triethylammonium 2-(1-adamantanecarbonyloxy)-1,1-difluoroethanesulfonate | 1134641-67-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 有机磺酸及其衍生物
• 英文名称: triethylammonium 2-(1-adamantanecarbonyloxy)-1,1-difluoroethanesulfonate
• 英文别名: Triethylamine 2-((adamantane-1-carbonyl)oxy)-1,1-difluoroethane-1-sulfonate；2-(adamantane-1-carbonyloxy)-1,1-difluoroethanesulfonic acid;N,N-diethylethanamine
• CAS: 1134641-67-0
• 化学式: C₆H₁₅N*C₁₃H₁₈F₂O₅S
• 分子量: 425.538
• InChiKey: GWNOMIHBJSJJFX-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.81
• 重原子数：
  28
• 可旋转键数：
  7
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.95
• 拓扑面积：
  96.3
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  7

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  triethylammonium 2-(1-adamantanecarbonyloxy)-1,1-difluoroethanesulfonate 在 copper diacetate 、 硫酸二甲酯 作用下， 以 甲醇 、 氯仿 、 水 、 氯苯 为溶剂， 反应 22.5h， 生成
  参考文献：
  名称：

  塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

  摘要：

  提供能够制造具有良好CD均一性（CDU）的光阻图案的盐和光阻组合物。这些盐和包含它们的光阻组合物由式（I）表示。【在方程式中，R1-7代表特定基团，m6和m7分别为1〜3的整数，X代表单键等，AI-代表有机阴离子。】【选择图】无

  公开号：

  JP2019182858A
• 作为产物：
  描述：

  1-金刚烷甲酸 在 氯化亚砜 作用下， 以 二氯甲烷 、 N,N-二甲基甲酰胺 、 乙腈 为溶剂， 反应 22.0h， 生成 triethylammonium 2-(1-adamantanecarbonyloxy)-1,1-difluoroethanesulfonate
  参考文献：
  名称：

  一种光致产酸剂中间体及光致产酸剂的制备方法

  摘要：

  本发明的目的在于提供一种光致产酸剂中间体的制备方法，包含如下酯化反应合成路线: 以及一种该中间体的光致产酸剂的制备方法。反应中使用有机碱作缚酸剂，反应完之后磺酸基团上发生交换反应，钠离子被交换成缚酸剂，生成一种有机盐，后处理时能较容易地通过水洗除去多余的Na离子，从而有利于产品中的金属离子的控制。

  公开号：

  CN115536557A

文献信息

• RESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, ACID GENERATOR, PHOTOREACTIVE QUENCHER, AND COMPOUND
  申请人：TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.

  公开号：US20160280679A1

  公开（公告）日：2016-09-29

  A resist composition which generates acid upon exposure and exhibits changed solubility in a developing solution under action of acid, and which includes a base component which exhibits changed solubility in a developing solution under action of acid and an acid-generator component including a compound (B0-1) represented by general formula (b0) shown below in which Ra 1 represents an aromatic ring; Ra 01 represents an alkyl group of 5 or more carbon atoms optionally having a substituent; Ra 02 and Ra 03 each independently represents an alkyl group of 1 to 10 carbon atoms optionally having a substituent; n1 represents an integer of 1 to 5; n2 represents an integer of 0 to 2; n3 represents an integer of 0 to 4; and X − represents a counteranion.

  一种抗蚀组合物，暴露后产生酸并在酸的作用下在显影溶液中表现出溶解度改变，包括在酸的作用下在显影溶液中表现出溶解度改变的碱性组分和包括一种化合物（B0-1）的酸发生组分，该化合物由下面所示的一般式（b0）表示，其中Ra1代表芳香环；Ra01代表具有5个或更多碳原子的烷基基团，可选地具有取代基；Ra02和Ra03各自独立地表示具有1至10个碳原子的烷基基团，可选地具有取代基；n1表示1至5的整数；n2表示0至2的整数；n3表示0至4的整数；X−表示一个反离子。
• PHOTOACID GENERATING COMPOUND AND PHOTORESIST COMPOSITION COMPRISING SAME, COATED ARTICLE COMPRISING THE PHOTORESIST AND METHOD OF MAKING AN ARTICLE
  申请人：Aqad Emad

  公开号：US20140120471A1

  公开（公告）日：2014-05-01

  A compound having the formula (I): wherein a is an integer of from 1 to 10, and x is an integer of from 1 to 3, X 1 comprises a fluoroalcohol, fluorinated ester, or fluorinated anhydride, Y is a single bond, C 1-20 alkylene group, O, S, NR, ester, carbonate, sulfonate, sulfone, or sulfonamide, wherein R is H or C 1-20 alkyl, and wherein the C 1-20 alkylene group is structurally only carbon, or one or more structural carbon atoms in the C 1-20 alkylene group is replaced by oxygen, carbonyl, ester, or a combination comprising at least one of the foregoing, Ar is a substituted or unsubstituted, C 5 or greater monocyclic, polycyclic, or fused polycyclic cycloalkyl; or a substituted or unsubstituted, C 5 or greater monocyclic, polycyclic, or fused polycyclic aryl group, wherein the cycloalkyl or aryl is a carbocycle or comprises a heteroatom comprising O, S, N, F, or a combination comprising at least one of the foregoing, each R 1 is independently a substituted C 5-40 aryl, substituted C 5-40 heteroaryl, C 1-40 alkyl, a C 3-40 cycloalkyl, wherein when x is 1, the two groups R 1 are separate or bonded to each other to form a C 4-40 ring structure, and Z − is a carboxylate, sulfate, sulfonate, sulfamate, or the anion of a sulfonimide, wherein when Y is a single bond, Z − is not sulfonate.

  化合物的化学式为（I）：其中a是1到10的整数，x是1到3的整数，X1包括氟醇，氟酯或氟酸酐，Y是单键，C1-20烷基，O，S，NR，酯，碳酸酯，磺酸盐，磺酮或磺酰胺，其中R为H或C1-20烷基，C1-20烷基仅由碳构成，或C1-20烷基中的一个或多个结构碳原子被氧，羰基，酯或至少包括其中一种的组合所取代，Ar是取代或未取代的C5或更大的单环，多环或融合多环环烷基；或取代或未取代的C5或更大的单环，多环或融合多环芳基，其中环烷基或芳基是碳环或包含O，S，N，F或至少包括其中一种的杂原子，每个R1独立地是取代的C5-40芳基，取代的C5-40杂芳基，C1-40烷基，C3-40环烷基，当x为1时，两个R1基团可以分离或结合形成C4-40环状结构，Z-是羧酸盐，硫酸盐，磺酸盐，磺酰胺或磺酰胺的阴离子，当Y为单键时，Z-不是磺酸盐。
• SALT, ACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：US20190315684A1

  公开（公告）日：2019-10-17

  Described are a salt and a resist composition capable of producing a resist pattern with satisfactory line edge roughness (LER). The salt is represented by formula (I): In formula (I), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and R 5 each independently represent a halogen atom or a perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms, R 6 , R 7 and R 8 each independently represent a halogen atom, a hydroxy group, a fluorinated alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and —CH 2 — included in the alkyl group may be replaced by —O— or —CO—, m5 represents an integer of 1 to 5, m6 represents an integer of 0 to 3, m7 represents an integer of 0 to 3, m8 represents an integer of 0 to 4, and AI − represents an organic anion.

  描述了一种盐和抗蚀剂组合物，能够产生满意的线边粗糙度（LER）的抗蚀图案。该盐由公式（I）表示：在公式（I）中，R1、R2、R3、R4和R5各自独立地表示卤素原子或具有1至6个碳原子的全氟烷基，R6、R7和R8各自独立地表示卤素原子、羟基、具有1至6个碳原子的氟化烷基或具有1至12个碳原子的烷基，并且包含在烷基中的—CH2—可以被—O—或—CO—所取代，m5表示1至5的整数，m6表示0至3的整数，m7表示0至3的整数，m8表示0至4的整数，AI-表示有机阴离子。
• Active-light-sensitive or radiation-sensitive resin composition, active-light-sensitive or radiation-sensitive film and pattern forming method, each using composition, and method for manufacturing electronic device
  申请人：FUJIFILM Corporation

  公开号：US10261417B2

  公开（公告）日：2019-04-16

  An active-light-sensitive or radiation-sensitive resin composition includes a resin (A) and a photoacid generator (B) capable of generating an acid upon irradiation with active light or radiation, in which the active-light-sensitive or radiation-sensitive resin composition contains at least a photoacid generator (B1) represented by the following General Formula (1) and a photoacid generator (B2) other than the photoacid generator (B1) as the photoacid generator (B).

  一种活性光敏或辐射敏感的树脂组合物，包括树脂（A）和光酸发生剂（B），该光酸发生剂（B）能够在活性光或辐射照射下生成酸，其中该活性光敏或辐射敏感的树脂组合物至少包含由下式（1）表示的光酸发生剂（B1）和除光酸发生剂（B1）之外的另一种光酸发生剂（B2）作为光酸发生剂（B）。
• 2-(Alkylcarbonyloxy)-1, 1-Difluoroethanesulfonic Acid Salt and Method for Producing the Same
  申请人：Central Glass Company, Limited

  公开号：US20130317250A1

  公开（公告）日：2013-11-28

  By using an organic base when a carboxylic acid bromodifluoroethyl ester is sulfinated by using a sulfinating agent, there is obtained 2-(alkylcarbonyloxy)-1,1-difluoroethanesulfinic acid ammonium salt. By oxidizing the 2-(alkylcarbonyloxy)-1,1-difluoroethanesulfinic acid ammonium salt, there is obtained 2-(alkylcarbonyloxy)-1,1-difluoroethanesulfonic acid ammonium salt. By using the 2-(alkylcarbonyloxy)-1,1-difluoroethanesulfonic acid ammonium salt as a raw material and exchanging it into an onium salt directly or through saponification/esterification, there can be obtained a 2-alkylcarbonyloxy-1,1-difluoroethanesulfonic acid onium salt.

  在使用亚磺酰化试剂对羧酸溴二氟乙酯进行亚磺酰化反应时，使用有机碱，可以得到2-(烷基羰基氧基)-1,1-二氟乙烷亚磺酸铵盐。通过氧化2-(烷基羰基氧基)-1,1-二氟乙烷亚磺酸铵盐，可以得到2-(烷基羰基氧基)-1,1-二氟乙烷磺酸铵盐。通过直接将2-(烷基羰基氧基)-1,1-二氟乙烷磺酸铵盐或通过皂化/酯化交换成离子盐，可以得到2-烷基羰基氧基-1,1-二氟乙烷磺酸离子盐。