2-(1-乙氧基乙氧基)丙烷 | 25334-93-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 中文名称: 2-(1-乙氧基乙氧基)丙烷
• 英文名称: Ethyl-isopropyl-acetal
• 英文别名: 2-(1-ethoxy-ethoxy)-propane；1-ethoxy-1-isopropoxy-ethane；Acetaldehyd-aethylisopropylacetal；1-Aethoxy-1-isopropoxy-aethan；Propane, 2-(1-ethoxyethoxy)-；2-(1-ethoxyethoxy)propane
• CAS: 25334-93-4
• 化学式: C₇H₁₆O₂
• 分子量: 132.203
• InChiKey: QRYDGQLSWQAGGB-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  116-118 °C
• 密度：
  0.8144 g/cm3
• LogP：
  1.49
• 保留指数：
  830

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.6
• 重原子数：
  9
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  18.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  乙烯基乙醚 、 异丙醇 在 mineral acid 作用下， 生成 2-(1-乙氧基乙氧基)丙烷
  参考文献：
  名称：

  Schosstakowski; Gerstein, Zhurnal Obshchei Khimii, 1946, vol. 16, p. 940,947

  摘要：

  DOI：

文献信息

• SUBSTITUTED PYRIMIDINONE-PHENYL-PYRIMIDINYL COMPOUNDS
  申请人：CONFLUENCE LIFE SCIENCES, INC.

  公开号：US20130143906A1

  公开（公告）日：2013-06-06

  The present disclosure provides pyrimidinone-phenyl-pyrimidinyl compounds useful in the treatment of p38 kinase mediated diseases, such as lymphoma and inflammatory disease, having the structure of Formula (I): wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and R 5 are as defined in the detailed description; pharmaceutical compositions comprising at least one of the compounds; and methods for treating p38 kinase mediated diseases using the compound.

  本公开提供了在治疗p38激酶介导的疾病（如淋巴瘤和炎症性疾病）中有用的嘧啶酮-苯基-嘧啶基化合物，其具有如下式（I）的结构： 其中R1、R2、R3、R4和R5如详细描述中所定义；包括至少一种该化合物的药物组合物；以及使用该化合物治疗p38激酶介导的疾病的方法。
• POLYVINYL ETHER COMPOUND
  申请人：NAGAO Satoshi

  公开号：US20080108850A1

  公开（公告）日：2008-05-08

  The present invention provides a polyvinyl ether compound containing an alkylene glycol or polyoxyalkylene glycol unit and a vinyl ether unit in a molecule and having a molecular weight in the range of 300 to 3,000. It shows high volume resistivity and a high viscosity index, so it can be favorably used as lubricating oil for a compression refrigerator.

  本发明提供了一种聚乙烯醚化合物，其分子中含有一种烷基二醇或聚氧烷二醇单元和一种乙烯醚单元，并且分子量在300至3,000范围内。它表现出高体积电阻率和高粘度指数，因此可以优选用作压缩式制冷剂的润滑油。
• COMPOUND, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM, AND PATTERN FORMATION METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE USING SAME, AND ELECTRONIC DEVICE
  申请人：FUJIFILM CORPORATION

  公开号：US20160024005A1

  公开（公告）日：2016-01-28

  There is provided an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition containing a compound represented by the following formula (1) or (2), and the formula (1) and (2) are defined as herein, and a resist film comprising the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, and a pattern forming method comprising a step of exposing the resist film, and a step of developing the exposed film, and a method for manufacturing an electronic device, comprising the pattern forming method, and an electronic device manufactured by the manufacturing method of an electronic device.

  提供了一种包含下列式子（1）或（2）所代表的化合物的光致射线敏感或辐射敏感的树脂组合物，其中式（1）和（2）的定义如本文所述，以及包括该光致射线敏感或辐射敏感的树脂组合物的光阻膜，以及包括曝光光阻膜的步骤和显影曝光膜的步骤的图案形成方法，以及包括图案形成方法的制造电子装置的方法，以及由电子装置的制造方法制造的电子装置。
• PATTERN FORMING METHOD, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND RESIST FILM
  申请人：Enomoto Yuichiro

  公开号：US20120282548A1

  公开（公告）日：2012-11-08

  Provided is a pattern forming method comprising (i) a step of forming a film from an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, (ii) a step of exposing the film, and (iii) a step of developing the exposed film by using an organic solvent-containing developer, wherein the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprises (A) a resin capable of decreasing the solubility for an organic solvent-containing developer by the action of an acid, (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, (D) a solvent, and (G) a compound having at least either one of a fluorine atom and a silicon atom and having basicity or being capable of increasing the basicity by the action of an acid.

  提供的是一种形成图案的方法，包括(i)使用光致或辐射敏感树脂组成物形成薄膜的步骤，(ii)曝光薄膜的步骤，以及(iii)使用有机溶剂含有的显影剂显影曝光后的薄膜的步骤，其中光致或辐射敏感树脂组成物包括(A)一种能够通过酸的作用降低有机溶剂含有的显影剂的溶解度的树脂，(B)一种能够在光致或辐射照射下生成酸的化合物，(D)一种溶剂，以及(G)一种具有氟原子和硅原子中的至少一种，并具有碱性或能够通过酸的作用增加碱性的化合物。
• [EN] SYNTHESIS OF VINYL CYCLOBUTYL INTERMEDIATES<br/>[FR] SYNTHÈSE D'INTERMÉDIAIRES DE VINYLCYCLOBUTYLE
  申请人：AMGEN INC

  公开号：WO2021226009A1

  公开（公告）日：2021-11-11

  Provided herein are processes for synthesizing intermediates useful in preparing Mcl-1 inhibitors. In particular, provided herein are processes for synthesizing compound F, or a salt thereof, wherein R1 and OPG2 are described herein. Compound F can be useful in synthesizing compound A1, or a salt of solvate thereof, and compound A2, or a salt of solvate thereof.

  本文提供了用于合成制备Mcl-1抑制剂中间体的过程。特别地，本文提供了用于合成化合物F或其盐的过程，其中R1和OPG2如本文所述。化合物F可以用于合成化合物A1或其盐溶剂，以及化合物A2或其盐溶剂。