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2,6-双[(4-羟基-2,5-二甲基苯基)甲基]-3,4-二甲基苯酚 | 190321-07-4

中文名称
2,6-双[(4-羟基-2,5-二甲基苯基)甲基]-3,4-二甲基苯酚
中文别名
——
英文名称
2,6-bis(4-hydroxy-2,5-dimethylbenzyl)-3,4-dimethylphenol
英文别名
2,6-bis[(4-hydroxy-2,5-dimethylphenyl)methyl]-3,4-dimethylphenol
2,6-双[(4-羟基-2,5-二甲基苯基)甲基]-3,4-二甲基苯酚化学式
CAS
190321-07-4
化学式
C26H30O3
mdl
——
分子量
390.522
InChiKey
INJMLVIDZRNNKS-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    6.9
  • 重原子数:
    29
  • 可旋转键数:
    4
  • 环数:
    3.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.31
  • 拓扑面积:
    60.7
  • 氢给体数:
    3
  • 氢受体数:
    3

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    2,6-双[(4-羟基-2,5-二甲基苯基)甲基]-3,4-二甲基苯酚sodium hydroxide聚合甲醛溶剂黄146 作用下, 以 四氢呋喃乙酸乙酯甲苯 为溶剂, 生成 2,6-bis(4-hydroxy-3-hydroxymethyl-2,5-dimethylbenzyl)-3,4-dimethylphenol
    参考文献:
    名称:
    Positive resist composition and photosensitizers
    摘要:
    一种正相光刻胶组合物,包括以下式(I)所代表的酚化合物的喹喔二唑磺酸酯作为光敏剂:其中Q.sup.1、Q.sup.2、Q.sup.3、Q.sup.4、Q.sup.5、Q.sup.6、Q.sup.7、Q.sup.8、Q.sup.9和Q.sup.10独立地代表氢、具有1-6个碳原子的烷基或苯基,或Q.sup.1和Q.sup.2、Q.sup.3和Q.sup.4、Q.sup.5和Q.sup.6、Q.sup.7和Q.sup.8、或Q.sup.9和Q.sup.10可以与它们连接的碳原子一起形成具有6个或更少碳原子的环烷烃环,R.sup.1、R.sup.2、R.sup.3、R.sup.4、R.sup.5、R.sup.6、R.sup.7、R.sup.8、R.sup.9、R.sup.10、R.sup.11、R.sup.12、R.sup.13、R.sup.14、R.sup.15和R.sup.16独立地代表氢、羟基、具有1-6个碳原子的烷基或苯基;m和n独立地代表0或1的数字;以及一种碱溶性树脂;和式(I)的一种酚化合物的喹喔二唑磺酸酯。
    公开号:
    US05866724A1
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文献信息

  • POLYBENZOXAZOLE PRECURSOR, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION USING THE SAME, AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE
    申请人:SATO Kenichiro
    公开号:US20080076849A1
    公开(公告)日:2008-03-27
    A polybenzoxazole precursor is represented by the following formula (1): wherein R 1 a to R 4 a, R 1 b to R 4 b, X 1 , Y 1 and m are defined in the specification.
  • US5866724A
    申请人:——
    公开号:US5866724A
    公开(公告)日:1999-02-02
  • US8133550B2
    申请人:——
    公开号:US8133550B2
    公开(公告)日:2012-03-13
  • US8530003B2
    申请人:——
    公开号:US8530003B2
    公开(公告)日:2013-09-10
  • Positive resist composition and photosensitizers
    申请人:Sumitomo Chemical Company, Limited
    公开号:US05866724A1
    公开(公告)日:1999-02-02
    A positive photoresist compositions comprising, as a photosensitizer, a quinonediazide sulfonic acid ester of a phenol compound represented by the following formula (I): ##STR1## wherein Q.sup.1, Q.sup.2, Q.sup.3, Q.sup.4, Q.sup.5, Q.sup.6, Q.sup.7, Q.sup.8, Q.sup.9 and Q.sup.10 independently represent hydrogen, alkyl having 1-6 carbon atoms or phenyl, or Q.sup.1 and Q.sup.2, Q.sup.3 and Q.sup.4, Q.sup.5 and Q.sup.6, Q.sup.7 and Q.sup.8, or Q.sup.9 and Q.sup.10 may form a cycloalkane ring having 6 or less carbon atoms together with a carbon atoms to which they are connected, R.sup.1, R.sup.2, R.sup.3, R.sup.4, R.sup.5, R.sup.6, R.sup.7, R.sup.8, R.sup.9, R.sup.10, R.sup.11, R.sup.12, R.sup.13, R.sup.14, R.sup.15 and R.sup.16 independently represent hydrogen, hydroxyl, alkyl having 1-6 carbon atoms or phenyl; and m and n independently represent a number of 0 or 1; and an alkali soluble resin; and a quinonediazide sulfonic acid ester of a phenol compound of formula (I).
    一种正相光刻胶组合物,包括以下式(I)所代表的酚化合物的喹喔二唑磺酸酯作为光敏剂:其中Q.sup.1、Q.sup.2、Q.sup.3、Q.sup.4、Q.sup.5、Q.sup.6、Q.sup.7、Q.sup.8、Q.sup.9和Q.sup.10独立地代表氢、具有1-6个碳原子的烷基或苯基,或Q.sup.1和Q.sup.2、Q.sup.3和Q.sup.4、Q.sup.5和Q.sup.6、Q.sup.7和Q.sup.8、或Q.sup.9和Q.sup.10可以与它们连接的碳原子一起形成具有6个或更少碳原子的环烷烃环,R.sup.1、R.sup.2、R.sup.3、R.sup.4、R.sup.5、R.sup.6、R.sup.7、R.sup.8、R.sup.9、R.sup.10、R.sup.11、R.sup.12、R.sup.13、R.sup.14、R.sup.15和R.sup.16独立地代表氢、羟基、具有1-6个碳原子的烷基或苯基;m和n独立地代表0或1的数字;以及一种碱溶性树脂;和式(I)的一种酚化合物的喹喔二唑磺酸酯。
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