1-silyl-1-silacyclopent-3-ene | 55544-28-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物
• 英文名称: 1-silyl-1-silacyclopent-3-ene
• 英文别名: Silyl-sila-cyclopenten-3；1-silanyl-2,5-dihydro-1H-silole；1-Silyl-2,5-dihydro-1H-silole；2,5-dihydro-1H-silol-1-ylsilane
• CAS: 55544-28-0
• 化学式: C₄H₁₀Si₂
• 分子量: 114.294
• InChiKey: UPXMKISWEVYEMU-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  106.5±43.0 °C(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -0.35
• 重原子数：
  6
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.5
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  0

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  1,3-丁二烯 在 三硅烷 作用下， 生成 1-silyl-1-silacyclopent-3-ene
  参考文献：
  名称：

  甲硅烷基和亚二甲基亚砜与1,3-丁二烯的反应

  摘要：

  通过1，3-丁二烯与由乙硅烷热解产生的SiH 2，ClSiH和CH 3 SiH反应获得Sila-3-环戊烯。由1,3-丁二烯的有Si的反应在接近等量得到1- Silylsila -3-环戊烯和1,2-二硅杂-4-环己烯2 ħ 4（H 3 SiSiH或H 2 SiSiH 2）产生由Si 3 H 6的热解得到。SiH 2与1,3-丁二烯和Si 2 H 6的竞争反应以及GeH 2与1,3-丁二烯和狄格曼的竞争反应表明，SiH 2除了1，3-丁二烯之外的GeH 2与插入到Si 2 H 6中可以有利地竞争，除了1，3-丁二烯之外的GeH 2与Ge 2 H 6插入也没有竞争。

  DOI：

  10.1016/s0022-328x(00)89825-3

文献信息

• UV laser-induced photolysis of silacyclopent-3-ene: unseparable photochemistry of reactant and product for chemical vapour deposition of Si/C/H polymer
  作者：Josef Pola、Akihiko Ouchi、Markéta Urbanová、Yoshinori Koga、Zdenĕk Bastl、Jan Šubrt

  DOI：10.1016/s0022-328x(98)01001-8

  日期：1999.3

  UV laser-induced photolysis of silacyclopent-3-ene in the gas phase is a clean extrusion of silylene yielding buta-1,3-diene. Silylene self-polymerisation and consequent deposition of Si(n)H(2n) agglomerates is precluded by concurrently occurring photolysis of buta-1,3-diene. The solid polymeric deposit being produced through polymerisation steps involving both H(2)Si: and the products of the buta-1,3-diene photolysis makes the reaction suitable for chemical vapour deposition of Si/C/H films. (C) 1999 Elsevier Science S.A. All rights reserved.
• GASPAR, PETER P.;BOO, BONG HYUN;SVOBODA, DANIEL L., J. PHYS. CHEM., 91,(1987) N 19, 5011-5013
  作者：GASPAR, PETER P.、BOO, BONG HYUN、SVOBODA, DANIEL L.

  DOI：——

  日期：——