1-(2,3,4-trihydroxy-phenyl)-octan-1-one | 43043-28-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: 1-(2,3,4-trihydroxy-phenyl)-octan-1-one
• 英文别名: 1-(2,3,4-Trihydroxy-phenyl)-octan-1-on；4-Octanoylpyrogallol；1-(2,3,4-trihydroxyphenyl)octan-1-one
• CAS: 43043-28-3
• 化学式: C₁₄H₂₀O₄
• 分子量: 252.31
• InChiKey: CQIWMTUOPTZFBA-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.1
• 重原子数：
  18
• 可旋转键数：
  7
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.5
• 拓扑面积：
  77.8
• 氢给体数：
  3
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1-(2,3,4-trihydroxy-phenyl)-octan-1-one 在 sodium tetrahydroborate 、 sodium hydroxide 、 盐酸 作用下， 以 水 为溶剂， 反应 3.0h， 生成 4-Octyl-pyrogallol
  参考文献：
  名称：

  邻苯二酚和邻苯二酚衍生物作为幽门螺杆菌脲酶抑制剂的合成，结构和活性评价

  摘要：

  合成了一些邻苯三酚和邻苯二酚衍生物，并使用众所周知的幽门螺杆菌脲酶抑制剂乙酰氧肟酸（AHA）作为阳性对照，评估了它们对脲酶的抑制活性。测定结果表明许多化合物已显示出对幽门螺杆菌脲酶的潜在抑制活性。已发现4-（4-羟基苯乙基）phen-1,2-二醇（2a）是最有效的脲酶抑制剂，提取分数的IC 50值为1.5±0.2μM，完整细胞的IC 50值为4.2±0.3μM，至少10分别比AHA低2倍和20倍（IC 50为17.2±0.9μM，100.6±13μM）。这一发现表明2a潜在的脲酶抑制剂将值得进一步研究。为了理解所观察到的良好活性，进行了2a到幽门螺杆菌脲酶活性位点的分子对接。

  DOI：

  10.1016/j.ejmech.2010.08.015
• 作为产物：
  描述：

  辛酸 、 邻苯三酚 在 三氟化硼乙醚 作用下， 反应 3.0h， 生成 1-(2,3,4-trihydroxy-phenyl)-octan-1-one
  参考文献：
  名称：

  邻苯二酚和邻苯二酚衍生物作为幽门螺杆菌脲酶抑制剂的合成，结构和活性评价

  摘要：

  合成了一些邻苯三酚和邻苯二酚衍生物，并使用众所周知的幽门螺杆菌脲酶抑制剂乙酰氧肟酸（AHA）作为阳性对照，评估了它们对脲酶的抑制活性。测定结果表明许多化合物已显示出对幽门螺杆菌脲酶的潜在抑制活性。已发现4-（4-羟基苯乙基）phen-1,2-二醇（2a）是最有效的脲酶抑制剂，提取分数的IC 50值为1.5±0.2μM，完整细胞的IC 50值为4.2±0.3μM，至少10分别比AHA低2倍和20倍（IC 50为17.2±0.9μM，100.6±13μM）。这一发现表明2a潜在的脲酶抑制剂将值得进一步研究。为了理解所观察到的良好活性，进行了2a到幽门螺杆菌脲酶活性位点的分子对接。

  DOI：

  10.1016/j.ejmech.2010.08.015

文献信息

• Studies of collectors. Part 12. The flotation of gallium ion with polyphenol-type surfactants
  作者：Yoshifumi Koide、Katsuhiro Sakurai、Hideto Shosenji、Kimiho Yamada

  DOI：10.1039/dt9900000641

  日期：——

  Polyphenol-type surfactants bearing 1,2-benzenediol or 1,2,3-trihydroxybenzene units were prepared and applied as flotation collectors for Ga3+. The surfactants exhibited a lowering of surface tension at pH 11 (32–47 dyn cm–1. Gallium(III) was highly floated (80–90%) at pH 3–8 with equimolar Cn– 1H2n– 1C(O)C6H3(OH)2(n= 8 or 12) or C7H15C(O)C6H2(OH)3, but not as highly (60%) with C12H25S[CH2CHC(O)C6H3(OH)2]4

  制备了带有1,2-苯二醇或1,2,3-三羟基苯单元的多酚型表面活性剂，并将其用作Ga 3+的浮选捕收剂。表面活性剂在pH 11（32–47 dyn cm –1）时表面张力降低。在等摩尔C n – 1 H 2 n – 1 C下，镓（III）在pH 3–8时高度漂浮（80–90％）。（O）C 6 H 3（OH）2（n = 8或12）或C 7 H 15 C（O）C 6 H 2（OH）3，但与C 12 H 25 S相比不那么高（60％）[CH2 CHC（O）C 6 H ^ 3（OH） 2 ] 4.8（CH 2 CHCO 2 2H） 9.5 H.镓的可浮3+在1mol分米-3的NaOH分别为86-99％，在那些3摩尔分米-通过使用六倍摩尔过量的C n – 1 H 2 n – 1 C（O）C 6 H 3（OH）， 3 NaOH的含量为63–67％，在5 mol dm –3 NaOH中的含量为26–39％。）
• Negativ arbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch und damit hergestelltes strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial
  申请人：HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT

  公开号：EP0510446A1

  公开（公告）日：1992-10-28

  Die Erfindung betrifft ein negativ arbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch mit a) einer Verbindung, die unter Einwirkung von aktinischer Strahlung eine starke Säure bildet, b) einer Verbindung mit mindestens zwei durch Säure vernetzbaren Gruppen und c) einem in Wasser unlöslichen, in wäßrig-alkalischen Lösungen löslichen oder zumindest quellbaren polymeren Bindemittel, das dadurch gekennzeichnet ist, daß die Verbindung (a) ein mit 2, 3 oder 4 Sulfonsäuren der allgemeinen Formel R-SO₃H verestertes Di-, Tri- bzw. Tetrahydroxybenzol, das ggf. noch mit einem Rest R' substituiert ist, darstellt, wobei R und R' gleiche oder verschiedene Bedeutung haben und R einen ggf. weiter substituierten (C₁-C₁₀)Alkyl-, (C₅-C₁₀)Cycloalkyl-, (C₆-C₁₀)Aryl-, (C₆-C₁₀)Aryl-(C₁-C₁₀)alkyl- oder (C₃-C₉)Heteroarylrest und R' einen der für R genannten Reste, einen (C₁-C₁₀)Alkanoyl-, (C₁-C₁₆)Alkoxycarbonyl- oder einen (C₇-C₁₁)Aroylrest bezeichnet. Das erfindungsgemäße, strahlungsempfindliche Gemisch zeichnet sich durch eine hohe Auflösung und eine hohe Empfindlichkeit über einem weiten Spektralbereich aus. Es zeigt ebenso eine hohe thermische Stabilität und bildet bei Belichtung keine korrodierenden Photolyseprodukte. Die Erfindung betrifft weiterhin ein daraus hergestelltes, strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial, das zur Herstellung von Photoresists, elektronischen Bauteilen, Druckplatten oder zum Formteilätzen geeignet ist.

  本发明涉及一种消极工作的辐射敏感混合物，其中含有 a) 一种化合物，该化合物在受到辐照时会形成一种强酸、 b) 具有至少两个可交联酸性基团的化合物，以及 c) 不溶于水、可溶于或至少可溶于碱性水溶液的聚合物粘合剂、 其特征在于，化合物 (a) 是二羟基、三羟基或四羟基苯与通式为 R-SO₃H的 2、3 或 4 个磺酸酯化而成，可任选地被自由基 R'进一步取代，其中 R 和 R'具有相同或不同的含义，R 是任选被进一步取代的（C₃H）自由基。表示被进一步取代的(C₁-C₁₀)烷基、(C₅-C₁₀)环烷基、(C₆-C₁₀)芳基、(C₆-C₁₀)芳基-(C₁-C₁₀)烷基或(C₃-C₉)杂芳基，且 R' 是上述 R 的基团之一、表示(C₁-C₁₀)烷酰基、(C₁-C₁₆)烷氧羰基或(C₇-C₁₁)酰基。 本发明的辐射敏感混合物在宽光谱范围内具有高分辨率和高灵敏度的特点。它还具有高热稳定性，在光照下不会形成腐蚀性光解产物。本发明还涉及用其生产的辐射敏感记录材料，该材料适用于生产光刻胶、电子元件、印刷板或用于模制件蚀刻。
• 215. Some derivatives of catechol and pyrogallol. Part I
  作者：Robert D. Haworth、David Woodcock

  DOI：10.1039/jr9460000999

  日期：——
• ——
  作者：KELLY M.、 MAMMATO D. C.、 DURHAM D.、 JAIN S.、 CRANE L.

  DOI：——

  日期：——
• Lichtempfindliches Gemisch und lichtempfindliches, positiv arbeitendes Kopiermaterial
  申请人：HOECHST CELANESE CORPORATION

  公开号：EP0193166B1

  公开（公告）日：1991-05-08