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(4-叔-丁基苯基)二苯基锍三氟甲磺酸 | 145612-66-4

中文名称
(4-叔-丁基苯基)二苯基锍三氟甲磺酸
中文别名
(4-叔丁基苯基)二苯基锍三氟甲磺酸盐;(4-叔丁基苯基)二苯基锍三氟甲磺酸酯
英文名称
4-tert-butylphenyldiphenylsulfonium trifluoromethanesulfonate
英文别名
diphenyl(4-tert-butylphenyl)sulfonium triflate;4-t-butylphenyl.diphenylsulfonium trifluoromethanesulfonate;(4-tert-Butylphenyl)diphenylsulfonium triflate;(4-tert-butylphenyl)-diphenylsulfanium;trifluoromethanesulfonate
(4-叔-丁基苯基)二苯基锍三氟甲磺酸化学式
CAS
145612-66-4
化学式
CF3O3S*C22H23S
mdl
——
分子量
468.561
InChiKey
RLAWXWSZTKMPQQ-UHFFFAOYSA-M
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

物化性质

  • 熔点:
    114-117 °C(lit.)
  • 稳定性/保质期:
    常温常压下稳定,避免与酸和强氧化剂接触。

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    6.13
  • 重原子数:
    31
  • 可旋转键数:
    4
  • 环数:
    3.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.22
  • 拓扑面积:
    66.6
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    6

安全信息

  • 危险品标志:
    C,Xi
  • 危险类别码:
    R36/37/38
  • 安全说明:
    S26
  • WGK Germany:
    3

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    参考文献:
    名称:
    通过电子供体-受体复合物光活化的通用芳烃 C-H 功能化策略
    摘要:
    电子供体-受体复合物的光活化已成为产生自由基物种的可持续、选择性和通用策略。然而,当谈到芳基自由基的形成时,这种策略仍然受到芳香自由基前体的电子特性的阻碍,并且需要缺电子的芳基卤化物受体。这阻碍了芳基自由基形成的通用合成平台的实施。我们的研究介绍了三芳基硫盐作为光活性电子供体-受体复合物中的受体,并与催化量的新设计的胺供体结合使用。硫盐标记使芳基自由基前体的电子特征变得无关紧要,更重要的是,它通过 C-H 亚磺酰化作用区域选择性地安装在天然芳香族化合物中。
    DOI:
    10.1038/s41557-022-01092-y
  • 作为产物:
    参考文献:
    名称:
    通过电子供体-受体复合物光活化的通用芳烃 C-H 功能化策略
    摘要:
    电子供体-受体复合物的光活化已成为产生自由基物种的可持续、选择性和通用策略。然而,当谈到芳基自由基的形成时,这种策略仍然受到芳香自由基前体的电子特性的阻碍,并且需要缺电子的芳基卤化物受体。这阻碍了芳基自由基形成的通用合成平台的实施。我们的研究介绍了三芳基硫盐作为光活性电子供体-受体复合物中的受体,并与催化量的新设计的胺供体结合使用。硫盐标记使芳基自由基前体的电子特征变得无关紧要,更重要的是,它通过 C-H 亚磺酰化作用区域选择性地安装在天然芳香族化合物中。
    DOI:
    10.1038/s41557-022-01092-y
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文献信息

  • METHOD FOR PRODUCING COMPOUND HAVING ACID-LABILE GROUP
    申请人:Kyowa Hakko Chemical Co., Ltd.
    公开号:EP1661918A1
    公开(公告)日:2006-05-31
    The present invention provides a process for producing a compound having a group represented by general formula (II): (wherein R1, R2, and R3 may be the same or different, and each represent a substituted or unsubstituted alkyl, a substituted or unsubstituted aryl, or a substituted or unsubstituted aralkyl, or R1 and R2 may bind to each other to form an alicyclic hydrocarbon ring together with the adjacent carbon atoms, or R2 and R3 may bind to each other to form a alicyclic heterocyclic ring together with the adjacent O-C-C that may have a substituent), which comprises allowing a compound having a hydroxyl group to react with halogenated alkyl ether represented by general formula (I): (wherein R1, R2, and R3 are the same as those defined above, respectively and X represents a halogen atom).
    本发明提供了一种生产具有由通式(II)表示的基团的化合物的方法:(其中R1、R2和R3可以相同也可以不同,并且分别表示取代或未取代的烷基、取代或未取代的芳基、或取代或未取代的芳基烷基,或者R1和R2可以相互结合形成与相邻碳原子一起的脂环碳氢环,或者R2和R3可以相互结合形成与相邻的O-C-C一起具有取代基的脂环杂环)的方法,该方法包括允许具有羟基的化合物与由通式(I)表示的卤代烷基醚发生反应:(其中R1、R2和R3分别与上述定义相同,X代表卤素原子)。
  • Compositions and Methods Incorporating Photocatalysts
    申请人:Baker Ellen Schmidt
    公开号:US20090285768A1
    公开(公告)日:2009-11-19
    The various embodiments provide a composition including an active material having functional groups capable of covalent attachment to a substrate in the presence of an acid or a base, a photocatalyst capable of generating an acid or a base upon exposure to light, and a vehicle. The compositions may also include surfactants, emulsifiers, oxidants, and other components. A method for treating a substrate is also disclosed. The method includes the steps of applying at least one active material having functional groups to the substrate, applying a photocatalyst to the substrate, and exposing the photocatalyst and the at least one active material to light for forming covalent attachments between the functional groups and constituent groups on the substrate. The compositions and methods described herein are useful in personal care product and consumer care product applications, for example.
    各种实施例提供了一种组合物,包括具有在酸或碱存在下能够与基底共价结合的功能基团的活性材料,能够在光照下生成酸或碱的光催化剂,以及载体。该组合物还可以包括表面活性剂、乳化剂、氧化剂和其他组分。还公开了一种处理基底的方法。该方法包括将至少一种具有功能基团的活性材料应用于基底,将光催化剂应用于基底,并将光照射到光催化剂和至少一种活性材料,以形成功能基团与基底上的成分基团之间的共价结合。这里描述的组合物和方法在个人护理产品和消费者护理产品应用中是有用的。
  • [EN] CYCLOPROPENIUM POLYMERS AND METHODS FOR MAKING THE SAME<br/>[FR] POLYMÈRES DE CYCLOPROPÉNIUM ET LEURS PROCÉDÉS DE FABRICATION
    申请人:UNIV COLUMBIA
    公开号:WO2014022365A1
    公开(公告)日:2014-02-06
    The present invention provides, inter alia, a process for incorporating a cyclopropenium ion into a polymeric system. Processes for making cross-linked polymers, linear polymers, and dendritic polymers, as well as for incorporating a cyclopropenium ion onto a preformed polymer are also provided. Further provided are stable, polycationic compounds, various polymers that contain stable cyclopropenium cations, and substrates containing such polymers. The use of these polymers in water purification systems, antimicrobial coatings, ion-transport membranes, cell supports, drug delivery vehicles, and gene therapeutic vectors are also provided.
    本发明提供了将环丙烯离子引入聚合体系的方法。还提供了制备交联聚合物、线性聚合物和树枝状聚合物的方法,以及将环丙烯离子引入预先形成的聚合物的方法。此外,还提供了稳定的多阳离子化合物、含有稳定环丙烯阳离子的各种聚合物,以及含有这些聚合物的基板。还提供了在水净化系统、抗微生物涂层、离子传输膜、细胞支撑、药物输送载体和基因治疗载体中使用这些聚合物的方法。
  • Novel anthracene derivative and radiation-sensitive resin composition
    申请人:——
    公开号:US20030194634A1
    公开(公告)日:2003-10-16
    A novel anthracene derivative useful as an additive to a radiation-sensitive resin composition is disclosed. The anthracene derivative has the following formula (1), 1 wherein R 1 groups individually represent a hydroxyl group or a monovalent organic group having 1-20 carbon atoms, n is an integer of 0-9, X is a single bond or a divalent organic group having 1-12 carbon atoms, and R 2 represents a monovalent acid-dissociable group. The radiation-sensitive resin composition comprises the anthracene derivative of the formula (1), a resin insoluble or scarcely soluble in alkali, but becomes alkali soluble in the presence of an acid, and a photoacid generator. The composition is useful as a chemically-amplified resist for microfabrication utilizing deep ultraviolet rays, typified by a KrF excimer laser and ArF excimer laser.
    揭示了一种作为辐射敏感树脂组合物添加剂有用的新型蒽衍生物。该蒽衍生物具有以下化学式(1),其中R1基分别表示一个羟基或具有1-20个碳原子的一价有机基团,n是0-9的整数,X是一个单键或具有1-12个碳原子的二价有机基团,R2表示一价酸可解离基团。辐射敏感树脂组合物包括化学式(1)的蒽衍生物,一种在碱性条件下不溶或几乎不溶但在存在酸时变为碱溶的树脂,以及光酸发生剂。该组合物可用作化学放大光刻胶,用于利用KrF准分子激光和ArF准分子激光等深紫外线进行微加工。
  • PROCESS FOR PRODUCING ETHER COMPOUND
    申请人:Kyowa Yuka Co., Ltd.
    公开号:EP1415968A1
    公开(公告)日:2004-05-06
    The present invention provides the following process for produci ng and the like, which enables the production of an ether compound, which is useful for chemical amplification type resist compositions, synthetic intermediates of pharmaceuticals, paints, or the like, with less side reaction and in high yield. A process for producing an ether compound having a group represented by the general formula (II) wherein R1, R2 and R3 may be the same or different, and represent substituted or unsubstituted alkyl, substituted or unsubstituted aryl or substituted or unsubstituted aralkyl, or R1 and R2 form cycloalkyl together with an adjacent carbon atom,    which comprises allowing a compound having a hydroxyl group (including a carboxyl group) to react with an alkenyl ether represented by the general formula (I) wherein R1, R2 and R3 have the same significances as defined above, respectively.
    本发明提供了以下用于生产等的过程,该过程能够生产醚化合物,该化合物对于化学放大型抗蚀组合物、药物合成中间体、涂料等具有用途,且副反应较少且产率高。一种生产具有由通式(II)表示的基团的醚化合物的方法,其中R1、R2和R3可以相同也可以不同,并表示取代或未取代的烷基、取代或未取代的芳基或取代或未取代的芳基烷基,或者R1和R2与相邻碳原子一起形成环烷基,包括允许具有羟基(包括羧基)的化合物与由通式(I)表示的烯基醚发生反应,其中R1、R2和R3分别具有上述定义的相同含义。
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