensional uniformity.
• US7041846B2
  申请人：——

  公开号：US7041846B2

  公开（公告）日：2006-05-09
• US9017931B2
  申请人：——

  公开号：US9017931B2

  公开（公告）日：2015-04-28