1-Ethoxyethyl bromoacetate | 121669-92-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: 1-Ethoxyethyl bromoacetate
• 英文别名: 1-ethoxyethyl 2-bromoacetate
• CAS: 121669-92-9
• 化学式: C₆H₁₁BrO₃
• 分子量: 211.056
• InChiKey: ZAYWKTJZACHOOZ-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  85 °C(Press: 3 Torr)
• 密度：
  1.397±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.7
• 重原子数：
  10
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.83
• 拓扑面积：
  35.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  联苯单乙酮 、 1-Ethoxyethyl bromoacetate 在 碘 、 mercury dichloride 、 锌 、 盐酸 、 水 作用下， 以 四氢呋喃 、 苯 为溶剂， 生成 3-hydroxy-3-(biphenyl-4-yl)butanoic acid
  参考文献：
  名称：

  Docking Studies and α-Substitution Effects on the Anti-Inflammatory Activity of β-Hydroxy-β-arylpropanoic Acids

  摘要：

  我们采用一种改良的 Reformatsky 反应合成了六种 β-羟基-β-芳基丙酸。这些酸属于芳基丙酸类化合物，在结构上与布洛芬等非甾体抗炎药相似，因此具有抗炎活性。这项工作的目的是测定抗炎活性，检查胃耐受性，并进行分子对接实验，以在β-羟基-β-芳基丙酸中找出潜在的 COX-2 抑制剂，并阐明α-甲基取代对抗炎活性的影响。采用卡拉根南诱导爪水肿法测定了大鼠的抗炎活性和胃耐受性，并使用 Autodock v4.0.1 进行了对接研究。ED50 值范围介于 127 µmol/kg 和 15 µmol/kg 之间，而布洛芬的 ED50 值为 51.7 µmol/kg。大鼠的胃部仅出现轻微的高血症或少量瘀斑。结果表明，所有化合物在口服后都具有显著的抗炎活性，其中 2-甲基-3-羟基-3,3-二苯基丙酸的活性最强，超过了标准的非甾体抗炎药布洛芬。另一种化合物--3-羟基-3,3-二苯基丙酸的活性与布洛芬相当，而且无手性，经证实无毒。大多数研究化合物都与 P3 锚点有相互作用，就像 COX-2 选择性抑制剂一样。没有任何受测物质或布洛芬会产生明显的胃部病变。

  DOI：

  10.3390/molecules16086645
• 作为产物：
  描述：

  溴乙酸 、 乙烯基乙醚 以 苯 为溶剂， 生成 1-Ethoxyethyl bromoacetate
  参考文献：
  名称：

  Docking Studies and α-Substitution Effects on the Anti-Inflammatory Activity of β-Hydroxy-β-arylpropanoic Acids

  摘要：

  我们采用一种改良的 Reformatsky 反应合成了六种 β-羟基-β-芳基丙酸。这些酸属于芳基丙酸类化合物，在结构上与布洛芬等非甾体抗炎药相似，因此具有抗炎活性。这项工作的目的是测定抗炎活性，检查胃耐受性，并进行分子对接实验，以在β-羟基-β-芳基丙酸中找出潜在的 COX-2 抑制剂，并阐明α-甲基取代对抗炎活性的影响。采用卡拉根南诱导爪水肿法测定了大鼠的抗炎活性和胃耐受性，并使用 Autodock v4.0.1 进行了对接研究。ED50 值范围介于 127 µmol/kg 和 15 µmol/kg 之间，而布洛芬的 ED50 值为 51.7 µmol/kg。大鼠的胃部仅出现轻微的高血症或少量瘀斑。结果表明，所有化合物在口服后都具有显著的抗炎活性，其中 2-甲基-3-羟基-3,3-二苯基丙酸的活性最强，超过了标准的非甾体抗炎药布洛芬。另一种化合物--3-羟基-3,3-二苯基丙酸的活性与布洛芬相当，而且无手性，经证实无毒。大多数研究化合物都与 P3 锚点有相互作用，就像 COX-2 选择性抑制剂一样。没有任何受测物质或布洛芬会产生明显的胃部病变。

  DOI：

  10.3390/molecules16086645

文献信息

• Polycyclic dyes
  申请人：ZENECA LIMITED

  公开号：EP0363034A2

  公开（公告）日：1990-04-11

  A process for the preparation of a polycyclic dye of Formula I: by reacting a phenyltartronic acid of Formula II: wherein W is - NR¹R² or - OR³; R³ is H or an optionally substituted alkyl, alkenyl, cycloalkyl or aralkyl group; R¹ & R² are each independently H or an optionally substituted alkyl, alkenyl, cycloalkyl, aralkyl or aryl group; or R¹ & R² together with the nitrogen atom to which they are attached form a heterocyclic ring; or R¹ or R² together with the nitrogen atom and the adjacent carbon atom of Ring B form a heterocyclic ring; and Ring B is unsubstituted, apart from the group W, or is substituted by one or two further groups; with either (a) a compound of Formula III: wherein, Z¹ & Z² are each independently - O -, - S - or - NY - in which Y is H, an optionally-substituted hydrocarbon group or an acyl group; X¹ & X² are each independently selected from H, halogen, cyano, alkyl, aryl, carbamoyl, sulphamoyl, COOH and carboxylic acid ester; & Ring A is unsubstituted or is substituted by from one to three groups; or (b) a compound of Formula IV: wherein Z¹, Z², X¹ and X² are as hereinbefore defined; and oxidation of the intermediate compound to dehydrogenate the peripheral heterocyclic rings. The invention also comprises a product of the aforementioned process which is suitable for the colouration of polyester textile material in shades from green through to reddish-blue of the formula: wherein: X¹ & X² each independently is H, cyano, alkyl, aryl, carbamoyl, sulphamoyl, COOH or carboxylic acid ester; Z¹ & Z² each independently is - O -, - S - or - NY - in which Y is H, an optionally-substituted hydrocarbon group or an acyl group; R¹ & R² each independently is H or an optionally substituted alkyl, alkenyl, cycloalkyl, aryl or aralkyl group; or R¹ & R² together with the N atom to which they are attached, form a heterocycle; R⁴ & R⁵ each independently is H, halogen or an optionally substituted alkyl, alkenyl or alkoxy group; or R¹ & R⁴ together with the N atom and the two carbon atoms in Ring B to which they are attached form a heterocycle fused to Ring B; or R² & R⁵ together with the N atom and the two carbon atoms in Ring B to which they are attached form a heterocycle fused to Ring B; R⁶ is H, halogen, an optionally substituted alkyl or alkoxy group or a group NR¹R² in which each of R¹ and R² independently is as hereinbefore defined; R⁷ & R⁸ each independently is H, halogen or an optionally substituted alkyl, alkenyl or alkoxy group; or R¹ & R⁷ together with the N atom and the two carbon atoms in Ring A to which they are attached form a heterocycle fused to Ring A; or R² & R⁸ together with the N atom and the two carbon atoms in Ring A to which they are attached form a heterocycle fused to Ring A; and where R⁶ is NR¹R², this may be the same as or different from the NR¹R² group present in Ring B.

  一种制备式 I 多环染料的工艺： 式 II 的苯基酒石酸进行反应： 其中 W 是-NR¹R²或-OR³； R³ 是 H 或任选取代的烷基、烯基、环烷基或芳烷基； R¹ 和 R² 各自独立地为 H 或任选取代的烷基、烯基、环烷基、芳基或芳基；或 R¹ 和 R² 与它们所连接的氮原子一起形成杂环；或 R¹ 或 R² 与环 B 的氮原子和相邻碳原子一起形成杂环；以及 除基团 W 外，环 B 未被取代，或被一个或两个基团取代； (a) 式 III 的化合物： 其中 Z¹ 和 Z² 各自独立地为-O-、-S-或-NY-，其中 Y 为 H、任选取代的烃基或酰基； X¹ 和 X² 各自独立地选自 H、卤素、氰基、烷基、芳基、氨基甲酰基、氨基磺酰基、COOH 和羧酸酯；以及 环 A 未被取代或被一至三个基团取代； 或 (b) 式 IV 的化合物： 其中 Z¹、Z²、X¹ 和 X² 如前定义； 并氧化中间体化合物，使外周杂环脱氢。 本发明还包括上述工艺的一种产品，该产品适用于涤纶纺织材料的着色，其色调从绿色到红蓝色，其式如下： Z¹、Z²、X¹和 X²如前所述： 其中 X¹ 和 X² 各自独立地为 H、氰基、烷基、芳基、氨基甲酰基、氨基磺酰基、COOH 或羧酸酯； Z¹ 和 Z² 各自独立地为-O-、-S-或-NY-，其中 Y 为 H、任选取代的烃基或酰基； R¹ 和 R² 各自独立地为 H 或任选取代的烷基、烯基、环烷基、芳基或芳烷基；或 R¹ 和 R² 与它们所连接的 N 原子一起形成杂环； R⁴ 和 R⁵ 各自独立地为 H、卤素或任选取代的烷基、烯基或烷氧基；或 R¹ & R⁴ 与 N 原子和它们所连接的环 B 中的两个碳原子一起形成一个与环 B 融合的杂环；或 R² & R⁵ 与 N 原子和环 B 中与之相连的两个碳原子一起形成一个与环 B 融合的杂环； R⁶ 是 H、卤素、任选取代的烷基或烷氧基或基团 NR¹R²，其中 R¹ 和 R² 各自独立地如前所述定义； R⁷ 和 R⁸ 各自独立地为 H、卤素或任选取代的烷基、烯基或烷氧基；或 R¹ & R⁷ 与 N 原子和环 A 中与之相连的两个碳原子一起形成与环 A 融合的杂环；或 R² & R⁸ 与 N 原子和环 A 中与之相连的两个碳原子一起形成一个与环 A 融合的杂环； 当 R⁶ 为 NR¹R² 时，可与环 B 中的 NR¹R² 基团相同或不同。
• Resist material and process for forming pattern using the same
  申请人：WAKO PURE CHEMICAL INDUSTRIES LTD

  公开号：EP0476865A1

  公开（公告）日：1992-03-25

  A resist material of chemical amplified type comprising (a) a polymer such as a polymer of 1-methylcycloalkyl 4-ethenylphenoxyacetate and 4-hydroxystyrene, etc., (b) a photo-sensitive compound capable of generating an acid when exposed to light, and (c) a solvent for dissolving both the components (a) and (b) is excellent in heat resistance and adhesiveness to substrates, capable of maintaining stable pattern dimension from exposure to light to heat treatment, and capable of forming patterns using deep ultraviolet light, KrF excimer laser light, etc.

  一种化学放大型抗蚀剂材料，包括（a）聚合物，如 1-甲基环烷基 4-乙烯基苯氧乙酸酯和 4-羟基苯乙烯等的聚合物、(c) 用于溶解(a)和(b)两种成分的溶剂。这种抗蚀剂具有优异的耐热性和与基材的粘合性，从受光到热处理都能保持稳定的图案尺寸，并能使用深紫外线、KrF 准分子激光等形成图案。
• Resist compositions, their preparation and use for patterning processes
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：EP0908783A1

  公开（公告）日：1999-04-14

  A resist composition comprising (A) an organic solvent; (B) at least two polymers with weight average molecular weights of 1,000-500,000, which have at least one type of acid labile group and are crosslinked within a molecule and/or between molecules with crosslinking groups having C-O-C linkages; and (C) a photoacid generator is sensitive to high-energy radiation, has excellent sensitivity, resolution, and plasma etching resistance, and provides resist patterns of outstanding thermal stability and reproducibility. Patterns obtained with this resist composition are less prone to overhanging and have excellent dimensional controllability. The resist composition is suitable as a micropatterning material for VLSI fabrication because it has a low absorption at the exposure wavelength of a KrF excimer laser, thus enabling the easy formation of a finely defined pattern having sidewalls perpendicular to the substrate.

  一种抗蚀剂组合物包含（A）一种有机溶剂；（B）至少两种重量平均分子量在 1,000-500,000 之间的聚合物，这些聚合物具有至少一种酸易变基团，并在分子内和/或分子之间用具有 C-O-C 连接的交联基团交联；以及（C）一种光酸发生器，这种光酸发生器对高能辐射敏感，具有出色的灵敏度、分辨率和抗等离子刻蚀能力，并能提供具有出色热稳定性和可重复性的抗蚀图案。使用这种抗蚀剂组合物获得的图案不易悬空，具有极佳的尺寸可控性。这种抗蚀剂组合物适合用作超大规模集成电路制造中的微图案材料，因为它在 KrF 准分子激光的曝光波长下具有低吸收率，从而能够轻松形成具有垂直于基底侧壁的精细图案。
• 2-cyanoacrylate composition
  申请人：TOAGOSEI CO., LTD.

  公开号：US20020029848A1

  公开（公告）日：2002-03-14

  A 2-cyanoacrylate composition comprising a cyclic phenol sulfide derivative. The composition has a high curing rate and is excellent in moist-heat resistance, surface curability and clearance curability.

  一种含有环状硫化酚衍生物的 2-氰基丙烯酸酯组合物。该组合物具有较高的固化率，并在耐湿热性、表面固化性和间隙固化性方面表现出色。
• Novel styrene polymer, chemically amplified positive resist composition and patterning process
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US20030013832A1

  公开（公告）日：2003-01-16

  A styrene polymer represented by formula (1), terminated with P, and having a weight average molecular 1 wherein R is OH or OR 3 , R 1 is H or CH 3 , R 2 is alkyl, R 3 is acid labile group, x≧0, y>0, k≧0, m≧0, n>0, 0

  由式（1）代表的苯乙烯聚合物，以 P 结尾，其重量平均分子为 1 其中 R 是 OH 或 OR 3 , R 1 是 H 或 CH 3 , R 2 是烷基，R 3 是酸性基团，x≧0, y>0, k≧0, m≧0, n>0, 0